CGRP受体拮抗剂制造技术

式（Ⅰ）的化合物（其中变量Ｒ↑［１］、Ａ、Ｂ、Ｗ、Ｘ、Ｙ和Ｚ如本文中所定义的）用作ＣＧＲＰ受体拮抗剂和用于治疗或预防其中涉及ＣＧＲＰ的疾病，例如头痛、偏头痛和丛集性头痛。本发明专利技术还涉及含有这些化合物的药用组合物和这些化合物与组合物在预防或治疗其中涉及ＣＧＲＰ的这样疾病中的用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用作CGRP受体配体的化合物(特别是CGRP受体拮抗剂)、它们的制备方法、它们的治疗用途、含有它们的药用组合物和使用它们的治疗方法。 专利技术概述 本专利技术涉及以下式I的化合物 (其中变量R1、A、B、W、X、Y和Z如本文中所定义的)，其用作CGRP受体拮抗剂和用于治疗或预防其中涉及CGRP的疾病，如头痛、偏头痛和丛集性头痛。本专利技术还涉及含有这些化合物的药用组合物和这些化合物与组合物在预防或治疗其中涉及CGRP的这样疾病中的用途。 专利技术详述 本专利技术涉及CGRP拮抗剂，其包括式I的化合物及其药学上可接受的盐和各非对映异构体 其中 Z选自 和 A独立选自N和C(R2)； B为O或S； R1独立选自 1)H、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-6环烷基和杂环，未取代或被一个或多个各自独立选自以下的取代基取代 a)C1-6烷基， b)C3-6环烷基， c)未取代或被1-5个各自独立选自R4的取代基取代的芳基， d)未取代或被1-5个各自独立选自R4的取代基取代的杂芳基， e)未取代或被1-5个各自独立选自R4的取代基取代的杂环， f)(F)pC1-3烷基， g)卤素， h)OR4， i)O(CH2)sOR4， j)CO2R4， k)(CO)NR10R11， l)O(CO)NR10R11， m)N(R4)(CO)NR10R11， n)N(R10)(CO)R11， o)N(R10)(CO)OR11， p)SO2NR10R11， q)N(R10)SO2R11， r)S(O)mR10， s)CN， t)NR10R11， u)N(R10)(CO)NR4R11，和 v)O(CO)R4； 2)芳基或杂芳基，未取代或被一个或多个各自独立选自以下的取代基取代 a)C1-6烷基， b)C3-6环烷基， c)未取代或被1-5个各自独立选自R4的取代基取代的芳基， d)未取代或被1-5个各自独立选自R4的取代基取代的杂芳基， e)未取代或被1-5个各自独立选自R4的取代基取代的杂环， f)(F)pC1-3烷基， g)卤素， h)OR4， i)O(CH2)sOR4， j)CO2R4， k)(CO)NR10R11， l)O(CO)NR10R11， m)N(R4)(CO)NR10R11， n)N(R10)(CO)R11， o)N(R10)(CO)OR11， p)SO2NR10R11， q)N(R10)SO2R11， r)S(O)mR10， s)CN， t)NR10R11， u)N(R10)(CO)NR4R11，和 v)O(CO)R4； R2独立选自 1)H、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-6环烷基和杂环，未取代或被一个或多个各自独立选自以下的取代基取代 a)C1-6烷基， b)C3-6环烷基， c)未取代或被1-5个独立选自R4的取代基取代的芳基， d)未取代或被1-5个各自独立选自R4的取代基取代的杂芳基， e)未取代或被1-5个各自独立选自R4的取代基取代的杂环， f)(F)pC1-3烷基， g)卤素， h)OR4， i)O(CH2)sOR4， j)CO2R4， k)(CO)NR10R11， l)O(CO)NR10R11， m)N(R4)(CO)NR10R11， n)N(R10)(CO)R11， o)N(R10)(CO)OR11， p)SO2NR10R11， q)N(R10)SO2R11， r)S(O)mR10， s)CN， t)NR10R11， u)N(R10)(CO)NR4R11，和 v)O(CO)R4； 2)芳基或杂芳基，未取代或被一个或多个各自独立选自以下的取代基取代 a)C1-6烷基， b)C3-6环烷基， c)未取代或被1-5个独立选自R4的取代基取代的芳基， d)未取代或被1-5个各自独立选自R4的取代基取代的杂芳基， e)未取代或被1-5个各自独立选自R4的取代基取代的杂环， f)(F)pC1-3烷基， g)卤素， h)OR4， i)O(CH2)sOR4， j)CO2R4， k)(CO)NR10R11， l)O(CO)NR10R11， m)N(R4)(CO)NR10R11， n)N(R10)(CO)R11， o)N(R10)(CO)OR11， p)SO2NR10R11， q)N(R10)SO2R11， r)S(O)mR10， s)CN， t)NR10R11， u)N(R10)(CO)NR4R11，和 v)O(CO)R4， 其中在相邻原子上的R1和R2，或任何两个独立的R2任选连接形成选自C5-7环烷基、杂环、芳基和杂芳基的环，其中所述环为未取代或被1-10个各自独立选自R6的取代基取代； R10和R11独立选自H、C1-6烷基、(F)pC1-6烷基、C3-6环烷基、芳基、杂芳基和苄基，未取代或被卤素、羟基或者C1-C6烷氧基取代，其中R10和R11任选连接形成选自氮杂环丁烷基、吡咯烷基、哌啶基、哌嗪基或吗啉基的环，其为未取代或被1-5个各自独立选自R4的取代基取代的环； R4独立选自H、C1-6烷基、(F)pC1-6烷基、C3-6环烷基、芳基、杂芳基和苄基，未取代或被卤素、羟基或者C1-6烷氧基取代； W为O、NR4或C(R4)2； X为C或S； Y为O、(R4)2、NCN、NSO2CH3或NCONH2，或者当X为S时Y为O2； R6独立选自H和 a)C1-6烷基， b)C3-6环烷基， c)未取代或被1-5个独立选自R4的取代基取代的芳基， d)未取代或被1-5个各自独立选自R4的取代基取代的杂芳基， e)未取代或被1-5个各自独立选自R4的取代基取代的杂环， f)(F)pC1-3烷基， g)卤素， h)OR4， i)O(CH2)sOR4， j)CO2R4， k)(CO)NR10R11， l)O(CO)NR10R11， m)N(R4)(CO)NR10R11， n)N(R10)(CO)R11， o)N(R10)(CO)OR11， p)SO2NR10R11， q)N(R10)SO2R11， r)S(O)mR10， s)CN， t)NR10R11， u)N(R10)(CO)NR4R11，和 v)O(CO)R4， J为键、C(R6)2、O或NR6； V选自键、C(R6)2、O、S(O)m、NR6、C(R6)2-C(R6)2、C(R6)＝C(R6)、C(R6)2-N(R6)、C(R6)＝N、N(R6)-C(R6)2、N＝C(R6)和N(R6)-N(R6)； G-L选自N、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种式Ⅰ的化合物及其药学上可接受的盐和各非对映异构体：＊＊＊Ⅰ其中：Ｚ选自：＊＊＊Ａ独立选自Ｎ和Ｃ（Ｒ↑［２］）；Ｂ为Ｏ或Ｓ；Ｒ↑［１］独立选自：１）Ｈ、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［ ６］烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］烯基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］炔基、Ｃ↓［３－６］环烷基和杂环基，未取代或被一个或多个各自独立选自以下的取代基取代：ａ）Ｃ↓［１－６］烷基，ｂ）Ｃ↓［３－６］环烷基，ｃ）未取代或被１－５ 个各自独立选自Ｒ↑［４］的取代基取代的芳基，ｄ）未取代或被１－５个各自独立选自Ｒ↑［４］的取代基取代的杂芳基，ｅ）未取代或被１－５个各自独立选自Ｒ↑［４］的取代基取代的杂环，ｆ）（Ｆ）↓［ｐ］Ｃ↓［１－３］烷基， ｇ）卤素，ｈ）ＯＲ↑［４］，ｉ）Ｏ（ＣＨ↓［２］）↓［ｓ］ＯＲ↑［４］，ｊ）ＣＯ↓［２］Ｒ↑［４］，ｋ）（ＣＯ）ＮＲ↑［１０］Ｒ↑［１１］，ｌ）Ｏ（ＣＯ）ＮＲ↑［１０］Ｒ↑［１１］，ｍ）Ｎ （Ｒ↑［４］）（ＣＯ）ＮＲ↑［１０］Ｒ↑［１１］，ｎ）Ｎ（Ｒ↑［１０］）（ＣＯ）Ｒ↑［１１］，ｏ）Ｎ（Ｒ↑［１０］）（ＣＯ）ＯＲ↑［１１］，ｐ）ＳＯ↓［２］ＮＲ↑［１０］Ｒ↑［１１］，ｑ）Ｎ（Ｒ↑［１０］）Ｓ Ｏ↓［２］Ｒ↑［１１］，ｒ）Ｓ（Ｏ）↓［ｍ］Ｒ↑［１０］，ｓ）ＣＮ，ｔ）ＮＲ↑［１０］Ｒ↑［１１］，ｕ）Ｎ（Ｒ↑［１０］）（ＣＯ）ＮＲ↑［４］Ｒ↑［１１］，和ｖ）Ｏ（ＣＯ）Ｒ↑［４］；２）芳基 或杂芳基，未取代或被一个或多个各自独立选自以下的取代基取代：ａ）Ｃ↓［１－６］烷基，ｂ）Ｃ↓［３－６］环烷基，ｃ）未取代或被１－５个各自独立选自Ｒ↑［４］的取代基取代的芳基，ｄ）未取代或被１－５个各自独立选自 Ｒ↑［４］的取代基取代的杂芳基，ｅ）未取代或被１－５个各自独立选自Ｒ↑［４］的取代基取代的杂环，ｆ）（Ｆ）↓［ｐ］Ｃ↓［１－３］烷基，ｇ）卤素，ｈ）ＯＲ↑［４］，ｉ）Ｏ（ＣＨ↓［２］）↓［ｓ］ＯＲ↑［ ４］，ｊ）ＣＯ↓［２］Ｒ↑［４］，ｋ）（ＣＯ）ＮＲ↑［１０］Ｒ↑［１１］，ｌ）Ｏ（ＣＯ）ＮＲ↑［１０］Ｒ↑［１１］，ｍ）Ｎ（Ｒ...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：DV保恩，DN阮，AW肖，CS伯盖，TJ塔克，SL格拉哈姆，
申请(专利权)人：默克公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]