基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置。不将配置有用于积存处理液的瓶的液积存部新设置于基板处理装置的外部，就使能够使用于基板的液处理的上述瓶的个数增加。其具有：承载区块，收纳有基板的承载件输入该承载区块；处理区块，其设置有相对于从所述承载区块输送的所述基板供给处理液而进行液处理的液处理模块；以及转接区块，所述基板从所述处理区块向该转接区块输送，所述转接区块具有液积存部，该液积存部配置有用于积存所述处理液的瓶，所述承载区块具有使从所述液积存部供给来的所述处理液向所述液处理模块送液的送液部，所述送液部具备：过滤器，其用于过滤从所述液积存部送液的所述处理液；和第1泵，其朝向所述液处理模块加压输送所述处理液。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种基板处理装置。

技术介绍

1、专利文献1公开有一种流体保存、分配系统，该流体保存、分配系统具备：容器，其具有内容积；所述内容积内的内衬，其以利用零或大致零的顶隙构造封入液体介质的方式构成；以及分配组件，其是与所述容器卡合的结构，以便在分配作业中从所述内衬抽取出液体介质。该流体保存、分配系统具备内置流量计，该内置流量计构成为，监视在分配作业中从所述内衬所抽取出的所述液体介质，若产生空的状态或大致空的状态，则生成与该状态相关的输出。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2015-163401号公报

技术实现思路

1、专利技术要解决的问题

2、本专利技术的技术不将配置有用于积存处理液的瓶的液积存部新设置于基板处理装置的外部，就会使能够使用于基板的液处理的上述瓶的个数增加。

3、用于解决问题的方案

4、(1)一种基板处理装置，其具有：

5、承载区块，收纳有基板的承载件输入该承载区块；

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【技术保护点】

1.一种基板处理装置，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

7.根据权利要求2～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

8.根据权利要求2～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

9.根据权利要求1～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

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【技术特征摘要】

1.一种基板处理装置，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

7.根据权利要求2～6中任一项所述的基板...

【专利技术属性】
技术研发人员：田中雅山，池田统希，西山雄太，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：

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