表膜制造技术

本发明专利技术的目的是提供具有有机气体吸附性能优异的粘合剂的表膜（ｐｅｌｌｉｃｌｅ）。该表膜的特征在于，所述表膜具有表膜框、在该表膜框的一个端面具有表膜用膜，在另一个端面具有粘合剂，该粘合剂的甲苯重量溶胀度为５倍以上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在制造LSI (大规模集成电路)、VLSI (超大规模集成电路)等半导体 器件或者液晶显示板等时为了防止异物附着于掩模而使用的光刻用表膜(pellicle)。尤其 涉及用于需要高图像分辨率的、在曝光中使用了准分子激光的光刻用表膜。特别优选涉及 在200nm以下的紫外线曝光中使用的光刻用表膜。
技术介绍
在制造半导体的光刻(photo lithography)工序中，为了在晶片上形成与集成电 路相对应的光致抗蚀图案，使用步进器(stepper，缩小投影曝光装置)等半导体制造装置。 表膜是在具有框形状的表膜框的一个端面张架有透明薄膜的物质，其防止异物直接附着于 用于形成电路图案的掩模上。因此，即使在光刻工序中异物附着于表膜上，由于这些异物在 涂布有光致抗蚀剂的晶片上不会成像，因此，可以防止由于异物的像导致的半导体集成电 路的短路、断路等，可以提高光刻工序的制造成品率。近年来，随着半导体装置的高集成化，光刻工序中使用的曝光光线不断向短波长 化发展。即，在晶片上描绘集成电路图案时，需要能够以更窄的线宽度描绘微细的电路图案 的技术。为了应对该要求，例如，作为光刻用步进器的曝光光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表膜，其特征在于，所述表膜具有表膜框，在该表膜框的一个端面具有表膜用膜，在另一端面具有粘合剂，该粘合剂的甲苯重量溶胀度为５倍以上。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：矢野浩平，山下泰辉，
申请(专利权)人：旭化成电子材料株式会社，
类型：发明
国别省市：JP