The invention discloses a semiconductor encapsulation method and semiconductor structure, wherein the semiconductor packaging method comprises the following steps: S10, a lead frame, a lead frame having a first surface and a second surface opposite to the first surface, the etching process in the first half, the first half of the wire is formed on the surface of the etching area, at least one L shape. And a plurality of pins; S20, after the first half of the surface etched by insulating; S30, after the first chip welding wire insulation processing and so on both ends of the first lead exposed on the chip, S40, several pin ring is arranged at the outside of the chip, the chip electrode welding metal wire end and the other end. With the pin or exposed to the chip of S50, the first lead wire welding; welding wire lead frame after the postprocessing, complete the first lead a semiconductor package; The end is electrically connected to a pin. The invention can reduce the packaging area of the product by wiring the chip, so as to produce a miniaturized semiconductor structure.
【技术实现步骤摘要】
一种半导体封装方法及半导体结构
本专利技术涉及半导体
,具体涉及一种半导体封装方法及半导体结构。
技术介绍
随着半导体的技术发展和应用需求,半导体元器件朝着轻、薄、短、小的方向发展,以实现半导体器件小型化的发展趋势,这就要求封装设计者最大限度地利用封装空间,缩小产品。传统的半导体元器件中,如图1所示,由于芯片2′需要和引线框1′绝缘,引线框1′布线不能通过芯片2′下方,必须围绕在芯片2′的四周,导致产品的封装面积较大。对于某些不得不把线布在芯片下方的半导体器件,现有技术中通常采用多层PCB取代引线框架,由于多层PCB加工复杂,且价格远远高于引线框架,导致半导体元器件的生产成本非常高。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于提供一种半导体封装方法,以制得小型化的半导体结构。本专利技术的另一个目的在于提供一种半导体结构,其封装面积小。为达此目的,本专利技术采用以下技术方案:一方面,提供一种半导体封装方法,包括以下步骤:S10、提供一引线框,所述引线框具有相对的第一表面和第二表面,对所述第一表面进行半蚀刻处理,在所述第一表面成型第一半蚀刻区域以及第一非蚀刻区域,所述第一非蚀刻区域包括至少一个L形的第一引线和若干管脚;S20、对经过半蚀刻处理的所述第一表面进行绝缘处理;S30、将芯片焊接在经过绝缘处理的所述第一引线上并使所述第一引线的两端部外露于所述芯片,S40、若干所述管脚环设于所述芯片的外部,将金属导线的一端与所述芯片的电极焊接,另一端与所述管脚或外露于所述芯片的所述第一引线焊接;S50、对焊接金属导线后的所述引线框进行后处理,完成半导体封装;其中,所述第一 ...
【技术保护点】
一种半导体封装方法,其特征在于,包括以下步骤:S10、提供一引线框,所述引线框具有相对的第一表面和第二表面,对所述第一表面进行半蚀刻处理,在所述第一表面成型第一半蚀刻区域以及第一非蚀刻区域,所述第一非蚀刻区域包括至少一个L形的第一引线和若干管脚;S20、对经过半蚀刻处理的所述第一表面进行绝缘处理;S30、将芯片焊接在经过绝缘处理的所述第一引线上并使所述第一引线的两端部外露于所述芯片;S40、若干所述管脚环设于所述芯片的外部,将金属导线的一端与所述芯片的电极焊接,另一端与所述管脚或外露于所述芯片的所述第一引线焊接;S50、对焊接金属导线后的所述引线框进行后处理,完成半导体封装;其中,所述第一引线的一端与一个所述管脚电连接。
【技术特征摘要】
1.一种半导体封装方法,其特征在于,包括以下步骤:S10、提供一引线框,所述引线框具有相对的第一表面和第二表面,对所述第一表面进行半蚀刻处理,在所述第一表面成型第一半蚀刻区域以及第一非蚀刻区域,所述第一非蚀刻区域包括至少一个L形的第一引线和若干管脚;S20、对经过半蚀刻处理的所述第一表面进行绝缘处理;S30、将芯片焊接在经过绝缘处理的所述第一引线上并使所述第一引线的两端部外露于所述芯片;S40、若干所述管脚环设于所述芯片的外部,将金属导线的一端与所述芯片的电极焊接,另一端与所述管脚或外露于所述芯片的所述第一引线焊接;S50、对焊接金属导线后的所述引线框进行后处理,完成半导体封装;其中,所述第一引线的一端与一个所述管脚电连接。2.根据权利要求1所述的半导体封装方法,其特征在于,所述第一非蚀刻区域还包括被动元件座,所述管脚包括第一管脚和第二管脚,所述第一管脚成型于所述引线框相对的两端,所述第二管脚成型于所述被动元件座与所述芯片之间;步骤S40还包括:将被动元件焊接在经过绝缘处理的所述被动元件座上。3.根据权利要求2所述的半导体封装方法,其特征在于,在所述第一表面还成型有若干第二引线,所述第二引线邻近所述引线框的端部,所述第一引线位于所述第二管脚与所述第二引线之间。4.根据权利要求1所述的半导体封装方法,其特征在于,步骤S20具体包括:向所述第一表面涂覆绝缘材料,使所述绝缘材料覆盖所述第一半蚀刻区域及所述第一引线用于安装所述芯片的区域。5.根据权利要求3所述的半导体封装方法,其特征在于,步骤S50具体包括以下步骤:S51、对所述第一表面注塑环氧树脂封装材料;S52、对所述第二表面进行半...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐振杰,曹周,
申请(专利权)人:杰群电子科技东莞有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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