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北京北方华创微电子装备有限公司专利技术
北京北方华创微电子装备有限公司共有3788项专利
法拉第屏蔽装置及半导体工艺腔室制造方法及图纸
本发明公开一种法拉第屏蔽装置及半导体工艺腔室,所述法拉第屏蔽装置(300)用于屏蔽半导体工艺腔室的射频线圈(200)产生的电场,所述法拉第屏蔽装置(300)包括第一屏蔽板(310)、第二屏蔽板(320)和驱动机构(330),所述第一屏蔽...
晶圆卸载方法及半导体工艺设备技术
本发明公开了一种晶圆卸载方法及半导体工艺设备,该方法包括:向静电卡盘加载反向电压,并向反应腔室内通入不与晶圆反应的工艺气体,使工艺气体电离,用以中和晶圆上的残余电荷;向晶圆的背面通入预设压力的背吹气体,以将晶圆从静电卡盘表面吹起上升至第...
发光器件的制造方法技术
本发明公开了一种发光器件的制造方法,包括:在半导体外延片的表面上沉积透明导电层;利用第一刻蚀气体对透明导电层进行刻蚀,形成预定图案,第一刻蚀气体包括含溴气体;利用第二刻蚀气体对半导体外延片进行刻蚀。本发明能够改善半导体外延片的表面粗糙度...
半导体工艺设备制造技术
本申请公开了一种半导体工艺设备,其中,该半导体工艺设备的密封门驱动机构包括:两机构框架,两机构框架相对设置在腔室密封门的宽度方向的两侧;两轨道,两轨道分别连接在两机构框架之间,且两轨道之间在腔室密封门的长度方向间隔预设距离;至少两第一动...
一种机械手手指结构及传输装置制造方法及图纸
本申请公开了一种机械手手指结构及传输装置,机械手手指结构包括手指本体;至少三个限位结构,设置于所述手指本体的顶面,用于在传输晶圆时从至少三个方向对所述晶圆进行限位,以防止所述晶圆从所述手指本体的顶面滑脱,其中,所述晶圆的圆心位于所述限位...
半导体工艺设备及其框架定位机构制造技术
本申请公开一种半导体工艺设备及其框架定位机构,其中,该框架定位机构用于对半导体工艺设备的框架进行定位,该框架包括至少三个框架支腿,该框架定位机构包括固定座体以及相对固定座体升降及旋转的工装悬臂,固定座体用于与任意一个框架支腿可拆卸地固定...
一种晶圆支撑机构及半导体处理设备制造技术
本申请公开了一种晶圆支撑机构及半导体处理设备,晶圆支撑机构应用于晶圆暂存腔室,包括:升降支架;升降机构,与所述升降支架连接,用于驱动所述升降支架做升降运动;至少两组支撑组件,间隔设置在所述升降支架上,所述支撑组件包括连接部,以及两个与所...
承载装置及半导体反应腔室制造方法及图纸
本实用新型提供一种承载装置及半导体反应腔室,用于半导体工艺腔室,包括:静电卡盘,所述静电卡盘包括绝缘层,绝缘层上设有多个凸起支撑部,所述绝缘层设有贯穿其厚度的针孔和气孔,所述针孔用于和顶针装置配合,以升降晶圆,所述气孔用于和气源连通,以...
一种药液传输系统及半导体清洗设备技术方案
本实用新型公开了一种药液传输系统及半导体清洗设备,涉及半导体技术领域,包括:壳体;药液储存容器,设置在所述壳体内;药液输出管路,与所述药液储存容器连接,所述药液输出管路从所述壳体上部连接至所述半导体清洗设备的主清洗装置,并且通过设置在所...
承载装置和半导体工艺腔室制造方法及图纸
本实用新型提供一种承载装置,设置于半导体工艺腔室中,且用于承载待加工的晶圆,承载装置包括承载盘和设置在承载盘顶部的多个凸起部,凸起部用于支撑待加工的晶圆,承载盘的中心区域设置有多个气孔,多个气孔沿承载盘的周向均匀分布;承载盘的边缘区域还...
机械手制造技术
一种机械手,包括依次连接的传输机构、翻转机构和晶圆夹持机构,传输机构用于带动翻转机构在预定平面内移动,翻转机构包括摆台和转动连接于摆台的翻转臂,摆台用于驱动翻转臂在原始位和翻转位之间转动。传输装置能够带动翻转机构在预定平面内移动,以到达...
冷却装置及半导体工艺设备制造方法及图纸
本申请实施例提供了一种冷却装置及半导体工艺设备,所述冷却装置包括:冷却器,所述冷却器包括第一冷却组件和第二冷却组件;所述第一冷却组件和所述第二冷却组件可拆卸地拼合连接,所述第一冷却组件和所述第二冷却组件之间设有待冷却件容置区;所述第一冷...
半导体工艺设备及其承载装置制造方法及图纸
本申请实施例提供了一种半导体工艺设备及其承载装置。该承载装置包括:托盘、盖板及绝缘层;托盘的上表面设置有多个承载台,用于分别承载多个晶圆;盖板盖合于托盘上,盖板上设置有多个压合部,多个压合部分别与多个晶圆的边缘接触;绝缘层设置于托盘与盖...
掩膜形成方法和半导体器件加工方法技术
本申请公开一种掩膜形成方法和半导体器件加工方法,其包括:在衬底上形成具有图案化沟槽的掩膜层;在所述沟槽内形成嵌段共聚物,其中,所述嵌段共聚物包括形成于所述沟槽的侧壁上的聚苯乙烯嵌段,以及位于相邻所述聚苯乙烯嵌段之间的聚甲基丙烯酸甲酯嵌段...
用于产生等离子体的线圈结构及半导体工艺设备制造技术
本发明提供一种用于产生等离子体的线圈结构及半导体工艺设备,该线圈结构包括至少一个线圈组,线圈组包括第一子线圈组和第二子线圈组,第一子线圈组包括位于垂直于线圈组的轴线的第一平面内的至少一个第一平面线圈,第二子线圈组包括位于平行于第一平面的...
用于产生等离子体的线圈装置及半导体工艺设备制造方法及图纸
本发明提供一种半导体工艺设备中用于产生等离子体的线圈装置及半导体工艺设备,该装置包括线圈结构和用于固定和冷却线圈结构的固定冷却组件,其中,固定冷却组件包括采用绝缘材料制作的固定本体,且在固定本体中形成有冷却空间,线圈结构固定设置在冷却空...
电流检测装置、方法及系统制造方法及图纸
本申请公开了一种电流检测装置、方法及系统,用以解决现有的电流检测装置内部电路复杂、布线难度大且电流检测效果差的问题。包括相互连接的电流检测模块和包括控制器的数据处理模块;电流检测模块包括多个电流检测电路和多个模拟开关;每个模拟开关包括多...
一种数据采集频率确定方法和一种数据采集客户端技术
本发明实施例提供了一种数据采集频率确定方法和一种数据采集客户端,所述方法包括:创建数据采集计划信息,并向所述数据采集服务端发送所述数据采集计划信息;所述数据采集计划信息包括采集开始指令、采集终止指令和数据采集次数;接收所述数据采集服务端...
衬底沟槽刻蚀方法技术
本发明公开了一种衬底沟槽刻蚀方法,包括:在衬底表面形成侧壁倾斜的凹槽;在凹槽的内表面形成保护层;去除凹槽中央区域的保护层,并保留凹槽边缘倾斜侧壁上的保护层;刻蚀衬底,在衬底中形成设定深度的沟槽,同时去除凹槽边缘倾斜侧壁上的保护层并在沟槽...
一种日志处理方法和半导体工艺设备技术
本发明实施例提供了一种日志处理方法和半导体工艺设备,应用于日志组件,该方法包括:当日志组件被应用程序调用以对日志文件进行写日志时,判断待写入日志的生成日期与日志文件的生成日期是否相同;若待写入日志的生成日期与日志文件的生成日期不同,则关...
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