高喜树碱类化合物及其作为药物的用途制造技术

本发明专利技术涉及医药技术领域，具体涉及一类新的高喜树碱类化合物及其作为抗肿瘤药物的用途。本发明专利技术化合物结构如通式（Ｉ）所示，包括其光学异构体、外消旋体、顺反异构体以及其这些形式的任意混合物或其药用盐。本发明专利技术的化合物具有抑制拓扑异构酶Ｉ活性的作用，可用于制备抗肿瘤药物。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及医药
，具体涉及高喜树碱类化合物及其作为抗肿瘤药物的 用途。
技术介绍
喜树碱(Camptothecin)是1966 年美国化学家 Wall 等(J.Am.Chem.Soc.1966，88，3888)从中国珙桐科植物喜树(Camtothecaacuminata)中提取出的一种生物碱，喜树碱是 由中氮茚并喹啉碎片与六元-羟基内酯稠合组成的五环刚性结构，带有-羟基的 20位碳是非对称的，它赋予分子旋光特性。其结构如下所示权利要求1.高喜树碱类化合物，包括其光学异构体、外消旋体、顺反异构体以及其这些形式 的任意混合物或其药用盐，结构如通式⑴2.如权利要求1所述化合物，其特征在于，R5为乙基。3.如权利要求2所述化合物，其特征在于，所述化合物选自7-{4-苯基丨亚甲氨基高喜树碱、 7-{4-苯基}亚 甲氨基高喜树碱、7-{3-苯基丨亚甲氨基高喜树碱、 7-{3-苯基}亚 甲氨基高喜树碱、7-{4-苯基丨亚甲氨基高喜树碱、 7-{4-苯基}亚甲氨基高喜树碱、 7-{4-苯基}亚甲氨基 高喜树碱、7-{4-苯基}亚甲氨基高喜 树碱、(R)-7-{4-苯基}亚甲氨基 高喜树碱、(S)-7-{4-苯基}亚甲氨基 高喜树碱、7-{4-苯基}亚甲氨基 高喜树碱、7-{4-苯基}亚甲氨基高喜树碱、7-{4-苯基}亚甲氨基高喜树碱、7-{4-苯基}亚甲氨基 高喜树碱、7-{4-苯 基丨亚甲氨基高喜树碱、7-{4-苯 基丨亚甲氨基高喜树碱、7-{4-苯 基}亚甲氨基高喜树碱、7-{4-苯基}亚甲氨基高喜树碱、7-{4-苯基}亚甲氨基高喜树碱、7-{4-苯基}亚甲氨基高 喜树碱、7-{4-苯基}亚甲氨 基高喜树碱、7-{4-苯基}亚甲氨基高 喜树碱、碱、 碱、 碱、 碱、 树碱、-{4--苯基}亚甲氨基高喜树碱、 (R)-7-{3-苯基}亚甲氨基高喜树碱、(S)-7-{3-苯基}亚甲氨基高喜树碱、7-{3-苯基}亚甲氨基高喜树碱、氢吡啶基]苯基}亚甲氨基高喜 氢吡啶基]苯基}亚甲氨基高喜7-{3-苯基}亚甲氨基高喜树碱、 (R)-7-{3-[4-(2，6-二甲基-3，5-二乙氧羰基) 树碱、(S)-7-{3-[4-(2，6-二甲基-3，5-二乙氧羰基) 树碱、7-(2-呋喃)甲酰基-10-甲氧基高喜树碱、 (R)-7-(2-呋喃)甲酰基-10-甲氧基高喜树碱、 (S)-7-(2-呋喃)甲酰基-10-甲氧基高喜树碱、 7-(2-噻吩)甲酰基-10-甲氧基高喜树碱、 7-苯甲酰基-10-甲氧基高喜树碱、 7_对氯苯甲酰基-10-甲氧基高喜树碱、 7_对氟苯甲酰基-10-甲氧基高喜树碱、 7-(4-甲基)苯甲酰基-10-甲氧基高喜树碱、7-(4-三氟甲基)苯甲酰基-10-甲氧基高喜树碱、7-(4-甲氧基)苯甲酰基-10-甲氧基高喜树碱、7-(3，5-二甲基)苯甲酰基-10-甲氧基高喜树碱、7-(2-萘)苯甲酰基-10-甲氧基高喜树碱、7-环丙酰基-10-甲氧基高喜树碱、(R) -7-环丙酰基-10-甲氧基高喜树碱、(S)-7-环丙酰基-10-甲氧基高喜树碱、7-环戊酰基-10-甲氧基高喜树碱、(R)-7-环戊酰基-10-甲氧基高喜树碱、(S)-7-环戊酰基-10-甲氧基高喜树碱、7-环己酰基-10-甲氧基高喜树碱、7-丙酰基-10-甲氧基高喜树碱、7- 丁酰基-10-甲氧基高喜树碱、7-戊酰基-10-甲氧基高喜树碱、7-庚酰基-10-甲氧基高喜树碱、7-异丁酰基-10-甲氧基高喜树碱。4.权利要求1至3中的任一化合物，包括其光学异构体、外消旋体、顺反异构体以及 其这些形式的任意混合物或其药用盐，在制备拓扑异构酶I抑制剂中的应用。5.如权利要求4所述的应用，其特征在于，所述应用是在制备治疗肿瘤疾病的药物中 的应用。全文摘要本专利技术涉及医药
，具体涉及一类新的高喜树碱类化合物及其作为抗肿瘤药物的用途。本专利技术化合物结构如通式(I)所示，包括其光学异构体、外消旋体、顺反异构体以及其这些形式的任意混合物或其药用盐。本专利技术的化合物具有抑制拓扑异构酶I活性的作用，可用于制备抗肿瘤药物。文档编号A61K31/4745GK102010418SQ201010579510公开日2011年4月13日 申请日期2010年12月9日 优先权日2010年12月9日专利技术者刘文锋, 姚建忠, 庄春林, 张万年, 盛春泉, 祝令建, 程鹏飞, 缪震元, 郭巍 申请人:中国人民解放军第二军医大学本文档来自技高网...

【技术保护点】
高喜树碱类化合物，包括其光学异构体、外消旋体、顺反异构体以及其这些形式的任意混合物或其药用盐，结构如通式（Ⅰ）：＊＊＊（Ⅰ）在通式（Ⅰ）中：Ｒ↓［１］：表示＊＊＊（ＣＨ↓［２］）↓［ｍ］Ｃ（Ｏ）Ｒ↓［１０］基团，其中Ｒ↓［６］表示氢、羟基、氨基、低级烷基氨基、低级烷基、低级卤代烷基、低级烷氧基、低级链烯基、氰基、低级氰基烷基、硝基、低级硝基烷基、酰胺基、低级酰胺基烷基、肼基、低级肼基烷基、叠氮基、低级叠氮基烷基、苯基，所述苯基至少具有一个或多个下列取代基团：氢、羟基、卤素、低级烷基、低级烷氧基、氰基、硝基；Ｒ↓［７］表示低级烷基、低级卤代烷基、氰基、低级氰基烷基、硝基、低级硝基烷基、氨基、低级氨基烷基、羟基、低级羟基烷基；Ｒ↓［８］表示氢、低级烷基、低级卤代烷基、低级酰胺基烷基、低级肼基烷基、低级叠氮基烷基、苯基；Ｒ↓［９］表示氢、低级烷基、低级卤代烷基、苯基，所述苯基至少具有一个或多个下列取代基团：氢、羟基、卤素、低级烷基、低级烷氧基、氰基、硝基；Ｒ↓［１０］表示低级烷基、环烷基、［Ｎ＝Ｘ］、芳基，并且至少具有一个或多个下列取代基团：氢、羟基、卤素、低级烷基、低级烷氧基、氰基、硝基；Ｒ↓［２］、Ｒ↓［３］、Ｒ↓［４］独立地表示下列基团：氢、卤素、低级烷基、硝基、氨基、（ＣＨ↓［２］）↓［ｍ］ＮＲ↓［１１］Ｒ↓［１２］、（ＣＨ↓［２］）↓［ｍ］ＯＲ↓［１３］、（ＣＨ↓［２］）↓［ｍ］Ｃ（Ｏ）Ｒ↓［１４］、（ＣＨ↓［２］）↓［ｍ］ＯＣ（Ｏ）Ｒ↓［１４］、取代或未取代的低级芳烷基，其中取代基是低级烷基、羟基、卤素、硝基、氨基、低级烷基氨基、低级卤代烷基、低级羟基烷基、低级烷氧基、低级烷氧基低级烷基，或者Ｒ↓［２］和Ｒ↓［３］一起形成３或４元的链，其中该链的单元选自ＣＨ、ＣＨ↓［２］、Ｏ、Ｓ或ＮＲ↓［１５］；Ｒ↓［５］表示低级烷基；Ｒ↓［１１］、Ｒ↓［１２］、Ｒ↓［１３］、Ｒ↓［１４］、Ｒ↓［１５］独立地表示氢或低级烷基；所述低级烷基为含１至６个碳原子直链或支链烷基；低级烷氧基为含１至６个碳原子直链或支链烷氧基；低级卤代烷基为含１至３个卤原子取代的低级烷基；低级芳烷基为连接有芳基的低级烷基；Ｇ表示Ｏ、Ｓ、ＮＨ；ｍ是０至６之间的整数；ｎ是１或２；［Ｎ＝Ｘ］表示４至７元杂环基，Ｘ表示完成所述杂环基需要的链并选自Ｏ、Ｓ、ＣＨ↓［２］、ＣＨ、ＮＲ↓［１２］、ＣＯＲ↓［１４］。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张万年，刘文锋，缪震元，祝令建，盛春泉，姚建忠，郭巍，程鹏飞，庄春林，
申请(专利权)人：中国人民解放军第二军医大学，
类型：发明
国别省市：31