The present invention relates to a dust-proof film assembly for photolithography and a method of manufacturing the same. The invention provides a pellicle, which can prevent the reduced exposure area even in dust film tension uneven distribution, can effectively prevent the occurrence of dust adhered to the film pellicle frame on the wrinkling problem. According to a method of manufacturing a pellicle of the invention, a surface of the pellicle frame 10 is pasted on the dust-proof film 20; pellicle frame 10 has a pair of long side and a short side 11 of 12; a long side of their 11 straight shape; a pair of shorter sides respectively have 12: Central 12a the central part of the short side, including, the relative lateral convex arc shape; the middle region of 12b, located in the central area on both sides, the relative lateral concave arc shape; near the end of the 12C District, in the vicinity of the two ends of the short side, a straight line.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及制造LSI、超LSI等半导体装置或液晶显示板时作为光掩膜或中间研 模(reticule)的防尘罩而使用的光刻用防尘薄膜组件(pellicle)及其制造方法。
技术介绍
制造LSI、超LSI等半导体器件或液晶显示器时，借光掩膜或中间掩模等曝光用原 版(在本说明书中统称为“光掩膜”。)往半导体晶圆或液晶用原板照射曝光用光，转印光 掩膜图案，以形成半导体器件或液晶显示器的图案。因此，若此时光掩膜上附着有赃物等异物，曝光用光就会被光掩膜表面上附着的 赃物等异物所反射或吸收，致使转印到半导体晶圆或液晶用原板上的图案变形，图案的边 缘部分变得不鲜明，不仅如此，基底也变乌黑，尺寸、质量及外观等受损。于是出现不能如所 期望的那样将光掩膜的图案转印到半导体晶圆或液晶用原板上，半导体器件或液晶显示器 的性能降低，成品率变差的问题。为防止所述问题，在清洁室内进行半导体晶圆或液晶用原板的曝光。然而即便如 此也难以完全防止光掩膜表面上附着异物，因此通常是在光掩膜表面安装防尘罩来对半导 体晶圆或液晶用原板曝光。该防尘罩称做防尘薄膜组件，对曝光用光具有高透过率。防尘薄膜组件一般...
【技术保护点】
１．一种光刻用防尘薄膜组件，其特征在于，包括防尘薄膜组件框架，该防尘薄膜组件框架至少具有一对长边和一对短边，所述一对长边各自实质上呈直线形状，所述一对短边各自呈中央部向外侧突出的形状；在该防尘薄膜组件框架的一个表面上粘贴有防尘薄膜，其张力被调整，使沿所述防尘薄膜组件框架的所述一对长边的方向的张力大于沿所述防尘薄膜组件框架的所述一对短边的方向的张力；所述防尘薄膜组件框架的所述一对短边实质上呈直线形状。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：关原一敏，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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