一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及用于金属薄板带在真空条件下表面物理气相沉积的领域。一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组（１０），其主要特点在于设置的真空镀膜室包括有１－３个Ａ低真空室（２０ａ），１－３离子处理室（３０），１－５个Ｂ低真空室（４０），１－９个高真空室（５０），１－８个镀膜室（６０），１－３个Ａ低真空室（２０ｂ），室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带（１）通过的窗口（２）；１－３个Ａ低真空室（２０ａ），１－３个离子处理室（３０），１－５个Ｂ低真空室（４０），１－５个高真空室（５０），１－５个镀膜室（６０），１－３个Ａ低真空室（２０ｂ）与真空机组（９０）相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组（８０），连续镀膜的控制系统（１００）。这种装置的优点在于：可在金属薄板带上镀多层膜、反应膜，膜层厚度可独立进行控制，膜层均匀致密，附着力强适合工业化生产。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及用于金属薄板带在真空条件下表面物理气相沉积的领域。技术背景目前，国内在金属薄板带表面进行连续处理都采用热涂的形式，采用这种方法具 有以下缺点(1)涂层材料熔点温度低，不能涂熔点高的材料；(2)涂层厚，并且只能双面同 时涂；(3)只能涂单一的材料；(4)涂层色泽、均勻性、附着力较差。生产的钢带只能用于低 端市场。为弥补热涂工艺的不足，此前国内又开发了间歇式真空电子束蒸发、真空磁控溅 射、真空多弧离子等镀膜设备，但这类设备存在以下缺点(1)抽真空时间、装卸板带占用 的时间比较长，每镀完一卷要打开真空室门装卸带卷，生产效率低，不适合工业连续生产；每周期镀膜参数难以保证一致，产品质量一致性差；(3)磁控靶或多弧源在暴露大气后 有一定程度的氧化和污染，影响膜层质量。而国外钢带表面采用真空条件下的镀膜技术发展较早，已经比较成熟。比较常用 的是真空条件下大功率电子束蒸发镀膜技术。进口此类设备价格非常昂贵，而随着我国国 民经济的发展，对钢带真空镀膜产品的需求量增长很大，因此，急需开发此类设备。
技术实现思路
本技术的目的在于避免现有技术的不足，提供一种用于金属薄板带在真空条 件下连续进行表面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组（１０），其特征在于设置的真空镀膜室包括有１－３个Ａ低真空室（２０ａ），１－３个离子处理室（３０），１－５个Ｂ低真空室（４０），１－９个高真空室（５０），１－８个镀膜室（６０），１－３个Ａ低真空室（２０ｂ），室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带（１）通过的窗口（２）；１－３个Ａ低真空室（２０ａ），１－３个离子处理室（３０），１－５个Ｂ低真空室（４０），１－５个高真空室（５０），１－５个镀膜室（６０），１－３个Ａ低真空室（２０ｂ）与真空机组（９０）相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组（８０），连续镀膜的控制系统（１００）。

【技术特征摘要】
一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组(10)，其特征在于设置的真空镀膜室包括有1-3个A低真空室(20a)，1-3个离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-9个高真空室(50)，1-8个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；1-3个A低真空室(20a)，1-3个离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-5个高真空室(50)，1-5个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)。2.如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于所述的 开卷机组(10)包括上卷滚轮(10-1)，开卷滚轮(10-2)，在上卷滚轮(10-1)与开卷滚轮 (10-2)的前方设有切头(10-3)、焊接(10-4)；在则昆(10-5)和2#S辊(10-7)之间设有 入口金属薄板带(1)张紧轮系统(10-6)；在2#5辊(10-7)之后设有清洗系统(10-8)，热风 干燥(10-9)。3.如权利要求2所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于所述的 入口金属薄板带(1)张紧轮系统(10-6)包括有固定辊系(10-6-1)；在导轨(10-6-5)上设 有导向轮(10-6-4)，导向轮(10-6-4)与活动辊系(10-6-2)连接，驱动装置(10_6_3)设于 活动辊系(10-6-2)上。4.如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于所述的 A低真空室(20a、20b)包括有室体(20-1)，其内设有隔板(20+1)将室体(20-1)分隔成 2-6个真空室；隔板(20-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(20-1)的入 口处或出口处或室体(20-1)中部隔板的窗口(2)处设有密封输送辊装置(20-2)，动力驱 动机构(20-3)设于密封输送辊装置(20-2)上；室体(20-1)的上部设有上盖(20_4)，其间 设有上盖密封装置(20-6)，下部设有机架(20-5)；室体连接处设有密封装置(20-7)；室体 (20-1)内与滑阀泵机组(90-1、90-2)、罗茨泵(90-3)相连通。5.如权利要求4所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于所 述的密封输送辊装置(20-2)包括相互平行的两个橡胶辊(20-2-3)支撑于两端的轴承 座(20-2-5)上，传动齿轮(20-2-1)分别设于两个橡胶辊(20-2-3)的两端，在橡胶辊 (20-2-3)轴的一端连接有动力驱动机构(20-3)；在橡胶辊(20-2-3)轴的两端设有弹簧 (20-2-2)，密封板(20-2-4)设于橡胶辊(20_2_3)上；在金属薄板带(1)通过的窗口(2)的 两侧设有通过密封垫(20-2-6)与室体连接的联结座(20-2-7)，其上设有弹簧片(20_2_8)， 将塑料板(20-2-9)压紧在两个橡胶辊(20-2-3)上。6.如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于所述的 离子处理室(30)包括有室体(30-1)，其内设有隔板(...

【专利技术属性】
技术研发人员：范多望，范多进，孔令刚，令晓明，
申请(专利权)人：兰州大成科技股份有限公司，兰州大成真空科技有限公司，常州大成绿色镀膜科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：62[中国|甘肃]