检查系统(10)具备：检查装置(30)，其具有用于载置基板(W)的载置台(21)，检查装置(30)用于对载置台(21)上的基板(W)进行检查；调温机构(63)，其用于对载置台(21)进行调温；基板收容部(17a)；温度测定基板等待部(1...

本发明提供一种基板处理系统、基板处理方法以及存储介质，在向分别进行规定的处理的多个处理模块依次顺序地搬送多个基板并对基板实施处理的处理系统中，在处理中途发生了错误的情况下抑制不良基板的产生。基板处理系统具备：具有第一搬送装置和多个处理模...

本实用新型提供一种当在显影处理工序中发生了异常的情况下迅速地使显影处理的进展停止的显影处理装置。所述显影处理装置进行基板的显影，所述显影处理装置具有：载置部，其用于载置所述基板；以及一个以上的紧急用清洗液喷嘴，所述一个以上的紧急用清洗液...

在基板形成吸杂层的吸杂层形成装置具有：基板保持部，其用于保持基板；抛光膜，其用于与保持到所述基板保持部的基板抵接而研磨该基板；基座，其用于支承所述抛光膜，沿着铅垂方向移动自由且旋转自由；以及水供给部，其用于向保持到所述基板保持部的基板供...

本发明提供一种基板处理系统、基板搬送方法以及存储介质，在向多个处理模块依次搬送基板并对基板进行一系列的处理时，能够抑制生产率的下降并且抑制因基板引起的处理结果的不均匀。基板处理系统具备：具有分别进行规定的处理的多个处理模块的处理部；保持...

本发明提供一种处理条件设定方法、存储介质和基板处理系统，本方法包括：利用基板处理系统内的摄像装置拍摄作为条件设定的基准的基准基板，取得基准基板的拍摄图像的工序；利用摄像装置拍摄在现在的处理条件进行了规定的处理的已处理基板，取得已处理基板...

本发明涉及旋风式捕集器，其能够可靠地捕集吸入气体中的粒子，并且防止雾汽的放出。旋风式捕集器(12)具备容器(21)、在容器(21)内形成液膜(40)的液膜形成部(23)、设置于盖部(32)的吸气孔(33)、以及排气管(24b)。吸气孔(...

实施方式所涉及的基板处理装置具备液处理部、摄像部(41)、判定部(19b)以及后处理部。液处理部向基板供给液体来在基板形成液膜。摄像部(41)拍摄形成有液膜的基板的表面。判定部(19b)基于拍摄到的基板的图像，来判定液膜的形成状态是否良...

本发明提供基板处理装置和基板处理方法，能够高精度地变更使基板浸在其中来对基板进行处理的处理液的成分浓度。基板处理装置具备：处理槽，其贮存处理液，该处理液包含第一成分和沸点比所述第一成分的沸点高的第二成分，使基板浸在该处理液中来对基板进行...

本发明提供能够在处理基片时减少气氛调节气体的使用量的技术。本发明的一个方式的基片处理装置具有基片处理部、隔壁部、第一气体供给部和第二气体供给部。基片处理部对基片实施液体处理。隔壁部将从基片被送入的送入送出口到基片处理部的第一空间与第一空...

本发明提供一种等离子体处理装置，其能够减少飞散在处理室内的颗粒。该等离子体处理装置包括处理室、第一部件和第二部件。处理室形成在其中生成等离子体的处理空间，并利用等离子体来处理收纳于处理空间内的被处理体。第一部件具有面向处理空间的第一面，...

本发明提供一种能够容易地改变开口部的形状的技术。本发明的一个方式的溅射装置包括：收纳基片的处理容器；和缝隙板，其将上述处理容器内划分为设置靶材的第一空间和设置上述基片的第二空间，上述缝隙板包括：内侧部件，其具有在板厚方向将该缝隙板贯通的...

本发明提供一种能够自动地进行与搬送中的动作的位置有关的调整的自动示教方法和控制装置。基于本公开的一个方式的自动示教方法是使用搬送装置进行的搬送中的动作的自动示教方法，在所述搬送装置的保持基板的保持部的前端具备具有发光部和受光部的光学传感...

本发明能够抑制齿轮的齿隙所导致的被处理基片的位置偏离。输送装置包括：基座部件、臂和驱动部。基座部件可旋转地设置于输送室内。臂设置于基座部件上，并支承被处理基片。驱动部利用从动力源经由齿轮传递来的动力，使基座部件向第一旋转方向或者作为第一...

本发明涉及基板处理装置、基板处理方法以及存储介质，提供一种在搬送表面形成有液膜的晶圆时能够抑制搬送时间混乱的技术。一个方式的基板处理装置具备多个第一处理部、多个第二处理部、搬送部以及控制部。多个第一处理部对基板实施第一处理。多个第二处理...

本发明提供一种能够缩短基片处理装置在基片输送方向的长度的技术。实施方式的基片处理装置包括可动工作台和工作台移动机构。可动工作台具有能够输送用处理液浸湿了的基片的输送机构。工作台移动机构能够使可动工作台至少在上下方向移动。

本发明提供对处理气体所导致的腐蚀和等离子体的耐久性更优越的喷淋头和等离子体处理装置。在对基片实施等离子体处理的等离子体处理装置中，喷淋头对腔室内供给处理气体，包括：主体部，其具有排出处理气体的多个气体排出孔；和气体扩散空间，其设置于主体...

提供一种成膜方法及成膜装置，其针对至少具有设有槽的绝缘膜的基板上的槽的壁面，将膜厚调整为所需厚度。该成膜方法针对至少具有设有槽的绝缘膜的基板至少供给原料气体以进行成膜处理，其中，一边改变所述原料气体的每单位时间供给量一边进行成膜处理。

基板搬出方法包括以下工序：第一移动工序，在向搬送机构发出开始搬出被载置于载置台的基板的指令从而搬送机构向载置台移动的期间，在基板被从载置台突出的销抬起的状态下，使摄像机移动至应存在基板的周缘部的规定区域的上方；第一摄像工序，使在第一移动...

本发明提供一种经由电子输送层和电子注入层高效地将电子从辅助电极供给到阴极的技术。一种有机EL面板，其包括：以矩阵状形成有多个有机EL元件，有机EL元件按如下顺序具有阳极、发光层、电子输送层、电子注入层和阴极，电子输送层、电子注入层和阴极...