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提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够对基板面更加均匀地实施处理，并能够提高处理能力。基板处理装置（１）具有：液体喷嘴（１６），其一边水平搬送基板（２）一边在其上表面形成显影液的液层（Ｘ）；除去单元，其用于除去形成于基板（２）上的液层（...
该专利属于大日本网屏制造株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过大日本网屏制造株式会社授权不得商用。

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