【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版上具有若干掩膜单元，每个掩膜单元上均设置有若干个均匀排列的掩膜图形，且任意两个掩膜单元的掩模图形尺寸或掩膜图形间距不相同。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：闵金华，戴韫青，王剑，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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