溅射装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够容易地改变开口部的形状的技术。本发明专利技术的一个方式的溅射装置包括：收纳基片的处理容器；和缝隙板，其将上述处理容器内划分为设置靶材的第一空间和设置上述基片的第二空间，上述缝隙板包括：内侧部件，其具有在板厚方向将该缝隙板贯通的开口部；和设置在上述内侧部件的周围的外侧部件，上述内侧部件相对于上述外侧部件是可拆装的。

sputtering equipment

【技术实现步骤摘要】
溅射装置
本专利技术涉及一种溅射装置。
技术介绍
已知一岁使从靶材释放出的粒子入射到基片来进行成膜的溅射装置(例如参照专利文献1)。另外，已知一种溅射装置，其从相对于基片的表面倾斜地配置的靶材对基片放射溅射粒子，使溅射粒子通过设置于靶材与基片之间的缝隙板的开口部而在基片形成膜(例如参照专利文献2)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2008-201647号公报专利文献2：日本特开2015-67856号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题本专利技术提供一种能够容易地改变开口部的形状的技术。用于解决技术问题的技术方案本专利技术的一个方式的溅射装置，包括：收纳基片的处理容器；和缝隙板，其将上述处理容器内划分为设置靶材的第一空间和设置上述基片的第二空间，上述缝隙板包括：内侧部件，其具有在板厚方向将该缝隙板贯通的开口部；和设置在上述内侧部件的周围的外侧部件，上述内侧部件相对于上述外侧部件是可拆装的。专利技术效果依照本专利技术，能够容易地改变开口部的形状。附图说明图1是表示第一实施方式的溅射装置的结构例的截面图(1)。图2是表示缝隙板的结构例的截面图(1)。图3是表示缝隙板的结构例的截面图(2)。图4是表示缝隙板的结构例的俯视图。图5是表示第一实施方式的溅射装置的结构例的截面图(2)。图6是表示第一实施方式的溅射装置的结构例的截面图(3)。图7是用于说明第二实施方式的溅射装置的图。图8是表示图7的溅射装置的气体供给部的一例的图。图9是表示图7的溅射装置的气体供给部的另一例的图。图10是表示图7的溅射装置的气体供给部的又一例的图。图11是用于说明第三实施方式的溅射装置的图。附图标记说明10溅射装置12处理容器14缝隙板14s开口部141内侧部件141a锥形部142外侧部件24靶材28壁部件210、220气体供给部211、221气体排出孔230、240气体供给部S1第一空间S2第二空间W基片。具体实施方式以下，参照附图，对本专利技术的非限定性的例示的实施方式进行说明。在所附的全部附图中，对相同或相应的材料或部件标注相同或相应的附图标记，并省略重复的说明。(第一实施方式)(溅射装置)对第一实施方式的溅射装置的结构例进行说明。图1是表示第一实施方式的溅射装置的结构例的截面图。图2是表示缝隙板的结构例的截面图，是将包含图1所示的溅射装置的缝隙板的一部分放大表示图。图3是表示缝隙板的结构例的截面图，是表示在图2中的点划线III-III处切断的截面的图。图4是表示缝隙板的结构例的俯视图，表示从上方观察时的缝隙板。如图1所示，溅射装置10包括处理容器12、缝隙板14、保持件16、工作台18、移动机构20和控制部80。处理容器12包括主体12a和盖体12b。主体12a具有例如大致圆筒形状。主体12a的上端开口。盖体12b设置于主体12a的上端上，封闭主体12a的上端的开口。在处理容器12的底部形成有排气口12e。排气口12e与排气装置22连接。排气装置22具有例如压力控制装置、减压泵。减压泵可以为例如干式泵、涡轮分子泵。在处理容器12的侧壁形成有开口12p。利用开口12p对处理容器12内送入基片W以及从处理容器12内送出基片W。开口12p由闸阀12g进行开闭。在处理容器12设置有对处理容器12内导入气体的端口12i，来自气体供给部的气体(例如非活性气体)经由端口12i被导入处理容器12内。缝隙板14设置于处理容器12内。缝隙板14在处理容器12的高度方向的中间位置水平地延伸。缝隙板14是通过将分体制造的多个部件组合而形成的。在图1的例子中，缝隙板14是通过将分体制造的内侧部件141和外侧部件142组合而形成的。内侧部件141是大致板状的部件，例如由铝、不锈钢等金属材料形成。在内侧部件141形成有开口部14s。开口部14s在板厚方向(在图中为Z方向)贯通缝隙板14。在溅射装置10中进行成膜时，基片W在开口部14s的下方在水平的一方向即X方向上移动。开口部14s沿水平的另一方向即Y方向延伸地较长，例如如图4所示，在俯视时具有大致矩形形状。Y方向是开口部14s的长度方向，是与X方向正交的方向。开口部14s的Y方向上的中心与成膜时的基片W的Y方向上的中心大致一致。开口部14s的Y方向的尺寸Ly比成膜时的基片W的Y方向的尺寸(最大尺寸)长。开口部14s的Y方向的尺寸Ly优选为成膜时的基片W的Y方向的尺寸(最大尺寸)的1.06倍以上，更优选为1.33倍以上。例如当基片W为直径300mm的晶片时，尺寸Ly优选为320mm以上，更优选为400mm以上。由此，基片W的端部处的膜的绕附性提高，面内均匀性改善。开口部14s的X方向的尺寸Lx比成膜时的基片W的X方向的尺寸(最大尺寸)短。从生产性的观点出发，优选开口部14s的X方向上的尺寸Lx为成膜时的基片W的X方向的尺寸(最大尺寸)的0.16倍以上。内侧部件141相对于外侧部件142是可拆装的。内侧部件141如图2和图3所示，具有锥形部141a、内侧厚壁部141b、薄壁部141c和外侧厚壁部141d。锥形部141a是从内侧去向外侧而板厚变厚的部位。锥形部141a以遍及内侧部件141的整周的方式形成。锥形部141a的水平面与倾斜面之间的角度，能够根据锥形部141a与后述的靶材24之间的位置关系来决定。优选锥形部141a的前端为曲面形状(例如R面形状)。由此，在锥形部141a沉积了膜时，能够抑制在锥形部141a的前端发生膜剥离。内侧厚壁部141b是位于锥形部141a的外侧且具有第一板厚的部位。内侧厚壁部141b沿锥形部141a的外周形成。内侧部件141因形成有内侧厚壁部141b而具有较高的强度。优选内侧厚壁部141b的上表面与锥形部141a的倾斜面的边界部141x为曲面形状(例如R面形状)。由此，能够削减角部，故而在边界部141x沉积了膜的情况下，也能够抑制在边界部141x发生膜剥离。薄壁部141c是位于内侧厚壁部141b的外侧且具有比第一板厚薄的第二板厚的部位。薄壁部141c沿内侧厚壁部141b的外周形成。外侧厚壁部141d是位薄壁部141c的外侧且具有比第二板厚厚的第三板厚的部位。外侧厚壁部141d沿薄壁部141c的外周形成。由此，由内侧厚壁部141b的外侧面、薄壁部141c的上表面和外侧厚壁部141d的内侧面形成遍及内侧部件141的整周的凹部141y。外侧厚壁部141d在长边侧固定于后述的壁部件28的第一部件52，固定部位设定在比基片W靠外侧的位置。另一方面，外侧厚壁部141d在短边侧未固定在壁部件28的第一部件52。换言之，内侧部件141在俯视时与成膜时的基片W不重叠的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种溅射装置，其特征在于，包括：/n收纳基片的处理容器；和/n缝隙板，其将所述处理容器内划分为设置靶材的第一空间和设置所述基片的第二空间，/n所述缝隙板包括：内侧部件，其具有在板厚方向将该缝隙板贯通的开口部；和设置在所述内侧部件的周围的外侧部件，/n所述内侧部件相对于所述外侧部件是可拆装的。/n

【技术特征摘要】
20180626 JP 2018-120503;20180906 JP 2018-1672041.一种溅射装置，其特征在于，包括：
收纳基片的处理容器；和
缝隙板，其将所述处理容器内划分为设置靶材的第一空间和设置所述基片的第二空间，
所述缝隙板包括：内侧部件，其具有在板厚方向将该缝隙板贯通的开口部；和设置在所述内侧部件的周围的外侧部件，
所述内侧部件相对于所述外侧部件是可拆装的。


2.如权利要求1所述的溅射装置，其特征在于：
所述开口部具有大致矩形形状，该大致矩形形状的长边比成膜时的所述基片的所述长边方向的尺寸大，短边比成膜时的所述基片的所述短边方向的尺寸小。


3.如权利要求1或2所述的溅射装置，其特征在于：
所述靶材相对于所述开口部设置在斜上方。


4.如权利要求3所述的溅射装置，其特征在于：
具有在所述开口部的长边侧支承所述内侧部件的壁部件。


5.如权利要求4所述的溅射装置，其特征在于：
所述内侧部件仅在所述开口部的长边侧固定于所述壁部件。...

【专利技术属性】
技术研发人员：武井纯一，曾根浩，铃木直行，居本伸二，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP