大气式等离子体清洁设备制造技术

技术编号:785683 阅读:226 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种大气式等离子体清洁设备,其中包括:一等离子体产生模块,其于预定的参数设定下产生等离子体区域,其中该参数包括:环境压力为常压;一气体供应模块,其连通于该等离子体产生模块,以提供气体给该等离子体产生模块使用;一输送模块,其设置于该等离子体产生模块下方,用以承载至少一待清洁物至该等离子体产生模块所产生的等离子体区域,以进行该待清洁物的清洁,其中该待清洁物在经过该等离子体区域时的表面温度为50~80摄氏度;一控制模块,其至少电性连接于该等离子体产生模块、该气体供应模块及该输送模块;以及一电源供应模块,其至少电性连接于该等离子体产生模块、该输送模块及该控制模块,以提供电力来源。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种大气式等离子体清洁设备,其中包括:一等离子体产生模块,其于预定的参数设定下产生等离子体区域,其中该参数包括:环境压力为常压;一气体供应模块,其连通于该等离子体产生模块,以提供气体该等离子体产生模块使用;一输送模块 ,其设置于该等离子体产生模块下方,用以承载至少一待清洁物至该等离子体产生模块所产生的等离子体区域,以进行该待清洁物的清洁,其中该待清洁物在经过该等离子体区域时的表面温度为50~80度;一控制模块,其至少电性连接于该等离子体产生模块、 该气体供应模块及该输送模块;以及一电源供应模块,其至少电性连接于该等离子体产生模块、该输...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:费耀祺
申请(专利权)人:昶驎科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]

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