东京毅力科创株式会社专利技术

东京毅力科创株式会社共有7373项专利

  • 本发明的课题在于提供一种扩大了加工余量而且难以在放电空间发生与反应气体的反应的使用了反应性溅射的成膜装置和成膜方法。其解决手段一种成膜装置,其包括:处理腔室、释放溅射颗粒的溅射机构、屏蔽释放溅射颗粒的放电空间的溅射颗粒屏蔽部件、设置在处...
  • 一个实施方式的探针装置使载置于载置台的被检查体与探针电接触来检查所述被检查体的电气特性,该探针装置具有:支承台,其在上表面具有供所述探针的针迹转印的针迹转印构件;固定支承部,其以从所述载置台的侧方延伸的方式形成,从所述支承台的下部固定支...
  • 本发明提供一种显影方法,用于进行显影,其包括:将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤;从显影液喷嘴向基板的一部分供给显影液形成积液的步骤;使基板旋转的步骤;使上述显影液喷嘴移动,以使得进行旋转的上述基板上的显影液的供给位置沿着该基...
  • 本发明提供基板处理装置和基板处理方法,能够抑制因对基板进行磨削的工具的磨损导致生产率的下降。基板处理装置具备:控制部,当由位置检测器检测到可动部到达预先设定的速度切换位置时,该控制部使可动部接近基板保持部的接近速度从第一速度减速至比第一...
  • 提供一种基板搬送方法,使用具有第一拾取器和第二拾取器的搬送机构在热处理室与不同于该热处理室的其他室之间依次搬送基板,所述基板搬送方法包括:第一步骤,将未处理的基板保持在所述第一拾取器上,搬送至所述热处理室;第二步骤,将在所述热处理室中热...
  • 公开了用于蚀刻磁阻随机存取存储器器件的方法和设备,所述磁阻随机存取存储器器件包括至少一个磁隧道结堆叠体结构,所述磁隧道结堆叠体结构包括设置在第一磁性层与第二磁性层之间的绝缘层。所述方法包括以下步骤:在有效地使第一磁性层和第二磁性层以及绝...
  • 描述了关于使用竖直多批次直立磁性退火系统来处理微电子工件的退火系统和相关方法的实施方式,该磁性退火系统允许多个退火系统的并排配置以满足减小的占用空间要求。
  • 本发明提供一种能够控制处理容器的长度方向上的气体供给管内的气体的温度的技术。本发明的一个方式的热处理装置包括:收纳基片的竖长的处理容器;气体供给单元,其具有沿上述处理容器的内壁面上下延伸的气体供给管;加热单元,其包括设置于上述处理容器的...
  • 本发明提供基板检查方法和基板检查装置,能够在检查基板时准确地探测基板周缘部的宏观的异常。检查基板的方法包括以下工序:特征量获取工序,获取作为检查对象的所述基板的周缘部的图像、即检查对象周缘图像中的多个分割区域的各个分割区域的特征量,所述...
  • 本发明涉及一种成膜装置、原料供给装置以及成膜方法,能够以大流量稳定地供给由低蒸气压原料产生的原料气体。本公开的一个方式的成膜装置通过载气来向处理容器输送由低蒸气压原料产生的原料气体,来在基板上形成膜,所述成膜装置具备:原料容器,其用于收...
  • 本文描述了用于以使蚀刻滞后效应最小化的方式蚀刻层,例如介电层,并且更具体地是低k介电层的基底处理技术。利用了多种蚀刻工艺。第一蚀刻工艺可以表现出蚀刻滞后。第二蚀刻工艺是可以包括沉积子步骤、吹扫子步骤和蚀刻子步骤的多步过程。第二蚀刻工艺可...
  • 本发明提供用于以较高的输送可靠性一并输送多张基板的基板输送装置和基板输送方法。基板输送装置包括:基座;保持部;至少3个检测部;以及控制部。保持部以相对于基座进退自如的方式设置且能够多层地保持多张基板。检测部用于分别在不同的位置对由保持部...
  • 本发明涉及等离子体蚀刻方法和等离子体蚀刻装置。一种等离子体蚀刻方法,其对包含蚀刻对象膜和被图案化的掩模的被处理体进行等离子体蚀刻,所述方法具有:第1工序:使用前述掩模对前述蚀刻对象膜进行等离子体蚀刻;和第2工序:利用含硅气体的等离子体使...
  • 本发明提供一种接合装置和接合方法,能够在将基板彼此接合的接合装置中抑制基板间的位置偏离。基于本公开的接合装置具备第一保持部、第二保持部、摄像单元以及移动机构。第一保持部保持第一基板。第二保持部与第一保持部相向地配置,用于保持与第一基板接...
  • 本发明提供热处理装置和基片滑动检测方法,能够检测将基片载置到热板时该基片有无滑动。该热处理装置能够对基片进行热处理,并具有能够载置所述基片并加热该基片的热板,所述热板被划分为包括外周分割区域在内的多个区域,并且对每个所述区域进行温度设定...
  • [课题]本公开提供能进行膜质的控制的成膜方法。[解决方案]具备如下工序:妨碍吸附区域的工序,使规定量的妨碍吸附自由基吸附在形成于基板上的吸附位点上,离散地形成妨碍吸附区域;使原料气体吸附的工序,使原料气体吸附在前述吸附位点上的未形成前述...
  • 本发明提供一种等离子体处理装置的阻抗匹配方法和等离子体处理装置。在一个实施方式中,等离子体处理装置的第一高频电源和第二高频电源分别输出连续波、调制波和双重调制波。在一个实施方式的方法中,对于确定第一高频电源的负载侧的阻抗的第一平均值和确...
  • 本发明能够不限制电路部件对电路板的安装密度地调节电路板的翘曲。一种具有电路板的电路装置,包括:支承上述电路板的箱体;和调节由上述箱体支承的上述电路板的翘曲的翘曲调节机构,上述电路板通过其一部分固定于上述箱体而被该箱体支承,上述翘曲调节机...
  • 本发明提供在将弹簧针块嵌插于弹簧针架的嵌插孔而构成的中间连接部件中,能够抑制因弹簧针架与弹簧针块的热膨胀差引起的错位的技术。中间连接部件设置于具有多个第1端子的第1部件与具有多个第2端子的第2部件之间,将第1端子和第2端子电连接,该中间...
  • 本发明提供一种成膜方法和成膜装置。一边从平衡气体供给通路向处理容器内的基板供给平衡气体,一边经由反应气体供给通路向该基板依次供给彼此发生反应的多种反应气体,来层叠反应生成物并形成薄膜,包括:成膜工序,一边连续地供给平衡气体,一边针对多种...