负载锁定装置和真空处理系统制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种负载锁定装置和真空处理系统。在具有多段的真空预备室的负载锁定装置中，防止由隔壁的变形造成的颗粒的发生。负载锁定装置（５）具有通过隔壁（４７）隔开的上下２段的真空预备室（２７ａ、２７ｂ）。在隔壁（４７）形成有上下贯通的一对缝隙（１０１、１０２）。缝隙（１０１）的内部为空洞，缝隙（１０１）的上下的开口部分由弹性板（６１）密封。在缝隙（１０１）内配备有抵抗对缝隙（１０１）的宽度方向施加的压缩力的加强部件（７１）。在隔壁（４７）设置有分别从缝隙（１０１、１０２）的内部到达密封面（４７ａ、４７ｂ）的压力调整孔（５０）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及负载锁定装置和真空处理系统，详细来说，涉及向在真空条件下对基板进行处理的真空处理装置搬送该基板用的，构成为能够切换大气压状态和真空状态的负 载锁定装置和具备该负载锁定装置的真空处理系统。
技术介绍
为了在真空条件下对FPD(平板显示器)用的玻璃基板等的基板进行等离子体蚀 刻、等离子体灰化、等离子体成膜等的处理，使用真空处理装置。从外部向这样的真空处理 装置进行的基板的搬送，通过具备使基板待机的待机平台(缓冲平台)、并且具备能够将内 部压力在大气压状态和真空状态之间切换的真空预备室的负载锁定装置进行。作为涉及负 载锁定装置的技术，提案有为了提升向真空处理装置的基板搬送的生产能力并减小设置空 间而在上下多段形成多个真空预备室的结构(例如，专利文献1、专利文献2)。在多段配置 真空预备室的情况下，也有仅叠层多个真空预备室的结构，但考虑到负载锁定装置自身的 小型化、轻量化，希望是将一个壳体的内部使用隔板分割、在壳体中形成多个真空预备室的 结构。 专利文献1 :日本专利特开2004-216982号 专利文献2 :日本专利特开2004-273949号
技术实现思路
近年来，对FPD用基板的大型化要求更为强烈，也存在以一个边超过2m的巨大的基板为处理对象的情况。对应于基板的大型化，负载锁定装置也大型化，在上述的由隔壁形成多个真空预备室的负载锁定装置中，隔开多个真空预备室的隔壁也大型化。 在多段的真空预备室中，相邻的真空预备室内的压力不同的情况下，由于虽然小但也存在的压力差，隔壁会产生变形(弯曲)。例如，在真空预备室构成为上下2段的类型的负载锁定装置中，上段的真空预备室为真空状态、下段的真空预备室为大气压状态的情况下，由于压力差在隔壁上施加大的力，隔壁会向上凸起变形为弓形。此外，上段的真空预备室为大气压状态、下段的真空预备室为真空状态的情况下，与上述相反，隔壁会向下变形为凸状。这样的压力差造成的变形使得隔壁端部的密封面产生变位。隔壁端部的密封面夹着0形环等的密封部件与门阀的阀体密封面等相接触，因此隔壁端部的密封面变位时，两个密封面所夹的O形环等的密封部件被摩擦损耗，成为颗粒产生的原因。虽然为了不产生由于压力差造成的变形，加厚隔壁使用的铝等的金属部件来提高刚性，能够改善上述问题，但对应于隔壁变厚，就需要增大负载锁定装置整体的高度，会产生大型化、重量增加、材料成本增加等问题。 因此，本专利技术的目的在于，提供在具有多段真空预备室的负载锁定装置中能够防 止隔壁的变形引起的颗粒发生的技术。 鉴于上述事实，本专利技术者经过潜心研究的结果，发现与其提高隔壁的刚性使变形消失，不如相反的在某种程度内容许隔壁变形，同时使得该变形造成的影响不传递到密封 面，由此解决上述课题，至此完成了本专利技术。 S卩，本专利技术的第一观点的负载锁定装置，是在真空条件下对基板进行处理的真空处理系统内，将使基板待机并且能够在大气压状态和真空状态之间进行切换的真空预备室通过隔壁隔开而配置成多个的负载锁定装置，其特征在于， 上述真空预备室包括 对基板进行搬入搬出用的开口部；禾口 以能够开闭的方式对上述开口部进行密封的门阀装置， 上述隔壁具有在与上述门阀装置之间隔着密封部件保持气密性的密封面，在上述隔壁的中央部分和上述密封面之间具备在由于相邻的真空预备室之间的压力差而对上述隔壁施加了应力时对从上述隔壁的中央部向上述密封面传递的上述应力进行缓和的机构。 此外，本专利技术的第二观点的负载锁定装置，是在真空条件下对基板进行处理的真空处理系统内，将使基板待机并且能够在大气压状态和真空状态之间进行切换的真空预备室通过隔壁隔开而配置成多个的负载锁定装置，其特征在于， 上述真空预备室包括 对基板进行搬入搬出用的开口部；禾口 以能够开闭的方式对上述开口部进行密封的门阀装置， 上述隔壁具有 在与上述门阀装置之间隔着密封部件保持气密性的密封面； 在上述密封面附近形成的贯通开口部；禾口 对上述贯通开口部的开口部分进行密封的弹性部件。 本专利技术第二观点的负载锁定装置中，优选在上述隔壁的中央部分与在上述隔壁的 端部形成的上述密封面之间，以上述中央部分为中心对称设置有一对上述贯通开口部。此 外，更优选上述贯通开口部形成为长条形，该贯通开口部的长边方向相对于上述密封面平 行。 此外，在本专利技术第二方面的负载锁定装置中，优选在上述贯通开口部内设置有加 强部件，用于抵抗施加在上述贯通开口部上的压縮力。在这种情况下，优选上述加强部件具 备与贯通开口部内部的壁面抵接的旋转体。 此外，在本专利技术第二方面的负载锁定装置中，优选在上述隔壁设置有从上述密封 面连通到上述贯通开口部的内部的压力调整孔，用于对上述贯通开口部内的压力进行调 整。 本专利技术的第三观点的基板处理系统，包括在真空条件下对基板进行处理的真空 处理室；在真空条件下向上述真空处理室搬送基板的真空搬送室；和上述第一观点或第二 观点的负载锁定装置。 本专利技术的负载锁定装置，设置有在由于相邻的真空预备室之间的压力差而对隔壁 施加了应力时对从隔壁的中央部分向密封面传递的应力进行缓和的机构(例如，贯通开口 部；和塞住其开口部分的弹性部件)，因此，能够将隔壁的变形仅限制在其中央部，能够抑 制隔壁的两端的密封面的变位。其结果，具有能够防止密封部件的损耗造成的颗粒产生的 效果。 本专利技术的真空处理系统，能够抑制在负载锁定装置内的颗粒的产生，因此能够防 止对在负载锁定装置内待机的基板的颗粒污染，能够提高在真空处理系统内制造的产品的 可靠性。附图说明图1为示意表示真空处理系统的立体图。图2为表示图1的真空处理系统的内部结构的平面图。图3为表示第一实施方式的负载锁定装置的概略结构的截面图。图4为表示负载锁定装置的主要结构部件的分解立体图。图5为隔壁的外观立体图。图6为表示图3中缝隙部分结构的要部放大截面图。图7为说明不设置缝隙时和设置缝隙时的隔壁变形状态的图。图8为说明加强部件作用的图。图9为表示第二实施方式的负载锁定装置的概略结构的截面图。图10为表示图9中缝隙部分的机构的要部放大截面图。附图标记说明la、lb、lc处理腔室3搬送腔室5负载锁定装置7、8、9门阀装置27a、27b真空预备室28缓冲器41底壁43顶壁44肋47隔壁50压力调整孔51 570形环61弹性板71加强部件100真空处理系统101、 102缝隙基板s具体实施例方式以下，参照附图，对本专利技术的实施方式进行详细说明。在此，以本专利技术的一个实施方式的负载锁定装置的真空处理系统为例进行说明。[第一实施方式] 图1为示意表示真空处理系统100的立体图。图2为示意表示在各腔室的上盖开放的状态下内部的平面图。该真空处理系统100构成为具有多个处理腔室la、lb、lc的 多腔室结构。真空处理系统100例如构成为对FPD用的玻璃基板(以下，简称为基板) S进行等离子体处理用的处理系统。其中，作为FPD，可以示例液晶显示器(LCD)、电致发光 (Electro Luminescence ;EL)显示器、等离子体显示器(PDP)等。 真空处理系统100中，多个大型腔室连结为十字形。在中央部配置有搬送腔室3，与其三个侧面相邻配设有对基板S进行等离子体处理的3个处理腔室la、lb、lc。 处理腔室la、lb、lc，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种负载锁定装置，是在真空条件下对基板进行处理的真空处理系统内，将使基板待机并且能够在大气压状态和真空状态之间进行切换的真空预备室通过隔壁隔开而配置成多个的负载锁定装置，其特征在于，所述真空预备室包括：对基板进行搬入搬出用的开口部；和以能够开闭的方式对所述开口部进行密封的门阀装置，所述隔壁具有在与所述门阀装置之间隔着密封部件保持气密性的密封面，在所述隔壁的中央部分和所述密封面之间具备在由于相邻的真空预备室之间的压力差而对所述隔壁施加了应力时对从所述隔壁的中央部向所述密封面传递的所述应力进行缓和的机构。

【技术特征摘要】
JP 2008-12-4 2008-309461一种负载锁定装置，是在真空条件下对基板进行处理的真空处理系统内，将使基板待机并且能够在大气压状态和真空状态之间进行切换的真空预备室通过隔壁隔开而配置成多个的负载锁定装置，其特征在于，所述真空预备室包括对基板进行搬入搬出用的开口部；和以能够开闭的方式对所述开口部进行密封的门阀装置，所述隔壁具有在与所述门阀装置之间隔着密封部件保持气密性的密封面，在所述隔壁的中央部分和所述密封面之间具备在由于相邻的真空预备室之间的压力差而对所述隔壁施加了应力时对从所述隔壁的中央部向所述密封面传递的所述应力进行缓和的机构。2. —种负载锁定装置，是在真空条件下对基板进行处理的真空处理系统内，将使基板 待机并且能够在大气压状态和真空状态之间进行切换的真空预备室通过隔壁隔开而配置 成多个的负载锁定装置，其特征在于，所述真空预备室包括 对基板进行搬入搬出用的开口部；禾口 以能够开闭的方式对所述开口部进行密封的门阀装置， 所述隔壁具有在与所述门阀装置之间隔着密封部件保持气密性的密封面...

【专利技术属性】
技术研发人员：锅山裕树，雨野勉，若森勤，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]