等离子清洁设备及其整合系统技术方案

本发明专利技术公开了一种具排除有机及氧化污染且能够有效散热、清除废气功能的等离子清洁设备，其包括：电极部、放热部、原料气体导入部、原料气体供给导引部、及吸排气部。该放热部具有接触于该电极部一侧的突出块放热板以及一与该突出块放热板配合的放热墙，通过该放热部与该电极部的接触，以进行该电极部的散热。而且，该吸排气部上端具有与外部相通的第一气体通路，该吸排气部下端具有与外部相通的第二气体通路，通过该第一气体通路与该第二气体通路的配合，以产生用于散热的排气功能、用于排除废气的吸气功能或兼具上述两者的功能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种能够清除有机物及氧化物污染的等离子清洁设备及其整合系统。
技术介绍
在一般的产品制造过程中，不管任何种类的制造工艺流程，所有材料的表面清洁程度往往会影响到诸如材料的真空蒸镀、涂布与接合等后续工序，而且对不同材料间的粘着力及紧密结合力会有很大的影响。因此，材料表面的清洁是非常重要的工序，从前用过的表面清洁方法是使用化学药品来清洁材料的表面。但是这些方法所使用的化学药品，会产生环境污染等问题，所以被限制使用。因此，为了解决上述问题，目前已开发研究出许多新的表面清洁方法，在这些新的表面清洁方法之中，有一种叫做低温低压状态的等离子(Plasma)的方法，其使用低压等离子的清洁方法在低压形成的真空室(vacuumchamber)内进行清洁，其工作方法如下对原料气体提供一定的外加能量使原料气体处于等离子状态并产生气体离子，这些活性化的气体会接触材料表面并与之发生作用，因此存在于材料表面上的不纯物或污染物质都会被清除掉。虽然低压状态的等离子表面清洁方法具有相当好的清洁效果，但是使用并不普遍。因为为了要产生等离子，需要配合使用真空装置，因此在大气压的环境中，将无法形成这种等离子。再者，常压等离子的使用方法也有很多，其中以应用在臭氧发热仪器上的无声放电方式最为普遍，使用的时间也最长。无声放电原理众所周知，其在常压下将金属电极的一边或两边利用绝缘体切断，在金属电极上施加高电压交流或脉冲(pulse)之后，在两电极之间的空间上，会发生高电压的放电，以产生所需的等离子。为了将利用上述相同的原理所产生的等离子使用在清洁方面，把待清洁物放在两电极之间的空间的适合位置进行清洁，但此种方式的限制是只有很薄的待清洁物才可以被清洁。其原因为待清洁物若不是絶缘体而是导电的金属或半导体的话，根据高电压的具体情况会影响损害待清洁物，所以利用此种清洁方式的领域相当有限。而且，因为当将等离子排出到外面的材料上进行清洗时，因为常压的等离子所具有的特性，等离子会导致臭氧(ozone)等对人体有害的物质的产生，因而会影响到工作人员的安全。还有在等离子产生设备与材料之间距离很近的时候，可能会发生材料与电极之间的电弧作用(arcing)问题，这种电弧作用将会损坏材料。而且，因为等离子产生设备的所使用的电压是高电压，所以存在使用者万一操作不当而导致触电会对使用者造成危害的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种具有清除有机物及氧化物污染且能够有效散热、清除废气功能的等离子清洁设备及其整合系统，其可以利用吸排气部将等离子清洁过程中所产生的有害物质及微小粒子予以清除。本专利技术的另一个目的是利用放热部以进行电极部的散热，以及利用吸排气部以进行待清洁物及电极部的散热及废气排放。本专利技术的再一个目的是将多颗陶瓷球放置在原料气体临时贮存部，以使原料气体混合更为均匀，使所产生的等离子的浓度效果更佳。为了实现上述目的，根据本专利技术的其中一种方案，其提供了一种具有排除有机物及氧化物污染且能够有效散热、清除废气功能的等离子清洁设备，其包括电极部、放热部、原料气体导入部、原料气体供给导引部、及吸排气部。其中，该电极部具有多个以一预定距离间隔并排的电极；该放热部具有接触于该电极部一侧的突出块放热板以及一与该突出块放热板配合的放热墙；该原料气体导入部形成于该放热部一侧，并与该突出块放热板和该放热墙之间所形成的通道的一端相通，用于导引原料气体经过该放热部；该原料气体供给导引部与该突出块放热板和该放热墙之间所形成的通道的另一端相通，用于接收经过该放热部的原料气体；以及，该吸排气部设置于与该原料气体导入部分离的空间上，并且该吸排气部上端具有与外部相通的第一气体通路，该吸排气部下端具有与外部相通的第二气体通路。根据本专利技术的技术构思，该等离子清洁设备进一步包括连通于该电极部与该原料气体供给导引部的原料气体临时贮存部。根据本专利技术的技术构思，该原料气体临时贮存部的内部装有多颗陶瓷球。根据本专利技术的技术构思，该第一气体通路吸入冷却气体，再由该第二气体通路排出，而形成排气功能；或者该第二气体通路吸入气体，再由该第一气体通路排出，而形成吸气功能。根据本专利技术的技术构思，该排气功能与该吸气功能同时或分开在同一电浆清洁设备上进行。根据本专利技术的技术构思，该第二气体通路的出风口方向与地面呈垂直状态。根据本专利技术的技术构思，该第二气体通路的出风口方向与地面呈倾斜状态。根据本专利技术的技术构思，该突出块放热板具有多个放热块。为了实现本专利技术的上述目的，根据本专利技术的其中一种方案，本专利技术还提供了一种具有清除有机物及氧化物污染且能够有效散热、排除废气功能的等离子清洁设备的整合系统，其包括多个彼此间隔一预定距离排列的等离子清洁设备。通过所述等离子清洁设备的组合，以产生使用者所需要的不同功效。即，等离子清洁设备的吸排气部可以产生吸气功能或排气功能、或两者的组合。具体来说，该等离子清洁设备的整合系统，包括多个彼此间隔一预定距离排列的等离子清洁设备，其中每一个等离子清洁设备包括电极部，其具有多个以一预定距离间隔并排的电极；放热部，其具有接触于该电极部一侧的突出块放热板以及一与该突出块放热板配合的放热墙；原料气体导入部，其形成于该放热部一侧，并与该突出块放热板和该放热墙之间所形成的通道的一端相通，以导引原料气体经过该放热部的放热块；原料气体供给导引部，其与该突出块放热板和该放热墙之间所形成的通道的另一端相通，以接收经过该放热部的原料气体；以及吸排气部，其设置于与该原料气体导入部分离的空间上，并且该吸排气部上端具有与外部相通的第一气体通路，该吸排气部下端具有与外部相通的第二气体通路。根据本专利技术的技术构思，所有的所述第一气体通路接收冷却气体，并配合相对应的所述第二气体通路将冷却气体排出，以产生冷却经过等离子处理后的待清洁物及电极部的排气功能。根据本专利技术的技术构思，所有的所述第二气体通路吸入等离子处理过程中所产生的废气，并配合相对应的所述第一气体通路将废气排出，以产生吸除废气的吸气功能。根据本专利技术的技术构思，最外围的所述第一气体通路接收冷却气体，并配合与所述最外围的第一气体通路相对应的所述第二气体通路将冷却气体排出，以产生冷却经过等离子处理后的待清洁物及电极部的排气功能；其它的所述第二气体通路则吸入等离子处理过程中所产生的废气，并配合其它相对应的所述第一气体通路将废气排出，以产生吸除废气的吸气功能。根据本专利技术的技术构思，最外围的所述第二气体通路吸入等离子处理过程中所产生的废气，并配合与所述最外围的所述第二气体通路相对应的所述第一气体将废气排出，以产生吸除废气的吸气功能；其它的所述第一气体通路则接收冷却气体，并配合其它相对应的所述第二气体通路将冷却气体排出，以产生冷却经过等离子处理后的待清洁物及电极部的排气功能。根据本专利技术的技术构思，在每一个该等离子清洁设备中，一个所述第一气体通路接收冷却气体，并配合与该第一气体通路相对应的一个所述第二气体通路将冷却气体排出，以产生冷却经过等离子处理后的待清洁物及电极部的排气功能；另外，在每一个等离子清洁设备中，另一个所述第二气体通路吸入等离子处理过程中所产生的废气，并配合与该第二气体通路相对应的另一个第一气体通路将废气排出，以产生吸除废气的吸气功能。根据本专利技术的技术构思，在每两个等离子清洁本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子清洁设备，其特征在于，该等离子清洁设备包括：电极部，其具有多个以一预定距离间隔并排的电极；放热部，其具有接触于该电极部一侧的突出块放热板以及一与该突出块放热板配合的放热墙；原料气体导入部，其形成于该放热部一 侧，并与该突出块放热板和该放热墙之间所形成的通道的一端相通，以导引原料气体经过该放热部；原料气体供给导引部，其与该突出块放热板和该放热墙之间所形成的通道的另一端相通，以接收经过该放热部的原料气体；以及吸排气部，其设置在与该原 料气体导入部分离的空间上，并且该吸排气部上端具有与外部相通的第一气体通路，该吸排气部下端具有与外部相通的第二气体通路。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：全炳俊，朴钟成，
申请(专利权)人：昶驎科技股份有限公司，普罗尼克司股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]