【技术实现步骤摘要】
半导体封装件本申请要求于2018年10月25日在韩国知识产权局提交的第10-2018-0128063号韩国专利申请的优先权的权益,所述韩国专利申请的公开内容通过引用被全部包含于此。
本公开涉及一种半导体封装件,例如,涉及一种扇出型半导体封装件。
技术介绍
半导体封装件在设计方面正在不断地追求轻、薄、短和小的形状,并且在功能性方面正在追求提供复杂性和多样性的系统级封装(SiP)结构。为此,多个芯片和组件安装在单个封装件中,因此,对用于屏蔽组件之间的电磁波干扰和用于改善散热功能的技术的兴趣正在增加。另外,还使用用于堆叠封装件的布线结构。具体地,当在半导体芯片的上部上设置金属层用于EMI屏蔽、散热、布线等时,通常在从半导体芯片的包封剂去除载体之后形成化学铜层。在这种情况下,可能存在包封剂和化学铜层之间的粘合力减小以及工艺变复杂的问题。
技术实现思路
本公开的一方面将提供一种在半导体芯片的上部上的金属层和包封剂之间的粘合力得到提高的半导体封装件,并且将提供一种使用简化的工艺制造半导体封装件的方法。根据本公开的一方面,在半导体封装件中,使用位于具有表面粗糙度的包封剂上的第一导电层形成金属层。例如,一种半导体封装件包括:半导体芯片,具有其上设置有连接垫的有效表面和与所述有效表面相对的无效表面;以及第一包封剂,覆盖所述半导体芯片的所述无效表面和侧表面中的每个的至少一部分。金属层设置在所述第一包封剂上,并且包括顺序地堆叠的第一导电层和第二导电层。连接结构设置在所述半导体芯片的所述有 ...
【技术保护点】
1.一种半导体封装件,所述半导体封装件包括:/n半导体芯片,具有其上设置有连接垫的有效表面和与所述有效表面相对的无效表面;/n第一包封剂,覆盖所述半导体芯片的所述无效表面和侧表面中的每个的至少一部分;/n金属层,设置在所述第一包封剂上,并且包括顺序地堆叠的第一导电层和第二导电层;以及/n连接结构,设置在所述半导体芯片的所述有效表面上,并且包括电连接到所述连接垫的第一重新分布层,/n其中,所述第一导电层的下表面与所述第一包封剂接触并且具有第一表面粗糙度,并且所述第一导电层的上表面与所述第二导电层接触并且具有小于所述第一表面粗糙度的第二表面粗糙度。/n
【技术特征摘要】
20181025 KR 10-2018-01280631.一种半导体封装件,所述半导体封装件包括:
半导体芯片,具有其上设置有连接垫的有效表面和与所述有效表面相对的无效表面;
第一包封剂,覆盖所述半导体芯片的所述无效表面和侧表面中的每个的至少一部分;
金属层,设置在所述第一包封剂上,并且包括顺序地堆叠的第一导电层和第二导电层;以及
连接结构,设置在所述半导体芯片的所述有效表面上,并且包括电连接到所述连接垫的第一重新分布层,
其中,所述第一导电层的下表面与所述第一包封剂接触并且具有第一表面粗糙度,并且所述第一导电层的上表面与所述第二导电层接触并且具有小于所述第一表面粗糙度的第二表面粗糙度。
2.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,所述金属层的至少一部分设置为在所述半导体芯片在所述连接结构上的堆叠方向上与所述半导体芯片重叠。
3.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,所述第一导电层和所述第二导电层利用相同的金属材料形成。
4.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,所述金属层电连接到所述半导体芯片以形成第二重新分布层。
5.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,所述金属层延伸到所述第一包封剂的整个上表面上。
6.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,所述第二导电层的上表面具有所述第二表面粗糙度。
7.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,所述第一包封剂的上表面具有所述第一表面粗糙度。
8.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,所述第二导电层为使用所述第一导电层作为种子层形成的电镀层。
9.根据权利要求1所述的半导体封装件,所述半导体封装件还包括:
框架,设置在所述连接结构上,并且具有其中设置有所述半导体芯片的第一通孔。
10.根据权利要求9所述的半导体封装件,所述半导体封装件还包括:
过孔,穿过所述第一包封剂以使所述金属层连接到所述框架。
11.根据权利要求10所述的半导体封装件,其中,所述过孔延伸穿过所述第一导电层以接触所述第二导电层。
12.根据权利要求9所述的半导体封装件,其中,所述框架还具有第二通孔,并且
所述半导体封装件还包括设置在所述第二通孔中的一个或更多个无源组件。
13.根据权利要求12所述的半导体封装件,所述半导体封装件还包括:
第二包封剂,覆盖所述一个或更多...
【专利技术属性】
技术研发人员:文昭渊,沈智慧,蔡昇训,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国;KR
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