本发明专利技术提供能够在保持石平台的平面度的状态下防止镜面化的石平台、石平台的加工方法、石平台的制造方法以及基板处理装置。激光加工机向石平台照射激光标刻机（41）所射出的激光，从而对石平台的基板的载置面进行加工来形成凸部，该激光加工机具有机架（51）、支撑在该机架（51）上的激光标刻机（41）、控制器（42）、排气管（43）。激光标刻机（41）和控制器（42）通过电缆（45）相连接。另外，排气管（43）和控制器（42）通过连接管相连接。在被机架（51）包围的区域中的、向石平台照射激光的照射区域上配设有保护盖。
【技术实现步骤摘要】
石平台、其加工方法、制造方法以及基板处理装置
本专利技术涉及石平台、石平台的加工方法、石平台的制造方法以及基板处理装置。
技术介绍
例如，在向基板涂敷涂敷液的基板处理装置中采用如下结构，S卩，使形成有用于喷出涂敷液的狭缝的狭缝喷嘴，沿着吸附保持在石平台的载置面上的基板的表面移动，从而在基板的表面上涂敷涂敷液(参照专利文献I)。要求该石平台的基板的载置面具有高的平面度。作为这样的石平台的材质，一般使用还称为花网岩的花岗岩。花岗岩制成的石平台具有如下特征，即，具有刚性、耐磨性、耐腐蚀性，也不容易受到温度的影响。 专利文献1:日本特开2009-93002号公报 在长期使用这样的石平台的情况下，由于石平台的基板载置面磨损和变脏，产生基板载置面镜面化的现象。在石平台的基板载置面镜面化的情况下，在通过升降销等从载置面上抬起基板时，使剥离带电变大，产生因静电而对基板带来损伤的问题。以往，为了应对这样的问题，进行了使石平台的基板载置面的表面粗糙度变大的加工。 为了使石平台表面的表面粗糙度变大，采用如下方法等，即，用粒度大的研磨剂研磨石平台表面来形成微细的凹凸；掩盖石平台来进行喷丸处理来使石平台表面变得粗糙；在石平台表面上形成微细的槽。但是，无论采用哪种方法，在石平台表面的粗糙的区域上堵塞异物，由此产生粗糙的面再次镜面化的现象。 另外，无论采用上述哪种方法，都产生如下问题，S卩，难以在维持石平台的基板载置面的平面度的状态下使表面的粗糙度变大，难以同时得到所需要的表面粗糙度和平面度。
技术实现思路
本专利技术是为了解决上述问题而提出的，其目的在于提供能够在保持石平台的平面度的状态下防止镜面化的石平台、石平台的加工方法、石平台的制造方法以及基板处理装置。 技术方案I所记载的专利技术为一种石平台，由含有被加热膨胀的材料的材质构成，具有由被照射激光膨胀的材料形成的凸部。 技术方案2所记载的专利技术，在技术方案I所记载的专利技术中，该石平台由花岗岩构成，该花岗岩含有被加热膨胀的石英。 技术方案3所记载的专利技术，在技术方案2所记载的专利技术中，由在特定条件下向石平台照射激光膨胀的石英形成凸部，该特定条件包括:激光的波长为10600nm，输出功率为20W至25W,对石平台的表面的扫描速度为1000mm/sec至1250mm/sec。 [0011 ] 技术方案4所记载的专利技术，在技术方案2所记载的专利技术中，由照射激光使石平台的表面温度上升至摄氏400度至摄氏700度膨胀的石英形成凸部。 技术方案5所记载的专利技术为一种石平台的加工方法，该石平台为由含有被加热膨胀的材料的材质构成，由被照射激光膨胀的材料形成凸部。 技术方案6所记载的专利技术，在技术方案5所记载的专利技术中，该石平台由花岗岩构成，该花岗岩含有被加热膨胀的石英。 技术方案7所记载的专利技术，在技术方案6所记载的专利技术中，由在特定条件下向石平台照射激光膨胀的石英形成凸部，该特定条件包括:激光的波长为10600nm，输出功率为20W至25W,对石平台的表面的扫描速度为1000mm/sec至1250mm/sec。 技术方案8所记载的专利技术，技术方案6所记载的专利技术中，照射激光使石平台的表面温度上升至摄氏400度至摄氏700度，使石英膨胀来形成凸部。 技术方案9所记载的专利技术为一种石平台的制造方法，其特征在于，包括:加工工序，将含有石英的花岗岩加工成具有平面部的平台状；激光照射工序，通过向所述花岗岩的平面部照射激光，使石英膨胀来形成凸部。 技术方案10所记载的专利技术为一种基板处理装置，将基板载置在石平台上来进行处理，其特征在于，所述石平台由含有被加热膨胀的材料的材质构成，具有凸部，该凸部由通过向所述基板的载置面照射激光膨胀的材料形成在该载置面上。 根据技术方案I至技术方案10所记载的专利技术，由通过照射激光加热而得到的膨胀区域形成凸部，从而结构极其简单，能够在维持石平台的平面度的状态下防止镜面化。 另外，根据技术方案10所记载的专利技术，即使从石平台表面抬起基板的情况下，也能够防止因剥离带电的影响而产生的静电。 【附图说明】 图1是涂敷装置的立体图。 图2是涂敷装置的侧视概略图。 图3是用于实施本专利技术的石平台11的加工方法的激光加工机的立体图。 图4是示出用于实施本专利技术的石平台11的加工方法的激光加工机的主要部分的立体图。 图5是示出通过激光加工机加工石平台11时的情况的示意图。 图6是示出在石平台11上进行激光加工的单位区域E的说明图。 图7是示出通过向石平台11的上表面照射激光来形成的凸部101的说明图。 图8是将照射激光之后的石平台11的表面状态放大示出的照片。 图9是示出图8的照片中的白线部分的高度位置的曲线图。 图1OA至图1OF是示出形成在石平台11上的凸部的图案的说明图。 其中，附图标记说明如下: 10:主体 11:石平台 12:升降销 13:狭缝喷嘴 14:滑架 15:喷嘴支撑部 16:升降机构 17:导轨 18:开闭阀 19:开闭阀 20:线性马达 23:线性编码器 31:喷嘴清洗机构 34:预分配机构 41:激光标刻机 42:控制器 43:排气管 44:连接管 45:电缆 51:机架 52:保护盖 100:基板 101:凸部 102:凸部 103:凸部 104:凸部 105:凸部 106:凸部 【具体实施方式】 下面，基于附图，对于本专利技术的实施方式进行说明。首先，对于应用了本专利技术的石平台11的基板处理装置的结构进行说明。图1是作为应用了本专利技术的石平台11的基板处理装置的涂敷装置的立体图。另外，图2是涂敷装置的侧视概略图。此外，在图1中，省略图示了后述喷嘴清洗机构31以及预分配机构34。另外，在图2中，省略图示了后述滑架14 坐寸ο 该涂敷装置具有石平台11，该石平台11支撑在用于吸附保持基板100的主体10上。该石平台11的作为基板100的载置面的上表面的平面度为几微米左右。该石平台11的材质，一般是称为花网岩的花岗岩。在该石平台11的表面上形成有省略图示的吸附槽。另外，多个升降销12隔开适当的间隔设置在石平台11上。在搬入、搬出基板100时，该升降销12从下方支撑基板100来使该基板100上升至石平台11的表面的上方。 在石平台11的上方设置有从主体10的两侧部分大致水平架设的滑架14。该滑架14具有:喷嘴支撑部15，其用于支撑狭缝喷嘴13:左右一对升降机构16，用于支撑该喷嘴支撑部15的两端。另外，在主体10的两端部配设有大致沿着水平方向平行延伸的一对导轨17。上述导轨17引导滑架14的两端部，从而使滑架14沿着图1所示的X方向往复移动。 在主体10以及滑架14的两侧部分沿着主体10两侧的边缘侧配设有分别具有定子21和转子22的一对线性马达20。另外，在主体10以及滑架14的两侧部分固定设置有分别具有刻度部和检测件的一对线性编码器23。该线性编码器23用于检测滑架14的位置。 另外，如图2所示，在主体10的侧方配设有喷嘴清洗机构31。该喷嘴清洗机构31具有清洗部32和待机容器33。在该涂敷装置中，在进行涂敷动作之前或者在进行涂敷动作之后，用该喷嘴清洗机本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种石平台，由含有被加热膨胀的材料的材质构成，其特征在于，具有由被照射激光膨胀的材料形成的凸部。
【技术特征摘要】
2013.03.27 JP 2013-066081;2014.01.17 JP 2014-006691.一种石平台，由含有被加热膨胀的材料的材质构成，其特征在于， 具有由被照射激光膨胀的材料形成的凸部。2.根据权利要求1所述的石平台，其特征在于， 该石平台由花岗岩构成，该花岗岩含有被加热膨胀的石英。3.根据权利要求2所述的石平台，其特征在于， 由在特定条件下向石平台照射激光膨胀的石英形成凸部，该特定条件包括:激光的波长为10600nm，输出功率为20W至25W，对石平台的表面的扫描速度为1000mm/sec至1250mm/sec。4.根据权利要求2所述的石平台，其特征在于， 由照射激光使石平台的表面温度上升至摄氏400度至摄氏700度膨胀的石英形成凸部。5.—种石平台的加工方法，该石平台为由含有被加热膨胀的材料的材质构成，其特征在于， 由被照射激光膨胀的材料形...
【专利技术属性】
技术研发人员：池田文彦，
申请(专利权)人：大日本网屏制造株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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