包含含有乙烯基的化合物的组合物制造技术

本发明专利技术提供一种包含新型的含有乙烯基的化合物的组合物。本发明专利技术涉及的组合物包含下述通式(1)所示的含有乙烯基的化合物。式中，W1和W2为下述通式(2)(式中，环Z为芳香族烃环、X为单键或-S-所示的基团、R1为单键或碳原子数1～4的亚烷基、R2为一价烃基等特定取代基、m为0以上的整数。)所示的基团、下述通式(4)所示的基团(式中，环Z、X、R1、R2和m如上所述。)、羟基或(甲基)丙烯酰氧基；环Y1和环Y2为芳香族烃环；R为单键或特定二价基团；R3a和R3b为氰基、卤原子或一价烃基；n1和n2为0～4的整数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种组合物，其包含下述通式(1)所示的含有乙烯基的化合物，式中，W1和W2独立地表示下述通式(2)所示的基团、下述通式(4)所示的基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，其中，W1和W2不同时为羟基或不同时为下述通式(4)所示的基团；环Y1和环Y2表示相同或不同的芳香族烃环；R表示单键、可以具有取代基的亚甲基、可以具有取代基且在2个碳原子间可含有杂原子的亚乙基、‑O‑所示的基团、‑NH‑所示的基团或‑S‑所示的基团；R3a和R3b独立地表示氰基、卤原子或一价烃基；n1和n2独立地表示0～4的整数，式中，环Z表示芳香族烃环；X表示单键或‑S‑所示的基团，R1表示单键或碳原子数1～4的亚烷基，R2表示一价烃基、羟基、‑OR4a所示的基团、‑SR4b所示的基团、酰基、烷氧羰基、卤原子、硝基、氰基、巯基、羧基、氨基、氨甲酰基、‑NHR4c所示的基团、‑N(R4d)2所示的基团、(甲基)丙烯酰氧基、磺基，或者表示一价烃基、‑OR4a所示的基团、‑SR4b所示的基团、酰基、烷氧羰基、‑NHR4c所示的基团或‑N(R4d)2所示的基团中含有的碳原子所键合的氢原子的至少一部分被一价烃基、羟基、‑OR4a所示的基团、‑SR4b所示的基团、酰基、烷氧羰基、卤原子、硝基、氰基、巯基、羧基、氨基、氨甲酰基、‑NHR4c所示的基团、‑N(R4d)2所示的基团、(甲基)丙烯酰氧基、甲磺酰氧基或磺基取代后的基团；R4a～R4d独立地表示一价烃基；m表示0以上的整数，式中，环Z、X、R1、R2和m如上所述。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：盐田大，野田国宏，千坂博树，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP