一种TFT基板及其制备方法及液晶显示面板技术

技术编号:13288341 阅读:57 留言:0更新日期:2016-07-09 03:38
本发明专利技术涉及液晶显示面板技术领域,尤其涉及一种TFT基板及其制备方法及液晶显示面板。TFT基板的制备方法包括以下步骤:S1,提供一衬底基板,在所述衬底基板上形成线栅偏振器;S2,在所述线栅偏振器的上方配置一层配向层,所述配向层的配向方向与所述线栅偏振器的栅线相平行;S3,使用二向色性染料溶液在所述配向层上形成二向色性染料膜层。本发明专利技术提供的TFT基板在线栅偏振器的上方设置了配向层以及二向色性染料膜层,实现了防止环境入射光反射的同时,保证背光源的光线透过率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示面板
,尤其涉及一种TFT基板及其制备方法及液晶显示面板
技术介绍
液晶显示面板包括薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorArraySubstrate,TFTArraySubstrate)、彩膜基板以及背光源等部件,阵列基板位于彩膜基板与背光源之间,彩膜基板与阵列基板相对的一侧表面上均设有线栅偏振器。目前的线栅偏振器(WireGridPolarizer,简称WGP)包括基板和金属线栅,金属线栅为在基板的一侧表面上等间距地设置的多条金属细线,多条金属细线相互平行。背光源发出的光线中包含向各个方向振动的光线,其中振动方向平行于金属线栅方向的光线,易使在金属栅线中产生感应电流,等同于振动方向平行于金属栅线的光被线栅吸收,而垂直于金属栅线方向的光线的电场不易被吸收,得以通过。但是采用WGP作为偏光片时,入射的环境光照射在TFT基板上的WGP表面时会产生反射,增加显示面板暗态亮度,降低显示面板的对比度。现有技术中通常在WGP结构上形成一层具有吸收作用的膜层,比如Cr、Fe2O3等,具有一定的防反效果,但是设置的吸收层起到防反作用是在牺牲WGP结构的透过率的基础上实现的,得不偿失。不使用防反层时WGP结构的透过率在80%左右,使用Cr作为防反层,透过率下降到50%,透过率下降明显,有很大的副作用。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本专利技术要解决的技术问题是解决现有技术中TFT基板采用WGP时设置的防反层严重影响背光源光线透过率的问题。(二)技术方案为了解决上述技术问题,本专利技术提供了一种TFT基板的制备方法,包括以下步骤:S1,提供一衬底基板,在所述衬底基板上形成线栅偏振器;S2,在所述线栅偏振器的上方配置一层配向层,所述配向层的配向方向与所述线栅偏振器的栅线相平行;S3,使用二向色性染料溶液在所述配向层上形成二向色性染料膜层。根据本专利技术,所述二向色性染料溶液包括二向色性染料、聚合物以及引发剂。根据本专利技术,所述引发剂为光引发剂时,所述步骤S3包括,将二向色性染料溶液涂覆在配向层上,采用曝光的方式使二向色性染料溶液发生聚合反应以使二向色性染料膜层固化。根据本专利技术,所述引发剂为热引发剂时,所述步骤S3包括,将二向色性染料溶液涂覆在配向层上,采用高温的方式使二向色性染料溶液发生聚合反应以使二向色性染料膜层固化。根据本专利技术,所述步骤S3包括,根据所述线栅偏振器的结构将二向色性染料溶液打印在栅线对应的配向层上。根据本专利技术,所述线栅偏振器采用纳米压印的方式制成。本专利技术还提供了一种TFT基板,包括衬底基板和设于所述衬底基板上方的线栅偏振器,所述线栅偏振器上设有配向层,所述配向层上设有二向色性染料膜层,所述二向色性染料膜层的吸收取向与所述线栅偏振器的栅线相平行。根据本专利技术,所述二向色性染料膜层为对应地设于所述线栅偏振器的栅线上方的不连续膜层。根据本专利技术,所述二向色性染料膜层为设于所述线栅偏振器上方的连续膜层。根据本专利技术,所述线栅偏振器采用纳米线栅偏振器,栅线的宽度为10-300nm,栅线的间距为10-300nm,栅线的深度为50-500nm。本专利技术还提供了一种液晶显示面板,包括依次设置的上偏振元件、上基板、液晶层以及上述的TFT基板。根据本专利技术,所述液晶显示面板为ADS模式显示面板或IPS模式显示面板,所述上基板的下方靠近所述液晶层的一侧设有半波片。(三)有益效果本专利技术的上述技术方案与现有技术相比具有如下优点:本专利技术实施例提供的TFT基板在线栅偏振器的上方配置了一层配向层,并且在配向层上利用二向色性染料溶液形成了一层二向色性染料膜层,设置的配向层使得二向色性染料分子的长轴方向即二向色性染料分子的吸收取向与线栅偏振器的栅线相平行。背光源入射的光线经过线栅偏振器后偏振方向与二向色性染料分子的短轴方向相平行,二向色性染料分子的短轴方向不吸收光线,因此,背光源入射的光线可以全部透过二向色性染料分子膜层。使用该TFT基板时使环境入射光照射到二向色性染料分子层时环境入射光的偏振方向为与线栅偏振器的栅线相平行,环境入射光能够被二向色性染料全部吸收,起到了防止环境入射光反射的效果。附图说明图1是本专利技术实施例一及实施例二提供的TFT阵列基板的制备方法的流程图;图2是本专利技术实施例一及实施例三提供的TFT基板的结构示意图;图3是本专利技术实施例一及实施例三提供的TFT基板的俯视图;图4是本专利技术实施例一提供的二向色性染料分子的取向特性;图5是本专利技术实施例二和四提供的TFT基板的结构示意图;图6是本专利技术实施例五提供的液晶显示面板的结构示意图;图7是本专利技术实施例六提供的液晶显示面板的结构示意图。图中:1:衬底基板;2:线栅偏振器;3:配向层;4:二向色性染料膜层;101:上偏振元件;102:上基板;103:液晶层;104:TFT基板;105:半波片。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。实施例一如图1-图4所示,本专利技术实施例提供的一种TFT基板的制备方法,包括以下步骤:S1,提供一衬底基板1,在衬底基板1上形成线栅偏振器2;具体地,本实施例中的线栅偏振器2优选为采用纳米压印的方式制成。S2,在线栅偏振器2的上方配置一层配向层3,配向层3的配向方向与线栅偏振器2的栅线相平行。配置配向层3时优选为在线栅偏振器2上形成一层配向膜,然后采用摩擦配向或光配向的方式的进行配向。S3,使用二向色性染料溶液在配向层3上形成二向色性染料膜层4。具体地,本实施例中优选为将二向色性染料溶液涂覆在配向层3上,可以采用旋涂、喷涂或刮板等多种涂覆形式。本专利技术实施例提供TFT基板在线栅偏振器2的上方配置了一层配向层3,并且在配向层3上利用二向色性染料溶液形成了一层二向色性染料膜层4,如图3所示,图3中的竖向箭头所指的方向为二向色性染料分子的不吸收取向,横向箭头所指的方向为二向色性染料分子强烈吸收的吸收取向。设置的配向层3使得二本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种TFT基板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1,提供一衬底基板,在所述衬底基板上形成线栅偏振器;S2,在所述线栅偏振器的上方配置一层配向层,所述配向层的配向方向与所述线栅偏振器的栅线相平行;S3,使用二向色性染料溶液在所述配向层上形成二向色性染料膜层。

【技术特征摘要】
1.一种TFT基板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1,提供一衬底基板,在所述衬底基板上形成线栅偏振器;
S2,在所述线栅偏振器的上方配置一层配向层,所述配向层的配
向方向与所述线栅偏振器的栅线相平行;
S3,使用二向色性染料溶液在所述配向层上形成二向色性染料膜
层。
2.根据权利要求1所述的TFT基板的制备方法,其特征在于:所
述二向色性染料溶液包括二向色性染料、聚合物以及引发剂。
3.根据权利要求2所述的TFT基板的制备方法,其特征在于:所
述引发剂为光引发剂时,所述步骤S3包括,将二向色性染料溶液涂覆
在配向层上,采用曝光的方式使二向色性染料溶液发生聚合反应以使
二向色性染料膜层固化。
4.根据权利要求2所述的TFT基板的制备方法,其特征在于:所
述引发剂为热引发剂时,所述步骤S3包括,将二向色性染料溶液涂覆
在配向层上,采用高温的方式使二向色性染料溶液发生聚合反应以使
二向色性染料膜层固化。
5.根据权利要求1所述的TFT基板的制备方法,其特征在于:所
述步骤S3包括,根据所述线栅偏振器的结构将二向色性染料溶液打印
在栅线对应的配向层上。
6.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员:谭纪风王英涛
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1