【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及LED领域中的刻蚀技术，特别是指一种刻蚀系统。
技术介绍
LED领域中PSS (图形化衬底)干法刻蚀，目前采用的是高密度等离子体ICP刻蚀系统，如图1、图2和图3所示，图1为目前的高密度等离子体ICP刻蚀系统剖视图，图2为图1所示系统的俯视图，图3为图1所示的系统的磁场磁力线示意图，其中，该刻蚀系统包括腔体10，腔体10中有电浆18，腔体10的上方设置有石英盘11，石英盘11上方设置有上部电极14，上部电极14上方为永久磁体13以及接触器12，其中，该永久磁体13以固定方式设置于石英盘11上方，该系统还包括设置于腔体下方的下部电极16，以及与上部电极 14相连的上部射频输出线圈15和下部电极16相连的下部射频输出线圈17，该腔体中的电浆18在上部电极14和下部电极16形成的电场以及永久磁体13产生的磁场的作用下，实现对图形化衬底的刻蚀；如可进行蓝宝石衬底图形化刻蚀、Si衬底刻蚀以及GaN基外延层刻蚀等应用。其中，为了减轻上部电极14的反应而生成的聚合物的沉积，上述系统是通过安装在石英盘11和上部射频输出线圈15之间的永久磁体13产生的磁力线而提升...
【技术保护点】
１．一种刻蚀系统，包括：用于容置电浆的腔体；设置于所述腔体上方的石英盘；设置于所述石英盘上方的多个永久磁体；其特征在于，还包括：旋转机构，所述旋转机构带动所述多个永久磁体旋转，所述多个永久磁体产生的磁场随所述多个永久磁体的旋转而旋转，所述电浆处于所述磁场中。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：马擎天，池玟霆，李明亮，
申请(专利权)人：协鑫光电科技张家港有限公司，
类型：发明
国别省市：32
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