透明体的制造方法、透明体及非晶质体技术

本发明专利技术提供使用新型的含乙烯基化合物的透明体的制造方法及利用该制造方法得到的透明体。本发明专利技术的透明体的制造方法包括对下述通式(1)所示的含乙烯基化合物以上述化合物的熔点以上的温度进行加热的步骤。式中，W

Method for producing transparent body, transparent body and amorphous body

The present invention provides a method for producing a transparent body containing a novel vinyl compound and a transparent body obtained by using the manufacturing method. The method of manufacturing a transparent body of the present invention includes a process for heating a vinyl containing compound described above in the following general formula (1) to a temperature above the melting point of the compound. Type, W

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】透明体的制造方法、透明体及非晶质体
本专利技术涉及使用含乙烯基化合物的透明体的制造方法及利用该制造方法得到的透明体。
技术介绍
稠合多环式化合物具有各种优异的功能并且被用于各种用途中。例如，作为稠合多环式芳香族化合物的具有芴骨架(9,9－双苯基芴骨架等)的化合物已知在光透射率、折射率等光学特性、耐热性等热特性上具有优异的功能。因此，具有芴骨架的化合物被用作透镜、棱镜、过滤器、图像显示材料、光盘用基板、光纤、光导波管、壳体材料、膜、涂布材料等光学构件的原料。作为此种具有芴骨架的化合物，可列举例如专利文献1所公开的化合物。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2011－201791号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术的目的在于，提供使用了新型的含乙烯基化合物的透明体的制造方法、及利用该制造方法得到的透明体。用于解决课题的手段本专利技术人等为了解决上述课题而反复进行了深入研究。其结果发现使用新型的含乙烯基化合物的透明体的制造方法，以至完成本专利技术。具体而言，本专利技术提供以下的技术方案。本专利技术的第一方式为一种透明体的制造方法，其包括对下述通式(1)所示的含乙烯基化合物以所述化合物的熔点以上的温度进行加热的步骤。【化1】(式中，W1及W2独立地表示下述通式(2)所示的基团、下述通式(4)所示的基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，其中，W1及W2不同时为羟基或下述通式(4)所示的基团，环Y1及环Y2表示相同或不同的芳香族烃环，R表示单键、可以有取代基的亚甲基、可以具有取代基且可以在2个碳原子间包含杂原子的亚乙基、－O－所示的基团、－NH－所示的基团或－S－所示的基团，R3a及R3b独立地表示氰基、卤素原子或1价烃基，n1及n2独立地表示0～4的整数。)【化2】(式中，环Z表示芳香族烃环，X表示单键或－S－所示的基团，R1表示单键或碳数1～4的亚烷基，R2表示1价烃基、羟基、－OR4a所示的基团、－SR4b所示的基团、酰基、烷氧基羰基、卤素原子、硝基、氰基、巯基、羧基、氨基、氨基甲酰基、－NHR4c所示的基团、－N(R4d)2所示的基团、(甲基)丙烯酰氧基、磺基、或者与1价烃基、－OR4a所示的基团、－SR4b所示的基团、酰基、烷氧基羰基、－NHR4c所示的基团或－N(R4d)2所示的基团中所含的碳原子键合的氢原子的至少一部分被1价烃基、羟基、－OR4a所示的基团、－SR4b所示的基团、酰基、烷氧基羰基、卤素原子、硝基、氰基、巯基、羧基、氨基、氨基甲酰基、－NHR4c所示的基团、－N(R4d)2所示的基团、(甲基)丙烯酰氧基、甲磺酰氧基或磺基取代的基团，R4a～R4d独立地表示1价烃基，m表示0以上的整数。)【化3】(式中，环Z、X、R1、R2及m如上所述。)本专利技术的第二方式为一种透明体的制造方法，其包括对下述通式(10)所示的含有单乙烯基及单(甲基)丙烯酰氧基的化合物以所述化合物的熔点以上的温度进行加热的步骤。【化4】(式中，W11及W12中的任一方表示上述通式(2)所示的基团，另一方表示下述通式(11)或(12)所示的基团，环Y1、环Y2、R、R3a、R3b、n1及n2如上所述。)【化5】(式中，R5表示氢原子或甲基，l表示1～4的整数，环Z、X、R1、R2及m如上所述。)【化6】(式中，环Z、X、R1、R2、R5及m如上所述。)本专利技术的第三方式为一种透明体的制造方法，其包括对下述通式(19)所示的含(甲基)丙烯酰氧基化合物以所述化合物的熔点以上的温度进行加热的步骤。【化7】(式中，W13及W14独立地表示上述通式(12)所示的基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，其中，W13及W14中的至少一方为上述通式(12)所示的基团，环Y1、环Y2、R、R3a、R3b、n1及n2如上所述。)本专利技术的第四方式为利用上述制造方法得到的透明体。本专利技术的第五方式为包含上述通式(1)所示的含乙烯基化合物的非晶质体。专利技术效果根据本专利技术，可以提供使用了新型的含乙烯基化合物的透明体的制造方法、及利用该制造方法得到的透明体。附图说明图1为表示X射线衍射测定中的实施例1的透明膜1的X射线衍射图案的图。图2为表示X射线衍射测定中的比较例1的透明膜2的X射线衍射图案的图。图3为表示差示扫描量热测定及热重量测定中的实施例2及比较例3的DSC曲线和TG曲线的图。具体实施方式《透明体的制造方法》本专利技术的透明体的制造方法包括对上述通式(1)所示的含乙烯基化合物、上述通式(10)所示的含单乙烯基及单(甲基)丙烯酰氧基的化合物、和/或上述通式(19)所示的含(甲基)丙烯酰氧基化合物以上述化合物的熔点以上的温度进行加热的步骤。通过上述加热，上述化合物熔融。例如，通过将因上述加热所熔融的上述化合物冷却至其熔点以下而使其固化，或者将因上述加热所熔融的上述化合物进一步加热而使其硬化，从而可以得到透明体。需要说明的是，上述化合物的熔点为利用差示热/热重量测定而测定的1个气压下的值。作为加热时的温度的上限，只要能够得到透明体，则并无特别限定，在将上述化合物的熔点设为Tm(℃)时，可列举例如(Tm+300)℃以下、优选(Tm+200)℃以下。若加热时的温度的上限为上述的值，则可以有效地抑制熔融了的上述化合物的挥发或分解。需要说明的是，在通过加热使上述化合物硬化的情况下，作为硬化温度，可列举例如～、150～300℃。上述加热优选在不存在氧的条件下进行。通过在不存在氧的条件下进行上述加热，从而例如不易氧化上述化合物，容易抑制所得的透明体的着色。更具体而言，上述加热优选在不活泼气氛下进行。作为不活泼气氛，可列举氮气气氛；氩气气氛等稀有气体气氛。不活泼气氛可以单独使用或组合使用2种以上。上述加热优选在不共存上述化合物和溶剂的条件下进行。通过在不共存上述化合物和溶剂的条件下进行上述加热，从而容易抑制所得的透明体中残留的溶剂的影响。在本专利技术的透明体的制造方法中，通过将熔融的上述化合物进行成膜，从而可以得到作为透明膜的透明体，另外，通过将熔融的上述化合物进行成形，从而可以得到作为透明成形体的透明体。作为成膜方法，并无特别限定，可列举例如在玻璃基板、硅基板等基板上涂布熔融的上述化合物，并如上述那样地进行固化或硬化的方法。另外，作为成形方法，可列举例如注射成形等。以下，对上述化合物进行详细地说明。＜通式(1)所示的含乙烯基化合物＞本专利技术的组合物所含有的含乙烯基化合物为下述通式(1)所示的化合物。上述含乙烯基化合物可以单独使用或组合使用2种以上。【化8】上述通式(1)中，W1及W2独立地表示下述通式(2)所示的基团、下述通式(4)所示的基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，其中，W1及W2不同时为羟基或下述通式(4)所示的基团。W1及W2中的至少一方优选为下述通式(2)所示的基团，W1及W2中的任一者更优选为下述通式(2)所示的基团。需要说明的是，本说明书中，术语“(甲基)丙烯酰基”是指丙烯酰基和甲基丙烯酰基两者。【化9】上述通式(2)及(4)中，作为环Z，可列举例如苯环、稠合多环式芳香族烃环[例如，稠合二环式烃环(例如萘环等C8－20稠合二环式烃环、优选C10－16稠合二环式烃环)、稠合三环式芳香族烃环(例如蒽环、菲环等)等的稠合二环～稠合四环式芳香族烃环]等。环Z优选为苯环或萘环，更优选为萘本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透明体的制造方法，其包括对下述通式(1)所示的含乙烯基化合物以所述化合物的熔点以上的温度进行加热的步骤，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.26 JP 2014-1974231.一种透明体的制造方法，其包括对下述通式(1)所示的含乙烯基化合物以所述化合物的熔点以上的温度进行加热的步骤，式(1)中，W1及W2独立地表示下述通式(2)所示的基团、下述通式(4)所示的基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，其中，W1及W2不同时为羟基或下述通式(4)所示的基团，环Y1及环Y2表示相同或不同的芳香族烃环，R表示单键、可以有取代基的亚甲基、可以具有取代基且可以在2个碳原子间包含杂原子的亚乙基、－O－所示的基团、－NH－所示的基团或－S－所示的基团，R3a及R3b独立地表示氰基、卤素原子或1价烃基，n1及n2独立地表示0～4的整数，式(2)中，环Z表示芳香族烃环，X表示单键或－S－所示的基团，R1表示单键或碳数1～4的亚烷基，R2表示1价烃基、羟基、－OR4a所示的基团、－SR4b所示的基团、酰基、烷氧基羰基、卤素原子、硝基、氰基、巯基、羧基、氨基、氨基甲酰基、－NHR4c所示的基团、－N(R4d)2所示的基团、(甲基)丙烯酰氧基、磺基、或者与1价烃基、－OR4a所示的基团、－SR4b所示的基团、酰基、烷氧基羰基、－NHR4c所示的基团或－N(R4d)2所示的基团中所含的碳原子键合的氢原子的至少一部分被1价烃基、羟基、－OR4a所示的基团、－SR4b所示的基团、酰基、烷氧基羰基、卤素原子、硝基、氰基、巯基、羧基、氨基、氨基甲酰基、－NHR4c所示的基团、－N(R4d)2所示的基团、(甲基)丙烯酰氧基、甲磺酰氧基或磺基取代的基团，R4a～R4d独立地表示1价烃基，m表示0以上的整数，式(4)中，环Z、X、R1、R2及m如上所述。2.一种透明体的制造方法，其包括对下述通式(10)所示的含有单乙烯基及单(甲基)丙烯酰氧基的化合物以所述化合物的熔点以上的温度进行加热的步骤，式(10)中，W11及W12中的任一方表示下述通式(2)所示的基团，另一方表示下述通式(11)或(12)所示的基团，环Y1及环Y2表示相同或不同的芳香族烃环，R表示单键、可以有取代基的亚甲基、可以具有取代基且可以在2个碳原子间包含杂原子的亚乙基、－O－所示的基团、－NH－所示的基团或－S－所示的基团，R3a及R3b独立地表示氰基、卤素原子或1价烃基，n1及n2独立地表示0～4的整数，式(2)中，环Z表示芳香族烃环，X表示单键或－S－所示的基团，R1表示单键或碳数1～4的亚烷基，R2表示1价烃基、羟基、－OR4a所示的基团、－SR4b所示的基团、酰基、烷氧基羰基、卤素原子、硝基、氰基、巯基、羧基、氨基、氨基甲酰基、－NHR4c所示的基团、－N(R4d)2所示的基团、(甲基)丙烯酰氧基、磺基、或者与1价烃基、－OR4a所示的基团、－SR4b所示的基团、酰基、烷氧基羰基、－NHR4c所示的基团或－N(R4d)2所示的基团中所含的碳原子键合的氢原子的至少一部分被1价烃基、羟基、－OR4a所示的基团、－SR4b所示的基团、酰基、烷氧基羰基、卤素原子、硝基、氰基、巯基、羧基、氨基、氨基甲酰基、－NHR4c所示的基团、－N(R4d)2所示的基团、(甲基)丙烯酰氧基、甲磺酰氧基或磺基取代的基团，R4a～R4d独立地表示1价烃基，m表示0以上的整数，式(11)中，R5表示氢原子或甲基，l表示1～4的整数，环Z、X、R1、R2及m如上所述，式(12)中，环Z、X、R1、R2、R5及m如上所述。3.一种透明体的制造方法，其包括对下述通式(19)所示的含(甲基)丙烯酰氧基化合物以所述化合物的熔点以上的温度进行加热的步骤，式(19)中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：盐田大，野田国宏，千坂博树，黑子麻祐美，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP