处理系统和用于操作处理系统的方法技术方案

本发明专利技术提供了处理系统和用于操作处理系统的方法。涂布系统１包括摆动台２和室排列，其中摆动台２包括摆动模块。室排列包括锁定室３和第一涂布室４。锁定室３被构造为组合的锁入／锁出室。室排列具有由虚线表示的第一大致直线的传输路径Ｔ１和由虚线表示的第二大致直线的传输路径Ｔ２。路径Ｔ１和Ｔ２的排列建立了双轨道。系统包括用于使得衬底如箭头所示沿着第一传输路径Ｔ１和／或第二传输路径Ｔ２移动通过室３、４的排列的传输系统。室３和４中的一个或者特别是两个包括用于通过双导轨或三导轨部分的横向运动而将衬底／承载器从第一路径Ｔ１转移到第二路径Ｔ２和／或从第二路径Ｔ２转移到第一路径Ｔ１的转移装置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】处理系统和用于操作处理系统的方法
本专利技术涉及用于处理衬底的方法，包括室排列，其至少包括用于处理衬底的第一处理室、用于处理衬底的第二处理室和/或转移室；至少包括锁定室，其构造为将衬底锁定在室排列中和/或将衬底锁定在室排列之外；第一大致直线的传输路径，其用于将衬底从锁定室传输到第一处理室，以及第二大致直线的传输路径，其用于将衬底传输通过室排列。第二传输路径可以相对于第一传输路径横向偏移并且相邻第一传输路径设置。
技术介绍
在许多技术应用中，多层的堆叠按照涂布步骤的顺序沉积在衬底上。例如，在TFT(薄膜晶体管)金属化处理中，通过溅射处理沉积两种或三种不同金属。由于在不同的处理步骤中沉积速率不同并且由于层的厚度不同，所以用于沉积不同层的沉积台中的处理时间可能相当大地变化。为了沉积多层的堆叠，已经提出了大量的沉积和处理室的构造。例如，使用直线的涂布室排列以及簇形涂布室排列。典型的簇形排列包括中央处理室和多个与其连接的涂布室。可以安装涂布室以执行相同或不同的涂布处理。然而，尽管在直线系统中对于处理的操纵非常简单，但是处理时间由最长的处理时间所决定。因此，影响了处理效率。另一方面，簇工具允许不同的循环时间。然而，需要设置在中央处理室中的精细转移系统的操作可能非常复杂。已经在文献EP1801843A1中描述了结合直线和簇概念的可选概念，通过引用将该文献的内容结合在这里。该文献描述了用于沉积TFT层堆叠的涂布系统，该系统具有锁入室(lock-inchamber)、用于第一金属化处理的金属化台、中央处理室、用于第二金属化处理的两个金属化台以及用于第一处理的第二金属化台。用于第二处理的金属化室彼此平行地设置并且择一地使用。用于第一金属化处理的处理室设置为直线，使得每个衬底都在两个室中受到处理。因为这种组合在增加了产量的同时使得处理复杂度最小，所以通过直线概念和簇概念的结合减小了系统的循环时间。内容通过引用结合在这里的欧洲专利申请EP07002828.7(未公开)提到了设置在涂布台中的传输装置，其具有可以选择性地定位在传输位置中的、构造为组合区段的传输区段。在其他区段移动到传输位置中的同时，区段之一可以移动到处理位置中。此外，已经提出了其中连续在不同的涂布台中处理衬底的直线系统。为了改善产量，涂布室中的至少一部分包括用于第一衬底的处理位置以及从该处理位置横向偏移的传输路径，由此在室中留出用于其他衬底越过或赶上第一衬底的一些空间。内容通过引用结合在这里的欧洲专利申请EP1956111A1提到了设置在涂布台中的传输装置，其具有可以选择性地定位在传输区段中的、构造为组合区段的传输区段。内容通过引用结合在这里的专利申请US/12/163,498(未公开)公开了一种涂布系统，其具有第一大致直线传输路径和第二大致直线传输路径，其中，第二传输路径相对于第一传输路径横向偏移。因此，第一衬底可以分别在第一和第二传输路径上越过或赶上第二衬底。然而，上述的全部系统都具有一些缺点。首先，系统需要非常复杂和昂贵的模块，例如旋转模块。第二，系统的产量和效率受到它们设计的限制。
技术实现思路
本专利技术的目的本专利技术的目的是增加涂布系统的整体产量和效率并且提供在避免使用昂贵和复杂的组件的同时有效地使用组件的衬底处理方法。技术方案通过提供根据权利要求1的处理系统和根据权利要求15的操作处理系统的方法来实现该目的。独立权利要求涉及本专利技术的优选的特征。根据本专利技术的用于处理衬底的处理系统包括：室排列，其至少包括用于处理衬底的第一处理室、用于处理衬底的第二处理室和/或转移室；至少包括锁定室，其构造为将衬底锁定在室排列中和/或将衬底锁定在室排列之外；第一传输路径，其用于将衬底传输通过室排列；以及第二传输路径，其用于将衬底传输通过室排列。第二传输路径可以相对于第一传输路径横向偏移并且相邻第一传输路径设置。第一处理室、第二处理室和转移室中的至少一者包括将衬底从第一传输路径转移到第二传输路径和/或从第二传输路径转移到第一传输路径的装置。这种用于转移衬底的装置包括至少第一引导部分和第二引导部分的组合，其中，第一引导部分与第二引导部分平行地设置。处理系统例如是用于在衬底上沉积一个或多个层的涂布系统。衬底可以在不具有承载器或者固定到承载器上的状态下传输通过系统，以受到处理。该创造性的涂布系统具有大致直线的两个传输路径。直线传输路径表示衬底和衬底承载器可以在其上传输而不需要旋转衬底/承载器以改变衬底/承载器的横向位置或使得衬底/承载器横向偏移。另一方面，直线路径可以包括使得传输路径的方向从直线偏移。锁定室、第一处理室和第二处理室彼此沿直线设置。第一传输路径和第二传输路径可以被平行设置。第一传输路径和第二传输路径从锁定室的内部延伸进入第一处理室。它们可以是大致直线的路径。本专利技术的特征是第一传输路径和第二传输路径横向偏离。它们不交叉并且它们不通过例如旋转模块连接。可以通过平移运动而使得衬底仅在传输路径之间传输。换言之，在衬底的被涂布的表面永远被调整到直线系统的相同侧。因此，处理工具可以相对于第一传输路径和第二传输路径设置在相同侧上。第一传输路径和第二传输路径形成双路径或双导轨。双导轨从组合的锁入/锁出室延伸进入处理室，其中处理室例如可以是用于沉积TFT装置的No层的涂布室。锁定室是组合的锁入和锁出室。锁定室是双导轨装载/卸载锁定模块。衬底可以被从涂布/处理室的排列以及从装载台(例如，摆动台)传输到装载锁定室。装载锁定室可以被分别抽真空和通气。例如，在衬底被从涂布/处理室传输进入装载锁定室之前，锁入/锁出室被抽真空。在衬底被从用于装载衬底的装载台传输进入装载锁定室之前，锁入/锁出室被通气。在衬底被传输到装载锁定室之外、分别进入涂布/处理室的排列和/或用于装载衬底的装载台时，发生同样的情况。锁入/锁出室/模块可以是为接收到室中的衬底提供两个、三个或多个位置的双导轨模块、三导轨模块或多导轨模块。它可以是可以通过真空系统而抽真空的缓冲室和/或锁定室。第一处理室、第二处理室和转移室中的至少一者包括将衬底从第一传输路径转移到第二传输路径和/或从第二传输路径转移到第一传输路径的装置。该装置可以包括辊驱动器、齿轮驱动器、液压或气压驱动器等。转移运动可以是竖直或水平的运动。这是不使得衬底/承载器旋转地平移。用于转移衬底的装置包括用于使得衬底从第一传输路径向第二传输路径和/或从第二传输路径向第一传输路径的装置横向转移的转移装置。转移装置例如可以包括抬升装置。处理室和/或锁定室和/或转移室可以包括转移装置。以此方式，可以抛弃复杂和昂贵的旋转模块。在衬底/承载器从组合的锁入/锁出室通过系统并且返回组合的锁入/锁出室的整个传输过程中，衬底/承载器的对准保持不变。用于转移衬底的装置包括用于使得引导件的部分从第一传输路径向第二传输路径和/或从第二传输路径向第一传输路径的装置横向转移的转移装置。这表示引导件的部分被设置在第一传输路径中或第二传输路径中以完成第一传输路径和第二传输路径中的一者。引导件的这部分可以是能够横向转移的轨道部分。这部分被设置在一个腔室中。用于转移衬底的装置被构造为使得衬底、衬底承载器和/或轨道部分从第一传输路径移动到第二传输路径。优选地，这种用于转移衬底的装置至少包括第一引导部分和第二引导本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种用于处理衬底的处理系统（１），包括：室排列，所述室排列包括至少用于处理所述衬底的第一处理室（４，３０）、用于处理所述衬底的第二处理室（７，４０）和／或转移室（６）；至少锁定室（３，２０），其构造为将所述衬底锁定在所述室排列中和／或将所述衬底锁定在所述室排列之外；第一传输路径（Ｔ１），其用于将所述衬底传输通过所述室排列；以及第二传输路径（Ｔ２），其用于将所述衬底传输通过所述室排列，其中所述第二传输路径（Ｔ２）相对于所述第一传输路径（Ｔ１）横向偏移，所述系统的特征在于，所述第一处理室（４，３０）、所述第二处理室（７，４０）和所述转移室（６）中的至少一者包括用于将所述衬底从所述第一传输路径（Ｔ１）转移到所述第二传输路径（Ｔ２）和／或从所述第二传输路径（Ｔ２）转移到所述第一传输路径（Ｔ１）的装置，并且所述用于转移所述衬底的装置包括至少第一引导部分和第二引导部分的组合，其中，所述第一引导部分与所述第二引导部分平行地设置。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP08159243.82008年6月27日1.一种用于处理衬底的处理系统(1)，包括：室排列，所述室排列包括至少用于涂布所述衬底的第一处理室(4，30)、用于涂布所述衬底的第二处理室(7，40)和/或转移室(6)；以及至少锁定室(3，20)，其构造为将所述衬底锁定在所述室排列中和/或将所述衬底锁定在所述室排列之外；第一传输路径(T1)，其用于将所述衬底传输通过所述室排列；以及第二传输路径(T2)，其用于将所述衬底传输通过所述室排列，其中所述第二传输路径(T2)相对于所述第一传输路径(T1)横向偏移，所述系统的特征在于，所述第一处理室(4，30)包括用于将所述衬底从所述第一传输路径(T1)转移到所述第二传输路径(T2)和/或从所述第二传输路径(T2)转移到所述第一传输路径(T1)的装置，并且所述用于将所述衬底从所述第一传输路径(T1)转移到所述第二传输路径(T2)和/或从所述第二传输路径(T2)转移到所述第一传输路径(T1)的装置包括至少第一引导部分和第二引导部分的组合，其中，所述第一引导部分与所述第二引导部分平行地设置，并且其中，通过由转移系统所导致的所述第一引导部分与所述第二引导部分的横向移动，所述衬底能够被从所述第一传输路径被传输到所述第二传输路径和从所述第二传输路径传输到所述第一传输路径，所述转移系统设置在所述第一传输路径和所述第二传输路径的同所述处理腔室中的涂布工具相反的一侧上。2.根据权利要求1所述的处理系统(1)，其特征在于，所述用于将所述衬底从所述第一传输路径(T1)转移到所述第二传输路径(T2)和/或从所述第二传输路径(T2)转移到所述第一传输路径(T1)的装置包括与所述第一引导部分和所述第二引导部分平行地设置的第三引导部分。3.根据权利要求2所述的处理系统(1)，其特征在于，所述第一引导部分、所述第二引导部分和/或所述第三引导部分设置为使得相对于彼此的距离对应于所述第一传输路径(T1)与所述第二传输路径(T2)之间的距离。4.根据权利要求1或2所述的处理系统(1)，其特征在于，所述第一处理室(4，30)、所述第二处理室(7，40)和/或所述转移室(6)沿直线连接。5.根据权利要求1或2所述的处理系统(1)，其特征在于，所述处理系统(1)包括用于将衬底沿着所述第一传输路径(T1)以及沿着所述第二传输路径(T2)传输的传输系统。6.根据权利要求5所述的处理系统(1)，...

【专利技术属性】
技术研发人员：拉尔夫·林德伯格，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：US