靶面磁场强度可调节的旋转阴极制造技术

本实用新型专利技术涉及靶面磁场强度可调节的旋转阴极，其特征在于，包括：靶管，所述靶管具有管腔；冷却水管，所述冷却水管设置于所述管腔内；磁铁组件，所述磁铁组件位置可调整地设置于所述管腔内；调整装置，所述调整装置设置于所述管腔内，用于驱动所述磁铁组件移动以调整所述磁铁组件与所述靶管内壁之间的间隙大小。本实用新型专利技术实用新型专利技术提高耙材的利用率，实现镀膜产品均匀性的要求，节约生产成本。本实用新型专利技术实用新型专利技术可精确简便调节耙面特定区域和沿整根靶材的长度方向磁场强度，可改变局部区域和整根靶管的溅射离子能量和溅射速率，实现要求的溅射工艺。

【技术实现步骤摘要】
靶面磁场强度可调节的旋转阴极
本技术涉及一种布气装置及旋转阴极。
技术介绍
旋转磁控溅射阴极是目前大面积真空镀膜的重要设备之一。旋转磁控溅射阴极的原理是一根表面附有溅射耙材或整根都是溅射耙材的中空管，绕悬挂在管中间静止不动的磁铁阵列旋转，控制工艺过程中的等离子体合理分布，由此耙穿过静止的等离子体区域，并且整个工艺过程中都有耙材溅射。一个理想的旋转磁控溅射阴极需要耙管旋转驱动系统，工艺过程中靶管内部需要冷却水冷却，溅射过程中对旋转的靶管输入电功率，冷却水和真空都需要旋转密封，耙材利用率(高达90％)，这就意味着更长时间的溅射过程和更少的维护；更好的水冷效果可以实现高功率密度溅射。在现有的旋转磁控溅射阴极中，因磁铁组件中磁铁个体之间磁场强度的差异，造成耙面强度不均匀，镀膜产品的均匀性难以得到保证，耙材也因刻蚀不均匀，造成耙材利用率低，现有的旋转磁控溅射阴极耙面磁场强度不可调节或调解机构复杂。
技术实现思路
本技术的目的之一是为了克服现有技术中的不足，提供一种。为实现以上目的，本技术通过以下技术方案实现：靶面磁场强度可调节的旋转阴极，其特征在于，包括：靶管，所述靶管具有管腔；冷却水管，所述冷却水管设置于所述管腔内；磁铁组件，所述磁铁组件位置可调整地设置于所述管腔内；调整装置，所述调整装置设置于所述管腔内，用于驱动所述磁铁组件移动以调整所述磁铁组件与所述靶管内壁之间的间隙大小。根据本技术的一个实施例，所述调整装置与所述磁铁组件螺纹配合；所述调整装置可旋转地设置于所述管腔内。根据本技术的一个实施例，所述调整装置为螺钉，所述螺钉贯穿所述冷却水管，并与所述冷却水管螺纹配合；所述螺钉与所述磁铁组件螺纹配合；所述磁铁组件位于所述冷却水管下方；所述螺钉上设置有第一螺母，所述第一螺母位于所述冷却水管与所述磁铁组件之间。根据本技术的一个实施例，所述调整装置为螺杆，所述螺杆贯穿所述冷却水管，并与所述冷却水管螺纹配合；所述螺杆与所述磁铁组件螺纹配合；所述磁铁组件位于所述冷却水管下方；所述螺杆上套装有双螺母。根据本技术的一个实施例，所述双螺母位于所述冷却水管上方。针对现有技术中的不足，本技术中的一种耙面磁场强度可调节的旋转阴极，可精确简便调节耙面磁场强度，提高耙面磁场强度的均匀性，提高耙材的利用率，实现镀膜产品均匀性的要求。本技术技术调节耙管表面的磁场强度就是通过螺纹机构调节磁铁阵列组件与靶管内表面的间隙B的大小，与现有的许多磁场强度调节方法相比，本技术的方法结构简单，操作方便，调节精度高，提高耙面磁场强度的均匀性。本技术技术提高耙材的利用率，实现镀膜产品均匀性的要求，节约生产成本。本技术技术可精确简便调节耙面特定区域和沿整根靶材的长度方向磁场强度，可改变局部区域和整根靶管的溅射离子能量和溅射速率，实现要求的溅射工艺。附图说明图1为本技术中的旋转阴极结构示意图。图2为图1中的A-A剖视示意图。图3为实施例1中的局部结构示意图。图4为实施例2中的局部结构示意图。具体实施方式以下结合实施例和附图对本技术进一步说明。实施例1如图1、图2和图3所示，靶面磁场强度可调节的旋转阴极，包括阴极安装板10。阴极安装板10上设置有前端头组件12和后端头组件13。靶管1两端分别与前端头组件12和后端头组件13连接。所述靶管1具有管腔11。所述冷却水管2设置于所述管腔11内。所述磁铁组件3位置可调整地设置于所述管腔11内。调整装置设置于所述管腔11内，用于驱动所述磁铁组件3移动以调整所述磁铁组件3与所述靶管1内壁之间的间隙大小。根据本技术的一个实施例，所述调整装置与所述磁铁组件3螺纹配合；所述调整装置可旋转地设置于所述管腔11内。在如图所示的示例中，所述调整装置为螺钉4，所述螺钉4贯穿所述冷却水管2，并与所述冷却水管2螺纹配合；所述螺钉4与所述磁铁组件3螺纹配合；所述磁铁组件3位于所述冷却水管2下方；所述螺钉4上设置有第一螺母5，所述第一螺母5位于所述冷却水管2与所述磁铁组件3之间。本实施例中，旋转第一螺母5后，增大其与冷却水管2之间的距离，再旋拧螺钉4可调整磁铁组件3与冷却水管2之间的间隙，以此可调整靶面磁场强度。实施例2如图4所示，靶面磁场强度可调节的旋转阴极，包括靶管1、冷却水管2、磁铁组件3和调整装置。所述靶管1具有管腔11。所述冷却水管2设置于所述管腔11内。所述磁铁组件3位置可调整地设置于所述管腔11内。所述调整装置设置于所述管腔11内，用于驱动所述磁铁组件3移动以调整所述磁铁组件3与所述靶管1内壁之间的间隙大小。根据本技术的一个实施例，所述调整装置与所述磁铁组件3螺纹配合；所述调整装置可旋转地设置于所述管腔11内。在如图所示的示例中，所述调整装置为螺杆6，所述螺杆6贯穿所述冷却水管2，并与所述冷却水管2螺纹配合；所述螺杆6与所述磁铁组件3螺纹配合；所述磁铁组件3位于所述冷却水管2下方。所述螺杆6上设置有法兰面螺母7。螺母固定块8套装在法兰面螺母7上。螺母固定块8与冷却水管2可拆卸连接，比如通过螺栓、螺钉或销子连接。其余结构与实施例1相同。本实施例中，螺母固定块8用于固定法兰面螺母7，螺母固定块8套住法兰面螺母7时，法兰面螺母7不能转动。拆除螺母固定块8后，通过法兰面螺母7可旋拧螺杆6，进而调整磁铁组件3的位置，增大或减小其与冷却水管2之间的距离B，以此可调整靶面磁场强度。针对现有技术中的不足，本技术中的一种耙面磁场强度可调节的旋转阴极，可精确简便调节耙面磁场强度，提高耙面磁场强度的均匀性，提高耙材的利用率，实现镀膜产品均匀性的要求。本技术技术调节耙管表面的磁场强度就是通过螺纹机构调节磁铁阵列组件与靶管内表面的间隙B的大小，与现有的许多磁场强度调节方法相比，本技术的方法结构简单，操作方便，调节精度高，提高耙面磁场强度的均匀性。本技术技术提高耙材的利用率，实现镀膜产品均匀性的要求，节约生产成本。本技术技术可精确简便调节耙面特定区域和沿整根靶材的长度方向磁场强度，可改变局部区域和整根靶管的溅射离子能量和溅射速率，实现要求的溅射工艺。本技术中的实施例仅用于对本技术进行说明，并不构成对权利要求范围的限制，本领域内技术人员可以想到的其他实质上等同的替代，均在本技术保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
靶面磁场强度可调节的旋转阴极，其特征在于，包括：靶管，所述靶管具有管腔；冷却水管，所述冷却水管设置于所述管腔内；磁铁组件，所述磁铁组件位置可调整地设置于所述管腔内；调整装置，所述调整装置设置于所述管腔内，用于驱动所述磁铁组件移动以调整所述磁铁组件与所述靶管内壁之间的间隙大小。

【技术特征摘要】
1.靶面磁场强度可调节的旋转阴极，其特征在于，包括：靶管，所述靶管具有管腔；冷却水管，所述冷却水管设置于所述管腔内；磁铁组件，所述磁铁组件位置可调整地设置于所述管腔内；调整装置，所述调整装置设置于所述管腔内，用于驱动所述磁铁组件移动以调整所述磁铁组件与所述靶管内壁之间的间隙大小。2.根据权利要求1所述的靶面磁场强度可调节的旋转阴极，其特征在于，所述调整装置与所述磁铁组件螺纹配合；所述调整装置可旋转地设置于所述管腔内。3.根据权利要求2所述的靶面磁场强度可调节的旋转阴极，其特征在于，所述调整装置为螺钉，所述螺...

【专利技术属性】
技术研发人员：文继志，郭江涛，徐和平，
申请(专利权)人：斡兹真空科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31