一种高光学性能指标的膜系结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种高光学性能指标的膜系结构，所述膜系结构包括基底以及沉积在基底上的膜层，整个膜层的组成为非规整膜系，每层厚度不要求相同，最薄层不能低于130nm的厚度；膜层中的奇数单层为高折射率材料，折射率为2.1-2.2，偶数单层为低折射率材料，折射率为1.46；该膜系结构首先达到在工作波段满足产品性能要求，同时在监控波段又可以透过，以满足实际生产中的监控需求，很好的解决了高难度产品的生产工艺。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光学器件及镀膜，特别是一种高光学性能指标的膜系结构，通过膜系的精巧设计，提高光学监控的精度，以实现高难度的光学滤光片产品制备。
技术介绍
光学薄膜是指在光学元件上或独立的基片材料上镀一层或多层非金属材料或金属材料，或非金属材料与金属材料组合而成的膜堆来改变光波的传递特性，其基本原理是光学的干涉效应。光学薄膜虽然早于1817年已经出现，但真正的发展是在1930年代真空蒸镀设备出现以后，近年来随着光电行业的快速发展，光学薄膜已经被充分应用于各种光电系统及光学仪器中。光学薄膜的制备方法多种多样，常用的就是物理气相沉积方法，其中离子束辅助+电子束蒸发是最常见的一种。在该系统中，光学薄膜的厚度监控是通过光学系统控制+石英晶体震荡来实现的。其原理是通过特定的光学系统控制薄膜的光学厚度，辅以晶振来控制材料的蒸发速率，来实现预设的光学薄膜的制备。而定值法又是光学控制系统中比较有代表性的方法，该方法敏感性强，精度高，适合非规整多层膜系制备。但前提就是监控波长要位于所制备的光学薄膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高光学性能指标的膜系结构，其特征在于，所述膜系结构包括基底以及沉积在基底上的膜层，整个膜层的组成为非规整膜系，每层厚度不要求相同，最薄层不能低于130nm的厚度；膜层中的奇数单层为高折射率材料，折射率为2.1‑2.2，偶数单层为低折射率材料，折射率为1.46；所述膜系结构对波长为1295.56nm和1304.58nm的入射光，或1300.05nm和1309.14nm的入射光分光，当入射角为45度时，P偏振光在不同波段处的透射率分别为：1301.98～1307.18 <0.46db，或1306.54～1311.74nm<0.46db，1292.96～1298.16nm>10...

【技术特征摘要】
1.一种高光学性能指标的膜系结构，其特征在于，所述膜系结构包括基底以及沉积在
基底上的膜层，整个膜层的组成为非规整膜系，每层厚度不要求相同，最薄层不能低于
130nm的厚度；
膜层中的奇数单层为高折射率材料，折射率为2.1-2.2，偶数单层为低折射率材料，折
射率为1.46；
所述膜系结构对波长为1295.56nm和1304.58nm的入射光，或1300.05nm和1309.14nm的
入射光分光，当入射角为45度时，P偏振光在不同波段处的透射率分别为：1301.98～

【专利技术属性】
技术研发人员：王英剑，方汉铿，
申请(专利权)人：合波光电通信科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33