本发明提供基片检查方法、基片检查装置和存储介质。基片检查方法包括：第一步骤，其使保持翘曲量已知的基准基片的保持台旋转，拍摄基准基片的端面；第二步骤，其对第一步骤中获得的拍摄图像进行图像处理，获取基准基片的端面的形状数据；第三步骤，其使保...

本发明提供一种成膜装置和温度控制方法。一种成膜装置，通过蒸镀聚合在被处理基板形成聚合物的膜，所述成膜装置具备载置台、载置台加热器、顶板加热器、控制装置。载置台设置于收容被处理基板的处理容器内，用于载置被处理基板。载置台加热器设置于载置台...

本文的技术包括用于将薄膜沉积到晶片的后侧表面以减少晶片弯曲和晶片变形的处理室。基板支承件提供围绕晶片的底部和/或侧面的环形周边密封，该基板支承件允许大部分基板后侧暴露于处理环境。被支承的晶片将室分成提供不同处理环境的下室和上室。处理室的...

本发明提供真空处理装置和真空处理装置的控制方法。在减压环境下对被处理体进行规定的处理的真空处理装置具有：处理模块，其形成有真空处理室，真空处理室的室内被减压，在真空处理室内对被处理体进行规定的处理；真空搬送模块，其形成有以与真空处理室之...

本发明涉及蚀刻方法、蚀刻装置及存储介质。本发明的课题是提供：在表面部分具有SiGe或Ge、以及Si的基板中，能够抑制对Si的损伤而选择性地蚀刻SiGe或Ge的技术。本发明的蚀刻方法具备如下工序：设置表面部分具有SiGe或Ge、以及Si的...

本发明提供一种半导体装置的制造方法。在半导体装置内形成所期望的形状和大小的空隙。半导体装置的制造方法包括第1层叠工序、调整工序、第2层叠工序、以及加热工序。在第1层叠工序中，在设于基板上且含有第1材料的多个构造物的周围层叠聚合物膜，该聚...

本发明提供检查装置和检查方法。该检查装置用于检查被检查体，其包括：载置被检查体的载置部；设置于载置部的调节温度的温度调节机构；中间连接部件，其位于检查部与探针卡之间，设置有电连接检查部与探针卡的连接件，其中，检查部在其与被检查体之间收发...

本发明提供基片处理装置和基片处理方法。本发明的基片处理装置包括循环管线、过滤器、加热部、供给管线和冷却部。循环管线使处理液循环。过滤器设置在循环管线，用于从处理液中除去异物。加热部设置在循环管线中比过滤器靠下游侧处，用于加热处理液。供给...

本发明提供减少微粒的载置单元和处理装置。载置单元包括：载物台，其载置基板；支承构件，其自载置基板的载置面的背面侧支承载物台；调温构件，其能够调整温度，具有自下表面固定载物台的板部、自板部向下方延伸的轴部以及自板部贯穿轴部且收容支承构件的...

本发明提供检查装置和检查方法。该检查装置进行被检查体的检查，其包括：载置上述被检查体的载置部；设置在载置部的用于调节该载置部的温度的加热部；和位置调节机构，其构成为能够保持载置着被检查体的载置部，并且在电特性检查时进行与被检查体接触的端...

本发明涉及成膜方法及基板处理系统。本发明的课题是提供能够密合性良好地形成低电阻的钨膜的技术。基于本公开的一个方式的成膜方法具备如下工序：在减压状态下在基底上形成含Al膜的工序；和，在前述形成含Al膜的工序之后，在将前述含Al膜不暴露于空...

本发明提供基板载置机构、成膜装置以及成膜方法，能够在成膜装置内高效且均匀地将基板冷却至极低温，并且能够在成膜处理过程中使载置于载置台的基板旋转。基板载置机构具备：载置台，其具有用于载置基板的基板载置面；冷却头，其被设置为与载置台相向，所...

本实用新型涉及一种密封构造以及处理装置。提供一种能够使构成真空容器的构件之间的接合部的气密性提高的技术。本公开的一个方式的密封构造用于对构成真空容器的构件之间的接合部进行密封，具有：内侧密封构件，其配置于所述接合部；以及外侧密封构件，其...

本发明涉及描绘装置和描绘方法。实施方式的描绘装置包括描绘部和维护部。描绘部对沿输送方向移动的工件排出功能液，来对工件进行描绘。维护部在沿输送方向移动到描绘部的下方的状态下，对描绘部的头进行维护。本发明能够减小描绘装置的装置面积。

本实用新型提供一种容易地测量基片温度的基片处理装置，其包括热处理部和温度测量部。热处理部对被平流地输送的基片进行热处理。温度测量部具有测量基片的温度的辐射温度计，并且能够相对于热处理部拆装。另外，温度测量部包括能够相对于上述热处理部拆装...

输送装置保持被薄板化的基板，并且沿着输送所述基板的输送路径移动，其中，该输送装置具有：抓持部，其用于抓持借助带安装有所述基板的框架；引导部，其与所述抓持部一同沿着所述输送路径移动，载置由所述抓持部抓持的所述框架；以及移动机构部，其通过使...

本发明提供一种对基片涂敷含有光学材料的涂敷液的涂敷处理装置，其具有：用于保持基片的保持部；对保持在所述保持部上的基片排出所述涂敷液的涂敷喷嘴；使所述保持部和所述涂敷喷嘴在正交方向上相对地移动的移动机构；和受液部，其设置在所述保持部所保持...

本发明提供基板处理装置和基板处理方法。提高基板的清洗所涉及的处理效率。基板处理装置具有：基板保持部；处理液供给喷嘴，其向保持于基板保持部的基板供给处理液；液体接收杯，其接收供给到基板的所述处理液；处理室，其收纳液体接收杯且在上方具有开口...

本发明涉及基片处理装置和吹扫方法。本发明的一个方式的基片处理装置包括：承载器保管架，其载置收纳基片的承载器；气体供给部，其对载置于上述承载器保管架的上述承载器内供给非活性气体；和控制部，其基于承载器信息、基片信息中至少任意者，控制是否对...

本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置抑制附着于排气路径的沉积物。所述基板处理装置具备处理室、第一气体供给部、排气装置、第一排气管以及能量供给装置。处理室收容被处理基板。第一气体供给部通过向处理室内供给包含第一单体的气体和包含通过与...