【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种通过一边使基板旋转一边向基板供给处理液来处理基板的基板处理技术。作为处理对象的基板包括半导体晶圆、液晶显示装置用玻璃基板、等离子显示面板用玻璃基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板以及光掩膜用基板等各种基板。
技术介绍
在如这样的基板的制造工艺中,例如在专利文献1、2中披露了如下的处理基板的装置。该处理基板的装置具有:双流体喷嘴和向基板上喷出处理液的连续流的喷嘴(也称为“直喷嘴”)。该双流体喷嘴是将处理液与被加压的气体混合来生成处理液的液滴的喷流,向基板喷射生成的液滴的喷流。通过使这些喷嘴沿着基板的上方的同一路径相隔规定的间隔一体地进行扫描,来处理基板。专利文献1的基板处理装置在从直喷嘴沿着铅垂方向朝向基板喷出比较少量的纯水等清洗液的连续流,来利用清洗液浸湿基板表面的状态下,从双流体喷嘴沿着铅垂方向朝向基板喷出比较大量的清洗液的雾来清洗基板。通过这样,与向干燥的基板喷出清洗液的雾的情况相比,能够抑制雾从基板表面飞散,防止产生因飞散的清洗液的雾附着于基板而导致的水印状的缺陷。另外,该装置在双流体喷嘴与直喷嘴之间具有遮挡板。通过这样,该装置避免因清洗液的连续流和清洗液的雾在到达基板表面为止的路径途中相互干扰而导致的清洗液的雾飞散。进一步地,该装置还通过沿着铅垂方向喷出用于浸湿基板表面的清洗液的连续流,来降低向基板上喷出的该连续流的水平方向的动能,以此防止基板表面的清洗液的 ...
【技术保护点】
一种基板处理装置,其特征在于,具有:旋转保持部,一边水平地保持基板一边使该基板旋转,第一喷嘴,将处理液与被加压的气体混合来生成所述处理液的液滴的喷流,向所述基板的上表面沿着大致铅垂方向喷射所述液滴的喷流,第二喷嘴,向所述基板的上表面喷出所述处理液的连续流,喷嘴移动部,一边保持所述第一喷嘴与所述第二喷嘴的位置关系恒定,一边使所述第一喷嘴和所述第二喷嘴在所述基板的上方一体地移动;所述喷嘴移动部以使所述液滴的喷流在所述基板上的着落位置经过所述基板的旋转中心的方式移动所述第一喷嘴,在所述位置关系中,当所述第一喷嘴位于所述基板的周缘部的上方时,所述连续流在所述基板上的着落位置位于比所述液滴的喷流的着落位置更靠所述基板的旋转中心侧的位置,所述基板的旋转轨迹上的所述液滴的喷流的着落位置和所述连续流的着落位置这两者的移动路径不同,和/或所述连续流和所述液滴的喷流这两者的流向不同,所述这两者的移动路径的不同是由于当所述第一喷嘴位于所述基板的周缘部的上方时,所述连续流的着落位置位于比所述液滴的喷流的着落位置的移动路径更靠所述基板的旋转方向的下游侧的位置,所述这两者的流向的不同是由于所述连续流的方向相对于铅 ...
【技术特征摘要】
2014.09.18 JP 2014-1901001.一种基板处理装置,其特征在于,具有:
旋转保持部,一边水平地保持基板一边使该基板旋转,
第一喷嘴,将处理液与被加压的气体混合来生成所述处理液的液滴的喷
流,向所述基板的上表面沿着大致铅垂方向喷射所述液滴的喷流,
第二喷嘴,向所述基板的上表面喷出所述处理液的连续流,
喷嘴移动部,一边保持所述第一喷嘴与所述第二喷嘴的位置关系恒定,
一边使所述第一喷嘴和所述第二喷嘴在所述基板的上方一体地移动;
所述喷嘴移动部以使所述液滴的喷流在所述基板上的着落位置经过所述
基板的旋转中心的方式移动所述第一喷嘴,
在所述位置关系中,当所述第一喷嘴位于所述基板的周缘部的上方时,
所述连续流在所述基板上的着落位置位于比所述液滴的喷流的着落位置更靠
所述基板的旋转中心侧的位置,
所述基板的旋转轨迹上的所述液滴的喷流的着落位置和所述连续流的着
落位置这两者的移动路径不同,和/或所述连续流和所述液滴的喷流这两者的
流向不同,
所述这两者的移动路径的不同是由于当所述第一喷嘴位于所述基板的周
缘部的上方时,所述连续流的着落位置位于比所述液滴的喷流的着落位置的
移动路径更靠所述基板的旋转方向的下游侧的位置,
所述这两者的流向的不同是由于所述连续流的方向相对于铅垂方向以越
接近所述基板则所述液滴的喷流与所述连续流之间的间隔越宽的方式倾斜。
2.如权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,所述这两者的移动
路径相互重合,并且所述这两者的流向不同。
3.一...
【专利技术属性】
技术研发人员:藤原直澄,江户彻,菅原雄二,阿野诚士,泽岛隼,
申请(专利权)人:株式会社思可林集团,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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