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用于部件的等离子体清理的方法技术

技术编号:785595 阅读:164 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
按照现有技术裂纹很难净化并经常导致所要净化的部件的其他区域损坏。在按照本发明专利技术的方法中使用一种等离子体净化方法,在该方法中改变压强(p)和/或电极(10)与部件(1)之间的距离(d),以实现在裂纹(4)内等离子体净化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种按权利要求1所述的用于等离子体净化部件的方法。
技术介绍
为了应用或者在不同方法的中间步骤中经常必须清理部件表面上的污物。这些污物可能是灰尘颗粒、油或者油脂膜或者也可能是部件表面上的腐蚀产物。作为现有技术已公知一些清洗或者干冰喷射的简单方法。但如果需要净化凹处或者裂纹,则必须使用高成本的方法。这例如是通过氟化物离子净化(FIC)、氢气退火或者盐浴净化实现。在这些意味着明显增加设备成本的过程中,也局部明显地损害了不应净化的表面。直接在蒸汽分离之前在公知的PVD或者CVD涂层方法中部件的离子体辅助真空浸蚀工序是已知的。这种表面处理的基本原理是将附着的污物和所要去除材料的上方原子层通过惰性气体离子轰击来雾化或者溅射成原子数量级的颗粒。非常精细的已雾化的污物似乎转入气相并可以吸出。这种等离子体可以通过适当的电极装置与高压高频发生器的连接获得。但这些方法只能用于净化平面的表面。EP 0 313 855 A2公开了一种用于产生气体等离子体的方法,其中将电压控制在一确定值上。EP 0 740 989 A2公开了一种用于净化硫化模的方法,其中产生等离子体流。
技术实现思路
本专利技本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种用于等离子体净化部件(1)的方法,其中,将部件(1)安置在具有用于产生等离子体(7)的电极(10)的腔室(13)内,以及遵守等离子体的确定参数(p、d)以保持存在等离子体(7),其中,至少一个参数(p、d)是可改变的,其特征在于,对从部件(1)的表面(22)出发的裂纹(4)进行净化,其中,或者.在所述腔室(13)内保持恒定的压强(p)以及根据裂纹(4)的裂纹深度(t)改变所述电极(10)与所述表面(22)的距离(d),或者.使用于产生等离子体(7)的电极( 10)与所述部件(1)表面(22)的距离(d)保持恒定以及改变所述腔室(13)内的压强(p),或者.既改...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:厄休斯克鲁格拉尔夫里奇简斯坦巴赫
申请(专利权)人:西门子公司
类型:发明
国别省市:DE[德国]

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