用于生成掩模图案的方法技术

技术编号:9275630 阅读:130 留言:0更新日期:2013-10-24 23:13
公开了一种用于生成掩模图案的方法。一种用于经由计算机生成要用于曝光设备的掩模图案的方法,该曝光设备通过照射掩模来在衬底上对掩模图案的图像进行曝光,该方法包括:获得要被形成在衬底上的主图案的数据以及主图案要被转印到的层的下层的图案的数据,使用所述下层的图案的数据,设置相对于主图案的辅助图案的生成条件,使用该生成条件来确定辅助图案,以及生成包括主图案和所确定的辅助图案的掩模图案的数据。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于经由计算机生成要用于曝光设备的掩模图案的方法,该曝光设备通过照射掩模来在衬底上对掩模图案的图像进行曝光,该方法包括:获得要被形成在衬底上的主图案的数据以及主图案要被转印到的层的下层的图案的数据;使用所述下层的图案的数据,设置相对于主图案的辅助图案的生成条件;使用所述生成条件来确定辅助图案;以及生成包括所述主图案和所确定的辅助图案的掩模图案的数据。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:行田裕一
申请(专利权)人:佳能株式会社
类型:发明
国别省市:

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