舟形构件制造技术

本发明专利技术提供一种舟形构件，在批式热处理装置中，在搭载并支持了基 板的舟形构件上形成支持基板的长边侧的第一及第二支持道，防止在热处 理进行过程中基板因自身载荷而变形。本发明专利技术所涉及的舟形构件是在批式 热处理装置中、在提供用于执行热处理工序的空间的室内、用于搭载多个 基板的结构，包括：下部框架；上部框架；以及多个垂直框架，与上述下 部框架及上述上部框架连接，形成有在上述基板的内侧方向上延伸的多个 第一支持道；还包括：第二支持道，与上述各垂直框架的第一支持道相互 连接。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及批(batch)式热处理装置中、搭载并支持基板的舟形构件 (boat)。更详细地，本专利技术涉及批式热处理装置中、为了能够在热处理的 迸行过程中防止基板因自身载荷变形而包括支持基板的长边侧的第一及第 二支持道的舟形构件。
技术介绍
在平板显示器的制造时使用的大面积基板的处理系统，分为蒸镀装置 和退火装置。蒸镀装置是负责形成作为平板显示器的核心结构的透明传导层、绝缘 层、金属层还有硅层的阶段的装置，例如有LPCVD (低压化学气相淀积 Low Pressure Chemical Vapor Deposition)或PECVD (等离子增强化 学气相淀积Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)这样的化 学气相蒸镀装置和溅射(sputtering)这样的物理性气相蒸镀装置。另外， 退火装置作为负责蒸镀工序后提高被蒸镀的膜的特性的阶段的装置，例如 有用于对被蒸镀的膜进行决定或相变的热处理装置。通常，在热处理装置中，存在对一个基板执行热处理的单片式和对多 个基板执行热处理的批式。单片式具有装置的结构简单这一优点，但是由 于存在生产力低下这一缺点，所以为了大量生产，批式受到瞩目。在批式热处理装置中，在提供对多个基板能够同时进行热处理的热处 理空间的室内，搭载并支持多个基板的舟形构件是必需的。另一方面，随着最近平板显示器的尺寸增加，对稳定地搭载并支持大 面积的基板的舟形构件的需求愈发增加。特别是，在以往的舟形构件中， 存在以下问题即在热处理过程中由于基板的自身载荷而发生如基板的折 曲等的变形，平板显示器的显示特性下降或不均匀。
技术实现思路
因此，为了解决上述问题而完成的本专利技术的目的在于提供一种舟形构 件，在对搭载于批式热处理装置上的多个基板执行热处理工序时，通过由 第一及第二道支持被搭载的基板的长边侧来分散基板的载荷，从而防止基 板的变形。为了达到上述目的，本专利技术所涉及的舟形构件配置在室内，并搭载了 多个基板，上述室提供用于由批式热处理装置执行热处理工序的空间，上述舟形构件的特征在于，包括下部框架；上部框架；以及多个垂直框架， 与上述下部框架及上述上部框架连接，形成有在上述搭载的基板的内侧方 向上延伸的多个第一支持道；还包括第二支持道，与上述各垂直框架的 第一支持道相互连接。在此，优选上述第一支持道和上述第二支持道相互垂直。 另外，优选上述第一支持道和上述第二支持道支持上述基板的长边侧。 另外，优选上述基板与上述第一支持道及上述第二支持道之中的至少 一个接触并被支持。进而，优选上述基板与上述第一支持道及第二支持道同时接触并被支持。专利技术效果根据本专利技术，通过具备支持被搭载在批式热处理装置的舟形构件上的 基板的长边侧的第一及第二道，在进行对基板的热处理工序时，有分散基 板的载荷并防止基板的变形的效果。另外，根据本专利技术，能够对于在批式 热处理装置的舟形构件上所搭载的基板，使基板没有变形地进行热处理工 序，所以有提高在基板上形成的平板显示器的显示特性的效果。附图说明图1是表示本专利技术的一个实施方式所涉及的舟形构件的结构的立体图。图2是表示本专利技术的一个实施方式所涉及的舟形构件的第一及第二支持道的结构的立体图。图3是表示在本专利技术的一个实施方式所涉及的舟形构件上搭载了基板 的状态的立体图。符号说明10基板100舟形构件110下部框架120上部框架200垂直框架210第一支持道220第二支持道具体实施例方式以下，参照附图详细说明本专利技术的结构。 本专利技术所涉及的舟形构件能够在用于对多个基板同时进行热处理的批式热处理装置中使用。批式热处理装置可以构成为包括在内部提供热处 理空间的室、用于加热基板的加热器、以及为了调节热处理工序的氛围而 供给或排出氛围气体的气体供给管及气体排出管。这样的批式热处理装置 的结构和使用批式热处理装置的热处理工序由于在本领域中为众所周知的 公知技术，所以省略对其的详细说明。图1是表示本专利技术的一个实施方式所涉及的舟形构件(boat)100的结构 的立体图。图2是表示本专利技术的一个实施方式所涉及的舟形构件100的第 一及第二支持道210、 220的结构的立体图。图3是表示在本专利技术的一个实 施方式所涉及的舟形构件100上搭载了基板10的状态的立体图。如图1所示，舟形构件100构成为包括下部及上部框架IIO、 120; 垂直框架200，设置为与框架IIO、 120连接；以及，多个第一道210及多 个第二支持道220，上述多个第一道210形成在该垂直框架200上，上述 多个第二支持道220与各个第一道210垂直，并与第一道210相互连接。在批式热处理装置中，在提供热处理空间的室(不图示)的内部设置 了舟形构件100的状态下，在搭载基板10之后，可以进行热处理工序，根 据情况，也可以在设置在室的外部的舟形构件IOO上搭载基板IO，在该状 态下将舟形构件100插入室的内部，之后进行热处理工序。下部框架110和上部框架120是与后述的垂直框架200 —起作为舟形构件100的基板骨架的结构。下部框架110和上述框架120优选分别具有具备规定尺寸的长方形的 形状，相互以规定距离分离并与舟形构件100的两侧平行地配置在同一方 向上。此时，考虑通常在平板显示器制造用批式热处理装置上搭载的长方形 的基板10的尺寸，决定下部框架110和上部框架120的尺寸即可。垂直框架200与上述下部框架110及上部框架120连接，作为舟形构 件100的基本的骨架。垂直框架200的两端分别连接至下部框架110及上部框架120。此时， 垂直框架200配置于在舟形构件100上搭载的基板10的长边侧，并连接 至下部及上部框架110、 120。通常，在舟形构件100上设置有多个垂直框架200，此时优选垂直框 架200的形状及长度全部相同。如图1所示，例示了在舟形构件100上设 置的垂直框架200的个数以在基板10的两长边侧各设置3个全部6个的情 况，但不一定要限定于此，可以根据需要进行各种变更。另外，为了稳定 地支持被搭载在舟形构件100上的基板10，优选至少设置4个垂直框架 200，以连接在舟形构件100的两侧配置的下部框架110和上部框架120 的四角。第一支持道210形成在垂直框架200的一侧，起到支持被搭载在舟形 构件100上的基板10的长边侧的作用。此时，第一支持道210形成为在 基板10的内侧方向延伸的样子。在各个垂直框架200中，优选相同个数的第一支持道210以相同间隔 形成。在各垂直框架200上形成的第一支持道210的个数优选与能够搭载 在舟形构件100上的基板10的总数相同。因此，在一个舟形构件100上 形成的第一支持道210的总数可以是基板10的个数的6倍。例如，如图l 及图2所示，若假定在舟形构件100上能够搭载27个基板10，则在垂直 框架200上形成的第一支持道210的总数为162个。第一支持道210的长度和宽度可以在稳定支持基板10的长边侧的范围 内进行多种变更。第二支持道220与设置在各个垂直框架200上的多个第一支持道2106相互连接，以使得与第一支持道210 —起起到支持被搭载在舟形构件100 上的基板IO的长边侧的作用。此时，第二支持道220形成为与各第一支持 道210本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种舟形构件，配置在室内，并搭载了多个基板，上述室提供用于由批式热处理装置执行热处理工序的空间，上述舟形构件的特征在于，　包括：　下部框架；　上部框架；以及　多个垂直框架，与上述下部框架及上述上部框架连接，形成有在上 述搭载的基板的内侧方向上延伸的多个第一支持道；　还包括：　第二支持道，与上述各垂直框架的第一支持道相互连接。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：李炳一，赵庸根，
申请(专利权)人：泰拉半导体株式会社，
类型：发明
国别省市：KR