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本发明公开了一种掩膜版，应用于新产品的研发工艺中，该掩膜版上具有若干掩膜单元，每个掩膜单元上均设置有若干个均匀排列的掩膜图形，任意两个掩膜单元的掩模图形尺寸或掩膜图形间距不相同。采用本发明的掩膜版，曝光时可通过截取不同的掩膜单元并拼接在一个...
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