基板处理装置及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够提高基板处理效率的基板处理装置和基板处理方法。实施形态的基板处理装置具备：退避室(31)，将退避室(31)夹在中间地设置的一对处理室(21)，起能够遍及退避室(31)内和一对处理室(21)内地移动地设置、给处理室(21)内的基板(W)上提供处理液、并且加热该基板(W)上的处理液的处理部的作用的加热器(32)，以及起使加热器(32)遍及退避室(31)内和一对处理室(21)内地移动的移动机构的作用的加热器移动机构(33)。

Substrate processing device and substrate processing method

The invention provides a substrate processing device and a substrate processing method which can improve the processing efficiency of a substrate. The implementation of the substrate processing device has a shape chamber (31), the backoff backoff chamber (31) with a processing chamber is arranged in the middle of the (21), which can spread throughout the room (31) and retreat of a processing chamber (21), mainland mobile set to the processing chamber (21) within the the substrate (W) provide treatment liquid, and heating the substrate (W) on the treatment of liquid heater treatment effect (32), and the heater (32) across the room (31) and retreat of a processing chamber (21) heater moving mechanism moving mechanism of the role of the mainland mobile (33).

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置及基板处理方法
本专利技术实施形态涉及基板处理装置及基板处理方法。
技术介绍
基板处理装置为对半导体晶片、光掩模用玻璃基板、液晶用玻璃基板等各种基板进行种种表面处理(蚀刻处理、洗净处理、漂洗处理、干燥处理等)的装置。该基板处理装置从处理的均匀性、再现性方面出发，大多采用在专门处理室内一张张地处理基板的单张方式。并且，处理对象的基板被收存到专用容器内，例如在基板为半导体晶片的情况下收存到FOUP(前端开口片盒)内。因此，设置从专用容器取出基板和收存基板的专用单元。作为该专用单元，使用例如EFEM(FOUP开启工具与搬运机器人的组合)。专用容器内的基板被专用单元的搬运机器人从专用容器取出，被搬运到处理室内、在处理室内被处理。由于该处理使用药液，因此为了使处理室环境气体不扩散到周围，通常处理室内被维持在比外部低的压力。作为处理不仅有常温的药液处理，还有伴随加热的药液处理等。并且，在处理完的基板还有必要进行别的处理的情况下，该基板被搬运到下一个处理室进行处理。最终，基板被洗净和干燥，用搬运机器人收存到原来的专用容器内，然后从基板处理装置中除去。由于使用的专用容器、专用单元的宽度、高度等大小由规格决定，因此基板处理装置具有各处理室的大小相同的倾向。因此，根据处理室的数量，各处理室与搬运机器人的配置组合的形态也有变成类似的倾向。在处理室有2个的情况下，将处理室直接连接到EFEM上的形态多。并且，在处理室有4个的情况下，多数形态在EFEM中设置基板交接台(缓冲台)，再设置1台专门向处理室进行基板搬运的搬运机器人，在该搬运机器人的周边配置处理室。并且，在进一步增加处理室的情况下，多数情况用线性移动机构使前述的再一台搬运机器人直线移动，在该搬运机器人移动的机器人移动路径的两侧配置处理室。但是，在这种结构的情况下，由于直线移动的搬运机器人的移动速度的限制或者设置基板处理装置的洁净室纵深的限制，处理室的数量为8个(机器人移动路径的两侧各4个)左右。另外，为了进一步增加处理室，有可能将处理室重叠、基板搬运追加向各层的搬运方式。即，不是使处理室的配置为平面配置，而是立体配置。在多个处理室分别进行使用相同处理液的处理的情况下，由于各处理室的处理时间相同，因此采用搬运效率高的系统。另一方面，在多个处理室依次进行使用不同处理液的多个处理的情况下，产生在各处理室之间搬运基板的必要。此时，如果在各处理室处理时间不同，则在某个处理工序产生等待基板搬运。通常，为了避免等待搬运搬运的发生，使所有的处理工序在同一处理时间结束地调整工艺。但是，由于有必要在各处理室之间搬运基板，因此处理被该基板搬运中断，基板处理效率下降。因此，如果能够在一个处理室内实施前述使用不同处理液的多个处理的话，则不需要各处理室之间的基板搬运。由此，能够避免基板搬运引起的处理中断。但是，即使在一个处理室内实施前述使用不同处理液的多个处理，由于处理液种类不同引起的处理环境气体的不同等，有必要将处理室分开。例如，在进行蚀刻处理的处理室用位于基板上方的加热单元加热提供给基板的药液(例如磷酸液)，用高温的药液刻蚀基板。在该处理室内作为下一个工序进行给基板浇漂洗药液(例如APM：氨-过氧化氢水)的漂洗处理。此时，如果处理环境气体中的药液与漂洗药液反应，则有时生成微粒，附着在加热单元上。并且，由于微粒附着在加热单元上，有时在基板的处理工序中微粒附着在基板上，引起产品不良。多数情况下除去该微粒困难，有加热单元的维护时间(例如加热器洗净时间)变长的倾向。为了避免这种状况，将各处理室分开是有效的，但由于各处理室之间的基板搬运成为必须，因此基板处理效率下降。
技术实现思路
本专利技术想要解决的问题就是提供能够提高基板处理效率的基板处理装置和基板处理方法。实施形态的基板处理装置具备：退避室；一对处理室，将退避室夹在中间地设置；处理部，能够遍及退避室内和一对处理室内地移动地设置，对处理室内的基板上提供处理液，并且加热该基板上的处理液；以及移动机构，使处理部遍及退避室内和一对处理室内地移动。实施形态的基板处理方法为使用具备退避室、一对处理室和处理部的基板处理装置来处理处理室内的基板的方法，一对处理室将退避室夹在中间地设置，处理部对处理室内的基板上提供处理液并且加热该基板上的处理液，其特征在于，使处理部遍及上述退避室内和一对处理室内地移动。根据前述实施形态的基板处理装置或基板处理方法，能够提高基板处理效率。附图说明图1为表示第1实施形态的基板处理装置的概略结构的俯视图；图2为表示第1实施形态的基板处理单元的概略结构的立体图；图3为表示第1实施形态的加热器、加热器移动机构及洗净部的概略结构的剖视图(图1的3－3线剖视图)；图4为表示第1实施形态的基板处理装置的比较例的俯视图；图5为表示第1实施形态的基板处理装置和比较例的基板处理工序的流程的时序图；图6为表示第2实施形态的加热器、加热器移动机构和洗净部的概略结构的剖视图。具体实施方式(第1实施形态)参照图1至图5说明第1实施形态。(基本结构)如图1所示，第1的实施形态的基板处理装置10具备：多个开闭单元11、第1搬运机器人12、缓冲单元13、第2搬运机器人14、多个基板处理单元15和装置附带单元16。各开闭单元11排列设置成一列。这些开闭单元11开闭起搬运容器作用的专用容器(例如FOUP)的门。另外，在专用容器为FOUP的情况下，开闭单元11称为FOUP开启工具。第1搬运机器人12沿各开闭单元11排列的第1搬运方向移动地设置在各开闭单元11的列的旁边。该第1搬运机器人12从被开闭单元11打开了门的专用容器取出基板W。并且，第1搬运机器人12根据需要沿第1搬运方向移动到缓冲单元13附近，在停止的场所回转，将基板W搬入缓冲单元13。并且，第1搬运机器人12从缓冲单元13取出处理完毕的基板W，根据需要沿第1搬运方向移动到所希望的开闭单元11附近，在停止场所回转，将处理完毕的基板W搬入所希望的专用容器。另外，第1搬运机器人12有时也不移动而回转，将基板W搬入缓冲单元13或者将处理完毕的基板W搬入所希望的专用容器。作为第1搬运机器人12可以使用例如具有机械臂、机械手、移动机构等的机器人。缓冲单元13定位在第1搬运机器人12移动的第1机器人移动路径的中央附近，设置在该第1机器人移动路径的一侧，即与各开闭单元11相反的一侧。该缓冲单元13起在第1搬运机器人12与第2搬运机器人14之间进行基板W的倒手的缓冲台(基板交接台)的作用。第2搬运机器人14从缓冲单元13附近沿与前述第1搬运方向正交的第2搬运方向(与第1搬运方向交叉的方向的一例)移动地设置。该第2搬运机器人14从缓冲单元13取出基板W，根据需要沿第2搬运方向移动到所希望的基板处理单元15附近，在停止场所回转，将基板W搬入所希望的基板处理单元15。并且，第2搬运机器人14从基板处理单元15取出处理完毕的基板W，根据需要沿第2搬运方向移动到缓冲单元13附近，在停止场所回转，将处理完毕的基板W搬入缓冲单元13。另外，第2搬运机器人14有时也不移动而回转，将基板W搬入所希望的基板处理单元15或者将处理完毕的基板W搬入缓冲单元13。作为第2搬运机器人14能够使用例如具有机械臂、机械手、移动机构等的机器人。基板本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，具备：退避室；一对处理室，将上述退避室夹在中间地设置；处理部，能够遍及上述退避室内和上述一对处理室内地移动地设置，对上述处理室内的基板上提供处理液，并且加热该基板上的处理液；以及移动机构，使上述处理部遍及上述退避室内和上述一对处理室内地移动。

【技术特征摘要】
2015.09.30 JP 2015-195273;2016.08.31 JP 2016-169501.一种基板处理装置，其特征在于，具备：退避室；一对处理室，将上述退避室夹在中间地设置；处理部，能够遍及上述退避室内和上述一对处理室内地移动地设置，对上述处理室内的基板上提供处理液，并且加热该基板上的处理液；以及移动机构，使上述处理部遍及上述退避室内和上述一对处理室内地移动。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述移动机构为使上述处理部遍及上述退避室内和上述一对处理室内地摆动的摆动机构。3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述移动机构使上述处理部交替地移动到上述一对处理室。4.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，具备设置在上述退避室内、洗净上述处理部的洗净部。5.如权利要求1至4中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，上述处理部为与上述基板上的处理液接触、加热上述基板上的处理液的加热器，上述加热器具有给上述基板提供上述处理液的喷嘴。6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，上述加热器中的与上述基板的被处理面相对置的对置面为与上述基板中的上述被处理面的形状相似的形状，具有全部覆盖上述被处理面的大小，上述喷嘴设置在上述对置面的中央。7.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，上述处理部为与上述基板...

【专利技术属性】
技术研发人员：古矢正明，森秀树，
申请(专利权)人：芝浦机械电子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP