制备阴极环防反射膜用的掩膜及其使用方法技术

本发明专利技术公开了一种制备阴极环防反射膜用的掩膜及其使用方法，包括掩膜版，所述掩膜版上设有对应显示器上显示区的遮挡部、对应显示器上阴极环的镂空部，所述遮挡部位于所述掩膜版的中部，所述镂空部环绕在所述遮挡部的外围。本发明专利技术的制备阴极环防反射膜用的掩膜，利于在阴极环上设置防反射膜，具有不影响器件光电性能、工艺匹配程度高、遮挡效果好、工艺兼容性高，工艺优化快速简便等优点，解决了显示器的阴极环亮边问题。本发明专利技术适用于各种型号显示器的阴极环防反射膜的制备遮挡。

【技术实现步骤摘要】
制备阴极环防反射膜用的掩膜及其使用方法
本专利技术涉及一种用于阴极环的掩膜，尤其涉及一种制备阴极环防反射膜用的掩膜及其使用方法。
技术介绍
在OLED微型显示器的生产和制备过程中，一般采用顶发射式发光器件结构，其阳极为保证较高的反射率通常采用厚金属层制备，而阴极环与阳极一体制备成型，因此也有着较高的反射率。然而，与阳极一体制备成型的阴极环由于也具有较高的反射率，导致在器件使用时会看到显示区边界的亮边(即高反射阴极环)，影响显示效果。因此，为了提高显示效果，有必要设计一种掩膜达到前述目的。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题在于，提供一种利于防反射膜的设置，解决阴极环亮边问题的制备阴极环防反射膜用的掩膜及其使用方法。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种制备阴极环防反射膜用的掩膜，包括掩膜版，所述掩膜版上设有对应显示器上显示区的遮挡部、对应显示器上阴极环的镂空部，所述遮挡部位于所述掩膜版的中部，所述镂空部环绕在所述遮挡部的外围。优选地，所述镂空部的宽度为阴极环宽度的50％-500％。优选地，位于所述镂空部外围的掩膜版部分形成所述掩膜版的外圈部；所述垫高部设置在所述外圈部本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备阴极环防反射膜用的掩膜，其特征在于，包括掩膜版，所述掩膜版上设有对应显示器（1）上显示区（3）的遮挡部（10）、对应显示器（1）上阴极环（2）的镂空部（20），所述遮挡部（10）位于所述掩膜版的中部，所述镂空部（20）环绕在所述遮挡部（10）的外围。

【技术特征摘要】
1.一种制备阴极环防反射膜用的掩膜，其特征在于，包括掩膜版，所述掩膜版上设有对应显示器（1）上显示区（3）的遮挡部（10）、对应显示器（1）上阴极环（2）的镂空部（20），所述遮挡部（10）位于所述掩膜版的中部，所述镂空部（20）环绕在所述遮挡部（10）的外围。2.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，所述镂空部（20）的宽度为阴极环（2）宽度的50%-500%。3.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，位于所述镂空部（20）外围的掩膜版部分形成所述掩膜版的外圈部（30）。4.根据权利要求3所述的掩膜，其特征在于，所述掩膜版上还设有加强筋（40）；所述加强筋（40）穿过所述镂空部（20）连接在所述遮挡部（10）和外圈部（30）之间。5.根据权利要求4所述的掩膜，其特征在于，所述加强筋（40）的宽度为阴极环宽度的50%-500%。6.根据权利要求4所述的掩膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：茆胜，
申请(专利权)人：茆胜，
类型：发明
国别省市：广东,44