【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及。
技术介绍
公知有在使用曝光机在基板等上形成图案时，伴随基板的变形对描绘数据进行校 正的技术。例如，由于热处理或层叠在曝光对象的基板上产生变形时，有时根据基板变形进 行描绘数据的校正(参照日本特开平9-15834号公报)。在制造FPD (平板显示器)等显示装置时，进行这样的曝光工序，即，利用曝光机将 光掩模所具有的转印用图案转印至被转印体上。但是，在制造FPD等显示装置时使用的光 掩模是大型的，因此在设置到曝光机上时容易产生挠曲，有时会由于该挠曲而使转印用图 案失真地转印至被转印体上。此外，有时还由于曝光机具有的成像光学系统的误差等产生 上述失真。尤其是在使用接近方式的曝光机的情况下，由于曝光机具有的光学系统的误差、 设置光掩模时的固定方法或重力的影响而产生的光掩模的变形或挠曲的影响，有时在转印 后的图案上容易产生误差。为了提高形成在被转印体上的图案(以下还称作转印图案)的坐标精度，可以预 先在描绘数据中反映上述失真来形成校正描绘数据，利用该校正描绘数据在光掩模上描绘 转印用图案。这样，抵消由于使用该光掩模进行曝光时产生的光掩模的挠曲、曝光装置...
【技术保护点】
１．一种光掩模的制造方法，所述光掩模具有：透明基板、以及由形成在所述透明基板上并分别被构图后的多个薄膜构成的预定转印用图案，其特征在于，所述光掩模的制造方法包括：第１构图工序，对形成在所述透明基板上的第１薄膜实施光刻工序而形成第１图案；以及第２构图工序，对形成在所述透明基板上的第２薄膜实施光刻工序而形成第２图案，所述第１构图工序包含第１描绘工序，所述第２构图工序包含第２描绘工序，在所述第１描绘工序和第２描绘工序中，包含使用实施了相同失真校正的校正坐标系进行的描绘。
【技术特征摘要】
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