【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含金属的甲硅烷氧基化合物、含金属的甲硅烷氧基被覆粒子、其制造方法、及分散组合物
[0001]本专利技术涉及含金属的甲硅烷氧基化合物
、
含金属的甲硅烷氧基被覆粒子
、
其制造方法
、
及分散组合物
。
技术介绍
[0002]在光学部件的形成中,使用高折射率材料
。
作为高折射率材料,例如,使用使氧化锆等金属氧化物粒子分散于有机成分而得的组合物
。
作为用于提高金属氧化物粒子的分散性的方法,已知用包覆剂将金属氧化物粒子的表面进行包覆的方法
。
作为包覆剂,例如,已知正丙基三甲氧基硅烷等有机硅烷
(
参见专利文献
1)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1:日本专利第
6698591
号公报
技术实现思路
[0006]专利技术所要解决的课题
[0007]近年来,伴随着光学部件所要求的性能提高,高折射率材料所要求的折射率也不断提高
。
[0008]本专利技术是鉴于这样的以往的实际情况而做出的,目的在于提供作为提供分散性及折射率优异的粒子的包覆剂使用的化合物
、
表面由该化合物被覆的粒子
、
其制造方法
、
及含有该粒子的分散组合物
。
[0009]用于解决课题的手段
[0010]本申请的专利技术人为了解决上述课题 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
【国外来华专利技术】1.
化合物,其具有下述式
(1)
表示的结构,
[
化学式
1]
式
(1)
中,
R1表示碳原子数1~
30
的有机基团,
R2表示
OR3所示的基团
、
或下述式
(2)
所示的基团,
R3表示碳原子数1~
30
的有机基团,
n1
及
n2
各自独立地表示0以上的整数,其中,
n1+2
×
n2
为由
L
的种类决定的价数,
L
表示铝
、
镓
、
钇
、
钛
、
锆
、
铪
、
铋
、
锡
、
钒或钽,*表示连接键;
[
化学式
2]
式
(2)
中,
R4及
R5表示可具有氧原子的碳原子数1~
30
的有机基团
。2.
如权利要求1所述的化合物,其中,所述化合物由下述式
(3)
表示,
[
化学式
3]
式
(3)
中,
R1、R2、n1、n2
及
L
如前文所述,
R6及
R7各自独立地表示碳原子数1~
30
的有机基团或
L(R2)
n1
(O)
n2
所示的基团
。3.
如权利要求1或2所述的化合物,其中,所述化合物由下述式
(30)
表示,
[
化学式
4]
式
(30)
中,
R1、R2、n1、n2
及
L
如前文所述,
R
60
及
R
70
表示碳原子数1~
30
的有机基团
。4.
粒子,其在表面具有下述式
(1)
表示的结构,
[
化学式
5]
式
(1)
中,
R1表示碳原子数1~
30
的有机基团,
R2表示
OR3所示的基团
、
或下述式
(2)
所示的基团,
R3表示碳原子数1~
30
的有机基团,
n1
及
n2
各自独立地表示0以上的整数,其中,
n1+2
×
n2
为由
L
的种类决定的价数,
L
表示铝
、
镓
、
钇
、
钛
、
锆
、
铪
、
铋
、
锡
、
钒或钽,*表示连接键;
[
技术研发人员:廖日淳,高桥道仁,
申请(专利权)人:东京应化工业株式会社,
类型:发明
国别省市:
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