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测试掩模制造技术
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文档序号:6084496
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测试掩模,其用于光掩模的检查,该光掩模为了使在要被蚀刻加工的被加工层上的抗蚀膜成为作为所述蚀刻加工的掩模的抗蚀图形,被用来对所述抗蚀膜进行规定图形的曝光,而且,该测试掩模形成有测试图形,测试图形具有:使曝光光束透射的透射部、遮挡曝光光束的遮...
该专利属于HOYA株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过HOYA株式会社授权不得商用。
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