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本实用新型涉及用于金属薄板带在真空条件下表面物理气相沉积的领域。一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组（１０），其主要特点在于设置的真空镀膜室包括有１－３个Ａ低真空室（２０ａ），１－３离子处理室（３０），１－５个Ｂ低真空室（４...该专利属于兰州大成科技股份有限公司;兰州大成真空科技有限公司;常州大成绿色镀膜科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过兰州大成科技股份有限公司;兰州大成真空科技有限公司;常州大成绿色镀膜科技有限公司授权不得商用。