测试掩模制造技术

测试掩模，其用于光掩模的检查，该光掩模为了使在要被蚀刻加工的被加工层上的抗蚀膜成为作为所述蚀刻加工的掩模的抗蚀图形，被用来对所述抗蚀膜进行规定图形的曝光，而且，该测试掩模形成有测试图形，测试图形具有：使曝光光束透射的透射部、遮挡曝光光束的遮光部以及使曝光光束的一部分减低并透射的灰色调部，其中，所述测试图形包含：排列有基于一定的规律其图形形状逐次变化的多个单位图形的部分，所述多个单位图形分别具有所述灰色调部，所述各单位图形的所述灰色调部的面积，根据所述一定的规律而互不相同。

Test mask

A test mask, which is used to check the photo mask, the mask in order to make to be processed by etching resist film processing layer as a mask as the etching of the resist pattern, being used on the resist film of predetermined pattern of exposure, and the test. The mask forms a test pattern, the test pattern has the transmission part, the exposure beam transmission block and the exposure light shading part exposing part of the beam and reduce the transmission of the gray tone, among them, the test pattern includes: arrangement of certain rules based on the graphic shape of the successive changes of multiple units the graphic part of the plurality of graphics unit respectively with the gray tone, the various units of the Department of graphic gray area, according to the law of the certain differently.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于检查电子部件的制造中所使用的光掩模的性能的光掩模的 检查方法、包括基于该检查方法的检查工序的光掩模的制造方法、使用了由这种制造方法 得到的光掩模的电子部件制造方法、以及可应用于所述光掩模的检查方法的测试掩模及测 试掩模组。特别是，本专利技术涉及一种在以平板显示装置(FPD)为代表的显示装置制造用的光 掩模的制造中、尤其在液晶显示装置制造例如在薄膜晶体管(TFT)制造、滤色板(CF)制造 有用的光掩模的制造中所使用的检查方法等。
技术介绍
目前，关于光掩模的性能的检查，日本特开平5-M9646号公报(专利文献1)公开 了一种装置，其利用摄像元件(CCD)检测出作为检查对象的曝光用光掩模的透射照明光的 强度分布从而检查光掩模的缺陷。在该装置中，使检查光聚焦于形成有0.3μπι左右间距 的微观图形的光掩模并进行照射，使穿过该光掩模的检查光进行放大照射，就能用分辨率 7 μ m左右的CCD进行摄像。这种检查装置具有使摄像元件从焦点位置起偏移进行摄像的控 制装置。据称，这种装置具有在包括实际曝光时的焦点偏移的影响的状态下能够检查光掩 模并进行评价的效果。另外，日本特开平本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种测试掩模，其用于光掩模的检查，该光掩模为了使在要被蚀刻加工的被加工层上的抗蚀膜成为作为所述蚀刻加工的掩模的抗蚀图形，被用来对所述抗蚀膜进行规定图形的曝光，而且，该测试掩模形成有测试图形，该测试图形具有：使曝光光束透射的透射部、遮挡曝光光束的遮光部以及使曝光光束的一部分减低并透射的灰色调部，其中，所述测试图形包含：排列有基于一定的规律其图形形状逐次变化的多个单位图形的部分，所述多个单位图形分别具有所述灰色调部，所述各单位图形的所述灰色调部的面积，根据所述一定的规律而互不相同。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：中西胜彦，吉田光一郎，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP