半导体封装结构制造技术

技术编号:9371107 阅读:82 留言:0更新日期:2013-11-22 00:00
本实用新型专利技术公开了一种半导体封装结构,包括芯片,所述芯片上设有电极,所述芯片和所述电极上选择性的覆盖有钝化层,所述电极上设有绝缘中空柱状件,所述绝缘中空柱状件表面及位于所述绝缘中空柱状件内部的所述电极表面设有金属层,所述金属层上、所述绝缘中空柱状件内设有第一金属柱,所述第一金属柱上及所述金属层上设有第二金属柱,所述第二金属柱通过焊料层连接铜板,所述钝化层为氧化硅层或氮化硅层。本实用新型专利技术绝缘中空柱状件中的第一金属柱,能够缓解凸点结构和半导体芯片结合点处的应力,解决由于热膨胀不均匀容易引起电极断裂,导致半导体器件失效的问题。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种半导体封装结构,包括芯片,所述芯片上设有电极,所述芯片和所述电极上选择性的覆盖有钝化层,其特征在于,所述电极上设有绝缘中空柱状件,所述绝缘中空柱状件表面及位于所述绝缘中空柱状件内部的所述电极表面设有金属层,所述金属层上、所述绝缘中空柱状件内设有第一金属柱,所述第一金属柱上及所述金属层上设有第二金属柱,所述第二金属柱通过焊料层连接铜板,所述钝化层为氧化硅层或氮化硅层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:施建根王小江顾健
申请(专利权)人:南通富士通微电子股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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