The invention relates to a preparation method of a Fabri Perot filter, based on the ion beam perpendicular to the ion beam direction placed open triangular window baffle between emission window and processing of samples, the ion beam emitting direction of the top of the triangle coincides with the end of the sample, ion beam etching, the sample at a constant rate the back and forth movement, after a certain number of times can be obtained after etching, the thickness difference is perpendicular to the direction of movement of the sample, with a certain slope of the spacer wedge. The resulting wedge spacer is rotated 90 degrees clockwise, repeating the experimental steps, etching again on the basis of the wedge layer, and obtaining an intermediate cavity layer whose thickness varies continuously in the two-dimensional direction. The intermediate cavity layer produces linear thickness variations in both directions. The effect of linear gradual filtering in two-dimensional direction is realized, and the effective use area of the filter is improved, which is beneficial to reduce the space volume of the filter element as a micro spectrometer.
【技术实现步骤摘要】
法布里-珀罗滤光片的制备方法
本专利技术涉及一种滤光片的制备方法,特别涉及一种二维方向上中间腔层厚度连续变化的法布里-珀罗滤光片的制备方法。
技术介绍
线性渐变滤光片是一种在小型快速分光设备中广泛应用的光学薄膜器件,它作为一种光谱特性随滤光片表面位置变化的光学薄膜器件,具有体积小,重量轻,稳定性好等优点。在便携式快速分光,光谱仪线性度校正,光栅二级次光分离/截止等方面有很着很广泛的应用。它与传统的光栅棱镜等分光元件相比具有体积小、通道密度大、通道中心波长理论上可以任意设计等优点。现有的几种线性渐变滤光片的设计方法由于其固有缺点限制了线性渐变滤光片的广泛应用,提出新的设计方法具有重要意义。法布里-珀罗干涉原理:实质为多光束干涉,在中间谐振腔层两侧镀制上下高反射膜系,使得入射光在腔内发生多次反射和入射,并且入射波和反射波会发生干涉,从而形成多光束的干涉。离子束蚀刻的原理:是由离子源系统利用气体被激发达到一定的电离度而处于导电状态,这种状态的电离气体是由大量接近于自由运动的电子、离子和中性粒子所组成的体系,在整体上是准中性,称之为等离子体,等离子体经栅网加速并被引出成束,成为离子束流,离子定向运动达到被刻蚀材料表面与材料原子发生碰撞,将表面原子溅射出来或者与材料表面原子发生化学反应生成挥发性气体,达到去除材料的目的。基于法布里-珀罗结构的滤光片是一种应用广泛、结构简单的透射滤光片,通过改变该滤光片的中间谐振腔层的厚度来实现滤光片的分光功能,实际是具有一定谐振腔厚度范围的F-P干涉滤光片,不同厚度对应着不同的峰值透射波长。
技术实现思路
本专利技术是针对现有的几种线性 ...
【技术保护点】
一种法布里‑珀罗滤光片的制备方法,其特征在于,具体包括如下步骤:1)在K9玻璃基片上通过磁控溅射镀膜方式获得下层高反射膜系以及等厚均匀的中间腔层;2)对中间腔层材料的刻蚀速率进行标定,计算出该材料在离子束刻蚀下的刻蚀速率;3)定制离子束无法穿透的陶瓷挡板,且该挡板中间开有三角形窗口;将步骤1)的样品和挡板平行放置,中间腔层面对离子源,挡板位于离子源和样品之间,且三角形顶点与样品顶部等高对齐,离子束经三角形窗口垂直入射到样品上,样品在样品台的带动下在水平方向来回匀速运动,刻蚀出具有所需斜率的楔形中间腔层;4)再将样品顺时针旋转90度,重复步骤3)所述刻蚀,在楔形中间腔层上进行二次刻蚀,最终得到二维方向上厚度连续变化的中间腔层;5)在所制得二维方向上厚度连续变化的中间腔层表面上镀制等厚的上层高反射膜系,完成整个滤光片的制备。
【技术特征摘要】
1.一种法布里-珀罗滤光片的制备方法,其特征在于,具体包括如下步骤:1)在K9玻璃基片上通过磁控溅射镀膜方式获得下层高反射膜系以及等厚均匀的中间腔层;2)对中间腔层材料的刻蚀速率进行标定,计算出该材料在离子束刻蚀下的刻蚀速率;3)定制离子束无法穿透的陶瓷挡板,且该挡板中间开有三角形窗口;将步骤1)的样品和挡板平行放置,中间腔层面对离子源,挡板位于离子源和样品之间,且三角形顶点与样品顶部等高对齐,离子束经三角形窗口垂直入射到样品上,样品在样品台的带动下在水平方向来回匀速运动,刻蚀出...
【专利技术属性】
技术研发人员:盛斌,罗露雯,陈国华,黄元申,
申请(专利权)人:上海理工大学,
类型:发明
国别省市:上海,31
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