金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及用于金属薄板带在真空条件下表面物理气相沉积的领域。一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组（１０），其主要特点在于设置的真空镀膜室包括有１－５个Ａ低真空室（２０ａ），１－３离子处理室（３０），１－５个Ｂ低真空室（４０），２－９个高真空室（５０），１－８个镀膜室（６０）；１－５个Ａ低真空室（２０ｂ），室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带（１）通过的窗口（２）；各真空室与真空机组（９０）相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组（８０），连续镀膜的控制系统（１００）。这种装置的优点在于：可在金属薄板带上镀多层膜、反应膜，膜层厚度可独立进行控制，膜层均匀致密，附着力强，工艺重复性好、生产效率高适合工业化生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于金属薄板带在真空条件下表面物理气相沉积的领域。
技术介绍
目前，国内在金属薄板带表面进行连续处理都采用热涂的形式，采用这种方法具有以下缺点(1)涂层材料熔点温度低，不能涂熔点高的材料；(2) 涂层厚，并且只能双面同时涂；(3)只能涂单一的材料；(4)涂层色 泽、均匀性、附着力较差。生产的钢带只能用于低端市场。为弥补热涂工艺 的不足，此前国内又开发了间歇式真空电子束蒸发、真空磁控溅射、真空多 弧离子等4^设备，但这类设备存在以下缺点(l)抽真空时间、装卸板带 占用的时间比较长，每镀完一巻要打开真空室门装卸带巻，生产效率4氐，不 适合工业连续生产；(2 )每周期| #^难以保证一致，产品质量一致性差；(3) 磁控把或多弧源在暴露大气后有一定程度的氧化和污染，影响膜层质 量。而国外钢带表面采用真空条件下的镀膜技术;^较早，已经比4交成熟。 比较常用的是真空条件下大功率电子束蒸发镀膜技术。进口此类设备价格非 常昂贵，而随着我国国民经济的发展，对钢带真空镀膜产品的需求量增长很 大，因此，急需开发此类设备。
技术实现思路
本专利技术的目的在于避免现有技术的不足，提供一种用于金属薄板带在真 空条件下连续进行表面镀膜的装置，在金属薄板带表面采用真空条件下物理 气相沉积进行改性处理的装置。这种装置的优点在于可在金属薄板带上镀 多层膜、反应膜、膜层厚度可独立进行控制、膜层均匀致密、附着力强、适 合工业化生产。为实现上述目的，本专利技术采取的技术方案为 一种金属薄板带连续进行 表面真空镀膜装置，包括开巻机组(IO)，其主要特点在于设置的真空镀膜室包括有1-5个A低真空室(20a)， 1-3离子处理室(.30)， l-5个B低真空 室(40 )， 2-9个高真空室(50 )， 1-8个镀膜室(60 ); 1-5个A低真空室(20b )， 室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口 (2);各 真空室与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收巻机组(80)，连 续镀膜的控制系统(100)。所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的开巻机组(10) 包括上巻滚轮(10-1),开巻滚轮(10-2 )，在上巻滚轮(10-1)与开巻滚 轮(10-2 )的前方设有切头(10-3 )、焊接(10-4 );在1#S辊(10-5 )和2#S 辊(10-7 )之间设有入口金属薄板带(1 )张紧轮系统(10-6 );在2#S辊(10-7 ) 之后设有清洗系统(10-8 )，热风干燥(10-9 )。所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的入口金属薄板带 (1)张紧轮系统(10-6 )包括有固定辊系(10-6-1);在导轨(10-6-5 )上 设有导向轮(10-6-4)，导向轮(10-6-4)与活动辊系(10-6-2)连接，驱 动装置(10-6-3)设于活动辊系(10-6-2)上。所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的A低真空室(20a 、 20b)包括有室体(20-1),其内设有隔板(20-1-1)将室体(20-1)分隔成 2-6个真空室；隔板(20-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口 ( 2 );在 室体(20-1)的入口处或出口处或室体(20-1)中部隔板的窗口 (2)处设 有密封输送辊装置(20-2 )，动力驱动机构(20-3 )设于密封输送辊装置(20-2 ) 上；室体(20-1)的上部i殳有上盖(20-4 )，其间i殳有上盖密封装置(20-6 )， 下部设有机架(20-5);室体连接处设有密封装置(20-7);室体(20-l)内 与滑阀泵机组(90-l、 90-2)、罗茨泵(90-3)相连通；A低真空室(20a、 20b )的真空度为300Pa-2000Pa。室体中间位置通过2至4套密封辊装置把 室体分隔成三至五部分，从进料C低真空室，20b为从出料端，开始每部分真 空度有一个阶梯形的降低，经过A低真空室20a、 C低真空室20b后真空度 可达到5Pa以下。室体根据制造需要，可做成整体或分两件。所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的密封输送辊装置 (20-2 )包括相互平行的两个橡胶辊(20-2-3)支撑于两端的轴承座(20-2-5) 上，传动齿轮(20-2-1)分别设于两个橡胶辊(20-2-3)的两端，在橡胶辊 (20-2-3)轴的一端连接有动力驱动机构(20-3);在橡胶辊(20-2-3)轴的两端设有弹簧(20-2-2)，密封板(20-2-4)设于橡胶辊(20-2-3)上；在金属薄板 带(1)通过的窗口 (2)的两侧设有通过密封垫(20-2-6)与室体连接的联结 座(20-2-7)，其上设有弹簧片(20-2-8)，将塑料板(20-2-9)压紧在两个橡胶 辊(20-2-3)上。所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的离子处理室(30) 包括有室体(30-1 )，其内设有隔板(30-1-1)将室体(30-1)分隔成2-4 个真空室；在室体(30-1)的两端及隔板(30-1-1)上设有金属薄板带(1) 通过的窗口 (2);在室体(30-1)内设有高压离子处理系统(30-2);在室 体(30-1)内设有布气系统(30-3);室体(30-1)的上部设有上盖(30-4 )， 其间设有上盖密封装置(30-7)，中部设有观察窗(30-5)，下部设有机架 (30-6 );室体连接处设有密封装置(30-8 );室体(30-1)内与滑阀泵4几组、 罗茨泵(90-4)相连通；离子处理室(30)的真空度为1Pa-5Pa。所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的B低真空室(40 ) 包括有室体(40-1)，其内设有隔板(40-1-1)将室体(40-1)分隔成2-4 个真空室；在室体(40-1)的两端及隔板(40-1-1)上设有金属薄板带(1) 通过的窗口 (2);室体(40-1)的上部设有上盖(40-2)，其间设有上盖密 封装置(40-3)，中部设有观察窗(40-5)，下部设有机架(40-6);室体连 接处设有密封装置(40-4);室体(40-1)内与滑阀泵机组、罗茨泵(90-5) 相连通。室内真空度可达到5Pa以下；B低真空室(40)的真空度为1Pa-300Pa。所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所迷的高真空室(50) 包括有室体(50-1),其内设有隔板(50-1-1)将室体(50-1)分隔成2-4 个真空室；在室体(50-1)的两端及隔板(50-1-1)上设有金属薄板带(1) 通过的窗口 (2);室体(50-1)的上部设有上盖(50-2),其间设有上盖密 封装置(50-4)，下部设有机架(50-3);室体连接处设有密封装置(50-5 ); 室体(50-l)内与扩散泵、滑阀泵才几组、罗茨泵(90-6)相连通；高真空室 (50)的真空度为7x10-3Pa-5Pa。室内极限压力可达到7 x 10-3Pa以下。高 真空室在每个镀膜室两侧各布置一个，当镀膜室有多个时，则高真空室数量 相应增加，数量比镀膜室数量多l个。所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所迷的镀膜室(60)包 括有室体(60-1);其内设有隔板(60-1-1)将室体(60-1)分隔成2-4个8本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组（１０），其特征在于设置的真空镀膜室包括有１－５个Ａ低真空室（２０ａ），１－３离子处理室（３０），１－５个Ｂ低真空室（４０），２－９个高真空室（５０），１－８个镀膜室（６０）；１－５个Ａ低真空室（２０ｂ），室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带（１）通过的窗口（２）；各真空室设置与真空机组（９０）相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组（８０），连续镀膜的控制系统（１００）。

【技术特征摘要】
1.一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组(10)，其特征在于设置的真空镀膜室包括有1-5个A低真空室(20a)，1-3离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，2-9个高真空室(50)，1-8个镀膜室(60)；1-5个A低真空室(20b)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；各真空室设置与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)。2. 如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在 于所述的升巻机组(10)包括上巻滚轮(10-1),开巻滚轮(10-2 )， 在上巻滚轮(10-1)与开巻滚轮(10-2 )的前方设有切头(10-3)、焊接(10-4 );在1#S辊(10-5 )和2#S辊(10-7 )之间设有入口金属薄板带 (1)张紧轮系统(10-6 );在2#S辊(10-7 )之后设有清洗系统(10-8 )， 热风干燥(10-9)。3. 如权利要求2所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在 于所述的入口金属薄板带(1)张紧轮系统(10-6)包括有固定辊系 (10-6-1);在导轨(10-6-5)上设有导向轮(10-6-4)，导向轮(10-6-4) 与活动辊系(10-6-2 )连接，驱动装置(10-6-3 ) i殳于活动辊系(10-6-2 ) 上。4. 如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于 所述的A低真空室(20a、 20b )包括有室体(20-1 )，其内设有隔板(20-1-1) 将室体(20-1)分隔成2-6个真空室；隔板(20-1-1)上设有金属薄板带(l)通过的窗口 (2);在室体(20-1)的入口处或出口处或室体(20-1) 中部隔板的窗口 ( 2 )处设有密封输送辊装置(20-2 ),动力驱动机构(20-3 )设于密封输送辊装置(20-2 )上；室体(20-1)的上部设有上盖(20-4 ), 其间设有上盖密封装置(20-6)，下部设有机架(20-5);室体连接处设 有密封装置(20-7);室体(20-1)内与滑阀泵机組(90-1、 90-2 )、罗 茨泵(90-3)相连通；A低真空室(20a、 20b)的真空度为300Pa-2000Pa。5. 如权利要求4所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在 于所述的密封输送辊装置(20-2)包括相互平行的两个橡胶辊(20-2-3) 支撑于两端的轴承座(20-2-5)上，传动齿轮(20-2-l)分别设于两个橡胶辊 (20-2-3)的两端，在橡胶辊(20-2-3)轴的 一端连接有动力驱动机构 (20-3 );在橡胶辊(20-2-3)轴的两端设有弹簧(20-2-2),密封板(20-2-4)设于橡胶辊(20-2-3)上；在金属薄板带(1)通过的窗口 (2)的两侧设有 通过密封垫(20-2-6)与室体连接的联结座(20-2-7),其上设有弹簧片 (20-2-8),将塑料板(20-2-9)压紧在两个橡胶辊(20-2-3)上。6. 如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于 所述的离子处理室(30)包括有室体(30-1),其内设有隔板(30-1-1) 将室体(30-1 )分隔成2-4个真空室；在室体(30-1 )的两端及隔板(30-1-1) 上设有金属薄板带(1)通过的窗口 (...

【专利技术属性】
技术研发人员：范多望，范多进，孔令刚，令晓明，
申请(专利权)人：兰州大成自动化工程有限公司，兰州大成真空科技有限公司，常州大成绿色镀膜科技有限公司，
类型：发明
国别省市：62[]