基板处理装置以及基板处理方法制造方法及图纸

提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够对基板面更加均匀地实施处理，并能够提高处理能力。基板处理装置（１）具有：液体喷嘴（１６），其一边水平搬送基板（２）一边在其上表面形成显影液的液层（Ｘ）；除去单元，其用于除去形成于基板（２）上的液层（Ｘ）。该除去单元包括：风刀（１８），其设置成横跨基板（２），用于向该基板（２）的上表面喷出空气；消波构件（２０），其配置在比该风刀（１８）的空气喷出位置更邻接于基板（２）的后端侧的位置上，用于抑制喷出所述空气时所产生的液层（Ｘ）上的波纹。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及基板处理装置等，该基板处理装置向LCD(液晶显示装置)和 PDP(等离子显示器)等FPD(平板显示器)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、 半导体衬底等基板供给各种处理液以实施处理。
技术介绍
以往，作为向LCD等矩形基板的上表面(主面)供给处理液以实施规定的 处理的基板处理装置，例如提出有专利文献1所公开的装置。该专利文献1所公开的装置进行所谓的浸渍式显影处理，该浸渍式显影 处理一边在以水平姿势搬送基板， 一边向基板表面供给显影液，利用其表面 张力形成液层，并在该状态下实施规定时间的显影处理。然后，使基板在宽 度方向上倾斜(在与搬送方向垂直的方向上倾斜)，从而使显影液沿基板流下， 然后， 一边以倾斜姿势搬送该基板， 一边向基板表面供给清洗液，以此实施 清洗处理。与以喷淋状供给显影液的装置相比，实施浸渍式显影处理的专利 文献1的装置能够以少量的显影液对整个基板实施均匀的显影处理，因此具有如下特点能够控制运行成本，从而能够经济地实施显影处理。专利文献1: JP特开平11-87210号公报但是，在上述现有装置中存在如下问题。即，在形成液层时，虽然从搬 送方向前端侧起依次向基板供给显影液，但由于在显影处理后使基板在其宽 度方向上倾斜以使显影液流下，因而显然在基板面内其处理时间上产生差异。 具体来讲，有这样一种倾向，即，在搬送方向上越是位于基板的后端一侧， 或者越是位于倾斜姿势的上侧的部位，其处理时间越是变短。在基板尺寸小 的情况下，在基板面内的处理时间的时间差(对于处理时间最长的部位和处理 时间最短的部位的处理时间之间的时间差)小，所以几乎能够忽略其对质量的 影响。但是，近几年，随着基板的大型化，所要求的处理精密度也日渐提高， 所以要确保质量，就变得无法忽视在基板面内的处理时间的时间差。另外， 近几年，更加重视处理能力的提高，但在显影处理后需停止搬送基板进行姿4势变换的现有装置，难以满足这样的要求。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述的情况而作出的，其目的在于，在通过所谓的浸渍处 理对基板实施规定处理的基板处理装置中，对基板面更加均匀地实施处理， 并提高处理能力。申请人鉴于上述问题起因于变换基板的姿势这一点上，研究了如下问题: 为了在保持水平姿势的情况下进行从形成液层到除去液层为止的一系列处 理， 一边水平搬送基板一边对基板从其前端侧其依次供给流体(喷射)，由此 除去液层。但是，存在破坏浸渍处理的稳定性的问题，即，若向基板喷射流 体，则受到其影响而会导致液层的紊乱，处理液从基板流下等。因此，申请 人经过进一步研究，专利技术了如下所述的基板处理装置。艮口，本专利技术的基板处理装置具有除去单元，该除去单元设置成对于水平 支撑的基板能够相对移动，伴随着所述相对移动，从基板的一端侧向另一端 侧除去在所述基板的上表面形成的处理液的液层，所述除去单元具有流体 供给部，其为了除去所述液层，在与所述相对移动的方向交叉的方向上横跨 基板的整个宽度向基板上表面喷出调整过流量的除层用流体；消波部，其相 对于所述基板上的所述除层用流体的供给位置，在位于与该供给位置的所述 相对移动方向上的上游侧相邻的位置上，与基板上表面侧仅分离与所述液层 相对应的距离并与基板相对配置，用于抑制在喷出所述除层用流体时所产生 的所述液层的波纹。在该装置中，除去单元对于被水平支撑且形成有液层的基板相对移动， 在该移动中，流体供给部向基板喷出除层用流体，以此从基板的一端侧向另 一端侧依次除去液层。这时，在比该除层用流体的喷出位置更邻接于所述另 一端侧的位置上，通过所述消波部抑制在喷出所述除层用流体时所产生的所 述液层的波纹，从而能够良好地保持残留在基板上的液层的稳定性。因此， 在不破坏浸渍处理的稳定性的情况下，在保持水平姿势的状态下能够良好地 除去基板上的液层。而且，本专利技术的基板处理方法是一种使用该基板处理装置的基板处理方 法，液层形成工序，向水平支撑的基板的上表面从该基板的一端侧向另一端侧供给处理液，以此在基板上表面形成该处理液的液层；液层除去工序，使用所述基板处理装置， 一边使所述除去单元对于形成有所述液层的所述基板 相对移动， 一边向所述基板的上表面喷出所述除层用流体，以此从该基板的 所述一端侧向所述另 一端侧除去所述液层。根据该方法，则形成液层以及除去该液层的任何处理都在水平支撑基板 的状态下进行，而且，因为任何处理都从基板的同一侧(上述一端侧)起依次 进行，所以尽管进行浸渍处理，也能够使在基板面内利用处理液的处理时间 变得均匀，另外，由于不需要变换基板的姿势，所以能够相应地提高处理能 力。此外，作为上述基板处理装置的具体结构，所述消波部具有与所述基板 的上表面相对的对置面，在该对置面与所述基板的上表面之间形成有所述处 理液的弯液面。根据该结构，利用消波部的对置面与基板上表面来限制液层的上下移动， 从而有效地防止液层的波纹。另外，若消波部上附着处理液，则会导致其干燥物混入下次的基板的液 层中等的不良情况，所以在上述装置中，设置清洗单元，该清洗单元向消波 部喷射清洗液，以此清洗该消波部。根据该结构，能够除去附着于消波部上的处理液或者防止该处理液被干 燥，所以能够消除如上所述的不良情况。此外，上述装置可以具有第一处理液供给单元，该第一处理供给单元设 置成对于水平支撑的基板能够相对移动，伴随着所述移动，从所述一端侧起 向基板上表面供给所述处理液，以此形成所述液层。根据该结构，能够在使基板保持水平姿势的状态下，通过共同的装置实 施从形成上述液层到除去该液层为止的工序。另外，上述装置可以具有第二处理液供给单元，该第二处理供给单元与 所述除去单元一体地对于所述基板相对移动，伴随着所述移动，向在所述基 板上供给有所述除层用流体的区域供给不同于所述液层的其他处理液。根据该结构，伴随着除去单元对基板的相对移动，能够向基板上的供给 有所述除层用流体的区域(液层被除去的区域)立即供给其他处理液。因此， 例如通过第二处理液供给单元供给下一个工序的处理液，则能够防止在已经除去液层的区域的基板干燥等，并能够迅速地转入下一个工序的处理。另外，在上述装置中，所述除去单元优选地具有盖构件，该盖构件用于 罩住所述流体供给部以及在所述基板上的所述除层用流体的喷出位置。根据该结构，能够有效地防止伴随着供给除层用流体的雾(雾状的处理液) 的飞散。在该情况下，在具有第二处理液供给单元的装置中，可以将所述盖 构件设置成罩住所述第二处理液供给单元以及在所述基板上的该第二处理液 供给单元供给处理液的位置。根据该结构，也能够有效地防止伴随着第二处 理液供给单元供给处理液的雾的飞散。此外，在具有上述盖构件的情况下，优选地，还具有排气单元，该排气 单元用于对该盖构件的内部环境进行排气。根据该结构，能够防止在盖构件的内部充满雾。因此，能够避免发生这 样的不良情况在盖构件的内面附着雾或者雾被干燥，其附着于基板上。若适用上述本专利技术，则在水平支撑基板的状态下，也能够进行形成液层 以及除去液层的任何处理。因此，尽管进行所谓浸渍处理，但与现有技术相 比，也能够使在基板面内的处理时间变得均匀，并能够提高处理能力。附图说明图1是表示本专利技术的基板处理装置的大致结构的剖视图。图2是表示基板处理装置的主要部分的图1的放本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，　具有除去单元，该除去单元设置成对于水平支撑的基板能够相对移动，伴随着所述相对移动，从基板的一端侧向另一端侧除去在所述基板的上表面形成的处理液的液层，　所述除去单元具有：　流体供给部，其为了除去所述液层，在与所述相对移动的方向交叉的方向上横跨基板的整个宽度向基板上表面喷出调整过流量的除层用流体；　消波部，其相对于所述基板上的所述除层用流体的供给位置，在位于与该供给位置的所述相对移动方向上的上游侧相邻的位置上，与基板上表面侧仅分离与所述液层相对应的距离并与基板相对配置，用于抑制在喷出所述除层用流体时所产生的所述液层的波纹。

【技术特征摘要】
JP 2008-1-31 2008-0207351. 一种基板处理装置，其特征在于，具有除去单元，该除去单元设置成对于水平支撑的基板能够相对移动，伴随着所述相对移动，从基板的一端侧向另一端侧除去在所述基板的上表面形成的处理液的液层，所述除去单元具有流体供给部，其为了除去所述液层，在与所述相对移动的方向交叉的方向上横跨基板的整个宽度向基板上表面喷出调整过流量的除层用流体；消波部，其相对于所述基板上的所述除层用流体的供给位置，在位于与该供给位置的所述相对移动方向上的上游侧相邻的位置上，与基板上表面侧仅分离与所述液层相对应的距离并与基板相对配置，用于抑制在喷出所述除层用流体时所产生的所述液层的波纹。2. 如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述消波部具有与所述基板的上表面相对的对置面，在该对置面与所述基板的上表面之间形成有所述处理液的弯液面。3. 如权利要求1或者2所述的基板处理装置，其特征在于，具有清洗单元，该清洗单元向所述消波部喷射清洗液，以此清洗该消波部。4. 如权利要求1或者2所述的基板处理装置，其特征在于，具有第一处理液供给单元，该第一处理供给单元设置成对于水平支撑的基板能够相对移动，伴随着所述移动，从所述一端...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙亮，羽方满之，厨子卓哉，篠原正树，樋口尚，
申请(专利权)人：大日本网屏制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]