具备多层载物能力的离子束刻蚀系统及其刻蚀方法技术方案

本发明专利技术涉及微细加工技术领域，尤其是具备多层载物能力的离子束刻蚀系统及其刻蚀方法，其特征在于：所述系统包括若干载物台和旋转轴，所述载物台沿所述旋转轴的轴向间隔设置在所述旋转轴上，所述载物台可随所述旋转轴转动，所述载物台上开设有离子束窗口，所述离子束窗口的开设位置与所述离子源所发射的离子束构成位置对应，满足于所述离子源所产生的离子束可穿过的要求。本发明专利技术的优点是：提高了离子束刻蚀系统单次开机所能刻蚀的基片总数量，降低了批量作业时离子束刻蚀系统的开停机次数，提高了离子束刻蚀系统利用率，减少了工时，满足刻蚀工作需要。

【技术实现步骤摘要】
具备多层载物能力的离子束刻蚀系统及其刻蚀方法
本专利技术涉及微细加工
，尤其是具备多层载物能力的离子束刻蚀系统及其刻蚀方法。
技术介绍
离子束刻蚀技术是一种在真空条件下利用离子束对样品进行微细加工的技术，主要包括硬件和软件两部分，硬件部分是离子束刻蚀装置的设计和制造，软件部分是指对已有设备的刻蚀情况进行研究，得到更好的刻蚀结果。现有离子束刻蚀系统的载物台均为单层载物台设计，具单层载物台的离子束刻蚀系统单机生产能力不足，批量作业时刻蚀系统开停机频繁、刻蚀系统时间稼动率低下，生产工时长，由此造成离子束刻蚀系统利用率及产能低下，提高了生产成本。
技术实现思路
本专利技术的目的是根据上述现有技术的不足，提供了具备多层载物能力的离子束刻蚀系统及其刻蚀方法，通过可旋转的多层载物台带动基片来对准离子束依次进行刻蚀，提高刻蚀系统时间稼动率、产能，缩短生产工时，降低了生产成本。本专利技术目的实现由以下技术方案完成：一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统，包括离子源和载物台，所述离子源对承载于所述载物台上的基片进行刻蚀，其特征在于：所述系统包括若干载物台和旋转轴，所述载物台沿所述旋转轴的轴向间隔设置在所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统，包括离子源和载物台，所述离子源对承载于所述载物台上的基片进行刻蚀，其特征在于：所述系统包括若干载物台和旋转轴，所述载物台沿所述旋转轴的轴向间隔设置在所述旋转轴上，所述载物台可随所述旋转轴转动，所述载物台上开设有离子束窗口，所述离子束窗口的开设位置与所述离子源所发射的离子束构成位置对应，满足于所述离子源所产生的离子束可穿过的要求。

【技术特征摘要】
1.一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统，包括离子源和载物台，所述离子源对承载于所述载物台上的基片进行刻蚀，其特征在于：所述系统包括若干载物台和旋转轴，所述载物台沿所述旋转轴的轴向间隔设置在所述旋转轴上，所述载物台可随所述旋转轴转动，所述载物台上开设有离子束窗口，所述离子束窗口的开设位置与所述离子源所发射的离子束构成位置对应，满足于所述离子源所产生的离子束可穿过的要求。2.根据权利要求1所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统，其特征在于：所述载物台上方设置有修正板，所述修正板上开设有所述离子束窗口。3.根据权利要求1所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统，其特征在于：所述离子束窗口的轮廓形状、大小与所述基片的轮廓形状、大小吻合适配。4.根据权利要求1所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统，其特征在于：位于所述旋转轴轴向最底部的所述载物台为完整平台。5.根据权利要求1所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统，其特征在于：所述系统包括控制器，所述控制器根据所述载物台的层数信息连接控制所述离子源的工作状态。6.根据权利要求1所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统，其特征在于：若干所述载物台可随所述旋转轴同时旋转。7.一种涉及权利要求1-6任一项所述的具...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴秀海，余海春，龙汝磊，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31