【技术实现步骤摘要】
封装结构及其制造方法
本专利技术涉及一种封装结构及其制造方法,且特别是涉及一种可提升封装空间利用率的封装结构及其制造方法。
技术介绍
现今的电子产品已常见于娱乐、通讯、功率转换、网络、电脑及消费产品的领域。电子产品亦可见于军事应用、航空、汽车、工业控制器、与办公室设备。从系统观点来看,现今的电子产品讲求轻薄短小,使得电子元件与线路的分布密度过高,而使用者对于系统加快处理速度(processingspeed)与缩小尺寸的需求也日益增加,除了需要维持高效能且稳定的质量,更必须节省空间以达到轻薄短小的目的。系统的效能与整个系统架构有关,虽然目前晶片工艺的硅穿孔技术(ThroughSiliconVia,TSV)强调芯片堆叠可有效节省空间与线路长度,但是缩减的线路长度有限,多为毫微米或微米等级。当电子产品的发展日渐趋向微小化的形式,可符合电性上效能稳定的需求且具有较小及较薄体积的封装结构,一直是电子产品设计上的追求。
技术实现思路
本专利技术实施例的主要目的在于提供一种封装结构及其制造方法,其利用基板上的电子元件的高度差异,形成具有凹部的第一覆盖层,而将线路层上移至基板上的至少一个电子元件的上方,可达到微小化与降低成本的效果。本专利技术实施例提供一种封装结构,包括一基板、多个第一电子元件、至少一第二电子元件、一第一覆盖层以及一线路层。基板的一表面上具有一第一元件区域以及一第二元件区域。多个第一电子元件设置于基板的第一元件区域内,所述多个第一电子元件中的至少其中之一具有至少一第一导电接点。所述至少一第二电子元件设置于基板的第二元件区域。第一覆盖层覆盖所述第一元件区域以及第 ...
【技术保护点】
一种封装结构,其特征在于,包括:基板,该基板的表面上具有第一元件区域以及第二元件区域;至少一第一电子元件,设置于该基板的该第一元件区域内,所述至少一第一电子元件中的至少其中之一具有第一导电接点;至少一第二电子元件,设置于该基板的该第二元件区域;第一覆盖层,覆盖该第一元件区域内的至少一第一电子元件以及覆盖该第二元件区域内的至少一第二电子元件,该第一覆盖层具有凹部以及至少一第一裸露区域,该凹部设置于该第二元件区域之上,所述至少一第一裸露区域暴露所述至少一第一导电接点;以及线路层,覆盖至少部分该凹部以及该暴露的至少一第一导电接点,且电性连接至所述至少一第一导电接点。
【技术特征摘要】
1.一种封装结构,其特征在于,包括:基板,该基板的表面包括承载面,该承载面具有第一元件区域以及第二元件区域;至少一第一电子元件,设置于该基板的该第一元件区域内,所述至少一第一电子元件中的至少其中之一具有第一导电接点;至少一第二电子元件,设置于该基板的该第二元件区域;第一覆盖层,覆盖该第一元件区域内的至少一第一电子元件以及覆盖该第二元件区域内的至少一第二电子元件,该第一覆盖层具有凹部以及至少一第一裸露区域,该凹部设置于该第二元件区域之上,所述至少一第一裸露区域暴露所述至少一第一导电接点;以及线路层,覆盖至少部分该凹部以及该暴露的至少一第一导电接点,且电性连接至所述至少一第一导电接点;其中,设置于该第二元件区域上的第二电子元件至该承载面的垂直高度小于设置于该第一元件区域上的第一电子元件至承载面的垂直高度,该第一覆盖层是以模封材料顺形地覆盖该第一元件区域内的第一电子元件与该第二元件区域内的第二电子元件,从而在该第二元件区域之上形成该凹部。2.如权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述至少一第一裸露区域为穿孔,该线路层顺形地覆盖所述至少一第一裸露区域,以通过所述至少一第一裸露区域电性连接至所述至少一第一导电接点。3.如权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述至少一第一裸露区域为穿孔,该线路层填充所述至少一第一裸露区域,以通过所述至少一第一裸露区域电性连接至所述至少一第一导电接点。4.如权利要求1所述的封装结构,其特征在于,该凹部的侧壁与该凹部的底面相交形成夹角,该夹角为90度至135度之间。5.如权利要求1所述的封装结构,其特征在于,该凹部的侧壁为阶梯形状。6.如权利要求1所述的封装结构,其特征在于,该第二元件区域内具有至少一第二导电接点,该第一覆盖层还包括至少一第二裸露区域,所述至少一第二裸露区域暴露所述至少一第二导电接点,而该线路层覆盖该暴露的至少一第二导电接点且电性连接至所述至少一第二导电接点。7.如权利要求6所述的封装结构,其特征在于,该第一覆盖层还包括至少一第三裸露区域,所述至少一第三裸露区域暴露该基板上的至少一接垫,而该线路层覆盖该至少一接垫且电性连接至所述至少一接垫。8.如权利要求6所述的封装结构,其特征在于,所述封装结构还包括:第三元件区域,设置于该凹部上,该第三元件区域具有至少一第三电子元件,所述至少一第三电子元件通过该线路层电性连接至所述至少一第一导电接点;以及第二覆盖层,覆盖所述至少一第三电子元件。9.如权利要求8所述的封装结构,其特征在于,所...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈仁君,张欣晴,
申请(专利权)人:环旭电子股份有限公司, 环鸿科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:上海;31
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