一种用于可适性自对准双图案成型的设备及其方法。该方法包含提供基材给处理平台，处理平台配置为执行蚀刻过程和沉积过程；及测量单元，其配置用于真空中临界尺寸（ＣＤ）测量。真空中ＣＤ测量用于过程序列处理平台的前馈可适性控制，或用于腔室过程参数的...

本发明的实施例提供了用于例如等离子体增强ＡＬＤ（ＰＥ－ＡＬＤ）的原子层沉积（ＡＬＤ）的设备。在一个实施例中，提供了莲喷头组件，其包括莲喷头板，该莲喷头板具有上表面、下表面、从莲喷头板的中心向外边缘延伸的半径，与上表面和下表面流体相通的第...

本发明的实施例提供一种设备，该设备提供在处理腔室内的良好ＲＦ均一性。在一个实施例中，该设备包括基板支撑组件、终端及介电绝缘体。基板支撑组件具有中央通道，而中央通道沿着中心轴形成。提供ＲＦ传输线。该ＲＦ传输线具有大致垂直部分以及大致水平部...

本发明提供了处理系统和用于操作处理系统的方法。涂布系统１包括摆动台２和室排列，其中摆动台２包括摆动模块。室排列包括锁定室３和第一涂布室４。锁定室３被构造为组合的锁入／锁出室。室排列具有由虚线表示的第一大致直线的传输路径Ｔ１和由虚线表示的...

本发明提供了光掩模等离子体蚀刻过程中的原位室干法清洁方法和设备。本发明的实施例包括用于在光掩模等离子体蚀刻之后原位室干法清洁的方法。在一个实施例中，该方法包括：将光掩模放置在支撑底座上；将处理气体引入处理室中；由处理气体形成等离子体；在...

一种可在衬底表面及在超出衬底外围边缘处产生均匀等离子体的设备，具有介电体，该介电体中嵌设有上方电极和环形电极。此上方电极的外周与此环形电极的内周彼此重叠。在具体实施例中，上方电极以钼通孔与环形电极电性连接。在具体实施例中，上方电极连接至...

本发明提出一种用以在制程期间测量温度的方法与设备。在实施例中，本发明提供一种用以在蚀刻制程期间测量衬底温度的设备，该设备包含：腔室主体；腔室盖，其封闭该腔室主体；以及衬底支撑组件。多个窗口形成在该衬底支撑组件的衬底支撑表面中。信号产生器...

提供了一种用于锯切半导体材料的线锯装置，所述线锯装置包括：线导引装置（１１０），其对对线进行导引以形成用于锯切半导体材料的至少一个线网（２００）；以及至少一个线管理单元（１３０），其用于均将线供应给所述线导引装置（１１０），并且所述至少...

本发明涉及用于在塑料衬底上沉积阻挡层的涂覆装置，所述涂覆装置包括用于沉积包括金属的第一层的第一涂覆台，和用于沉积包括树脂的第二层的第二涂覆台，其中，用于处理所沉积的第一层的处理台设置在所述第一涂覆台和所述第二涂覆台之间，所述处理台包括溅...

在高腐蚀性等离子体环境中进行半导体元件处理，常会出现微粒产生的问题。当上述等离子体为还原等离子体时，此问题更显严重。实验资料显示，在形成一种等离子体喷涂的含钇陶瓷（如氧化钇、Ｙ２Ｏ３－ＺｒＯ２固溶体、ＹＡＧ及ＹＦ３）时，当用于喷涂陶瓷的...

提供了用于在电子元件制造中移动基板的系统、方法及设备。在一些方面中，提供了具有基座部分及至少三个垫的末端执行器。每个所述垫的具有一个接触表面，且至少一个接触表面具有曲面形状。由末端执行器所支撑的基板可以相对高的横向惯性力移动，而不会相对...

使用选择性沉积移除（ＳＤＲ）溶液，选择性地从例如铝面板的含铝基板上移除非金属沉积物。ＳＤＲ溶液实质上并不蚀刻面板孔洞，因此维持孔洞直径的完整性，并增加面板可清洁或翻新的次数，同时保持在处理孔径公差内。在实施例中，以溶液的ｗｔ％计，ＳＤＲ...

本发明提供用于形成具有经磁性图案化的表面的基板的方法及装置。在一基板上形成包含具有磁性性质的一种或多种材料的一磁层。该磁层经受一图案化制程，在图案化制程中改变该磁层的该表面的选定部分，以使得该经改变的部分具有与非改变部分不同的磁性性质而...

一种用于制造具有大表面积电极的能量存储器件的方法包括：提供导电基板；在导电基板上沉积半导体层，所述半导体层是第一电极；阳极氧化所述半导体层，其中所述阳极氧化在所述半导体层中形成孔，增加所述第一电极的表面积；在所述阳极氧化之后，提供电解质...

本发明揭示基板传输系统、装置和方法。系统适于藉由将吊臂连杆转向邻近目的地的位置，接着驱动机械手组件来放下或拾起目的地处的基板，以有效放下或拾起目的地处的基板。在此还提出许多其他方面。

本发明公开了沉积具有低界面污染的层的方法。本发明的方法可有利地降低沉积层之间的界面处污染，界面例如在沉积层与下方基板或薄膜之间。在某些实施例中，沉积层的方法可包括在还原气氛中将含硅层退火，所述含硅层上设置有第一层；在退火后利用蚀刻工艺来...

本发明的实施例提供用于在处理期间支撑、定位和／或旋转半导体基板的设备及方法。本发明的一实施例提供一种用于处理基板的方法，该方法包含：将基板定位于载座的基板接收表面上；以及藉由输送来自一个或多个旋转口的流体流以旋转该载座和该基板。

本发明一般的涉及低汇聚性平坦分布光伏模块。光伏模块可以包括柔性后板，所述柔性后板具有多个导电电路元件，所述多个导电电路元件在导电表面上被凸饰或压印以产生光学特征。然后，太阳能电池与导电电路元件电接触，以产生光伏模块。通过对导电电路元件进...

本发明实施例涉及用于处理太阳能衬底的方法与设备，该太阳能衬底用于制造一光伏器件。具体而言，提供用于产生带负电钝化层的方法与设备。

本发明描述对在两个电极之间的电流提供电气对称接地或回流路径的方法与设备。该设备包括至少一个射频（ＲＦ）装置，该至少一个射频装置耦接至电极中的一个且位于处理腔室的侧壁和／或底部之间。此方法包括相对于另一个电极移动一个电极，并基于该位移电极...