基板清洗装置及基板清洗方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种基板清洗装置及基板清洗方法，能将进行机械切割或研磨处理等后附着在玻璃基板的端面等处的异物有效地除去。在将液体和气体供给到喷嘴、并通过上述喷嘴将混合了上述液体和上述气体的流体喷射到基板上来清洗上述基板的基板清洗装置中，具有对向喷嘴供给的液体进行加热而控制上述液体的温度的液体加热机构，将上述喷嘴入口处的上述液体的温度控制在４０～１００℃。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种基板清洗装置，将液体和气体供给到喷嘴，并通过所述喷嘴将混合了所述液体和所述气体的流体喷射到玻璃基板的端面上，从而清洗所述基板，其特征在于：具有对向喷嘴供给的液体进行加热而控制所述液体的温度的液体加热机构，将所述喷嘴入口处的所述液体的温度控制在４０～１００℃。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：萩原武弘，片冈辰雄，野田清治，中井隆文，
申请(专利权)人：岛田理化工业株式会社，三菱电机株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]