晶圆用覆膜装置制造方法及图纸

技术编号:21063287 阅读:35 留言:0更新日期:2019-05-08 08:43
本发明专利技术涉及芯片加工领域,具体公开了晶圆用覆膜装置,包括覆膜底座,覆膜底座上设有用于固定待覆膜晶圆的固定槽,固定槽的外围设有一圈与固定槽同心设置的环形槽;覆膜底座的上方设有覆膜机构,覆膜机构包括中部的伸缩套筒,伸缩套筒的顶部设有水囊,伸缩套筒的底部设有滴水孔,伸缩套筒上铰接有多个可沿晶圆中部径向滑动的挤压组件,挤压组件与伸缩套筒之间活动连接有限位驱动件。本发明专利技术解决了现有技术中对晶圆贴膜过程中存在的容易出现气泡的问题。

Film Coating Device for Wafer

【技术实现步骤摘要】
晶圆用覆膜装置
本专利技术涉及芯片加工领域,具体涉及晶圆用覆膜装置。
技术介绍
晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆。在晶圆上可加工制作成各种电路元件结构,通常将晶圆电路面,即完成芯片功能的那一面称为正面,另外一面即为背面。在晶圆加工过程中,通常要经过切割过程,在晶圆切割前,为了在切割晶圆时保护晶圆通常会在晶圆的背面贴附一层薄膜,即贴附切割膜。传统的贴膜工艺,薄膜成卷地设置,薄膜卷旋转后不断放出薄膜,薄膜的面积大于晶圆的面积。将薄膜贴附在晶圆表面后,手持或者利用机械手夹持刀片沿晶圆的边缘切割薄膜,将超出晶圆的多余薄膜切除,从而完成在晶圆表面贴膜的工艺。但是上述的贴膜过程中,由于贴膜操作人员施力大小的不同,时常会造成晶圆与薄膜之间存在气泡。当晶圆表面出现气泡后则需要将已贴的薄膜去除,再进行二次贴膜,不仅浪费原料而且降低了贴膜的效率。
技术实现思路
本专利技术意在提供晶圆用覆膜装置,以解决现有技术中对晶圆贴膜过程中存在的容易出现气泡的问题。为达到上述目的,本专利技术的技术方案如下:晶圆用覆膜装置,包括覆膜底座,覆膜底座上设有用于固定待覆膜晶圆的固定槽,固定槽本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.晶圆用覆膜装置,其特征在于:包括覆膜底座,所述覆膜底座上设有用于固定待覆膜晶圆的固定槽,固定槽的外围设有一圈与固定槽同心设置的环形槽;覆膜底座的上方设有覆膜机构,所述覆膜机构包括中部的伸缩套筒,伸缩套筒的顶部设有水囊,伸缩套筒的底部设有滴水孔,伸缩套筒上铰接有多个可沿晶圆中部径向滑动的挤压组件,挤压组件与伸缩套筒之间活动连接有限位驱动件。

【技术特征摘要】
1.晶圆用覆膜装置,其特征在于:包括覆膜底座,所述覆膜底座上设有用于固定待覆膜晶圆的固定槽,固定槽的外围设有一圈与固定槽同心设置的环形槽;覆膜底座的上方设有覆膜机构,所述覆膜机构包括中部的伸缩套筒,伸缩套筒的顶部设有水囊,伸缩套筒的底部设有滴水孔,伸缩套筒上铰接有多个可沿晶圆中部径向滑动的挤压组件,挤压组件与伸缩套筒之间活动连接有限位驱动件。2.根据权利要求1所述的晶圆用覆膜装置,其特征在于:还包括机架,所述伸缩套筒包括转动连接在机架上的第一套筒,第一套筒内滑动连接有第二套筒,第二套筒的底部固接有密封板,所述密封板的底端中部设有弹性块,密封板与第一套筒之间固接有支撑弹簧。3.根据权利要求2所述的晶圆用覆膜装置,其特征在于:所述挤压组件包括多个铰接在第一套筒外壁的挤压杆,挤压杆的底端均活动连接有挤压块,挤压块内均设有开口槽,开口槽内均设有电动伸缩杆,电动伸缩杆的端部固接有切割刀。4.根据权利要求3所述的晶圆用覆膜装置...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄晓波罗云红
申请(专利权)人:安徽龙芯微科技有限公司
类型:发明
国别省市:安徽,34

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