本实用新型专利技术公开了一种直接式辉光等效等离子气相沉积装置，包括有设备主体，所述设备主体底端设有电气控制机构，所述设备主体上部一端内设有线圈；本实用新型专利技术设计合理，结构简单，这样就解决了传统等离子工作不稳定状态、物料注入难的问题，同时可以在各种气体下实现自动匹配，另外系统的加热部分可以实现智能温度可调，充分满足各种实验需求。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
:本技术涉及一种气相沉积装置，具体涉及一种直接式辉光等效等离子气相沉积装置。技术背景:PECVD是借助于辉光放电等方法产生等离子体，使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。通过反应气态放电，有效地利用了非平衡等离子体的反应特征，从根本上改变了反应体系的能量供给方式低温热等离子体化学气相沉积法具有气相法的所有优点，工艺流程简单。尽管有许多优点，但仍存在不足，一是经济成本二是技术成熟度，在技术上，等离子体增强化学气相沉积无论是反应装置还是工艺都有待改进和完善。例如，常见的直流等离子体由于电极烧蚀会导致连续工作时间不长，而高频等离子体则热转化效刻氏，工作状态不十分稳定。再如，对于高频等离子体，反应原料的注入方式也是一个十分棘手的难题，液态源或多种混合源注入技术也有待解决
技术实现思路
:本技术的目的是为了弥补已有技术的不足，提供了一种直接式辉光等效等离子气相沉积装置，这样就解决了传统等离子工作不稳定状态、物料注入难的问题，同时可以在各种气体下实现自动匹配，另外系统的加热部分可以实现智能温度可调，充分满足各种实验需求。本技术解决方案如下:一种直接式辉光等效等离子气相沉积装置，包括有设备主体，所述设备主体底端设有电气控制机构，所述设备主体上部一端内设有线圈，所述的设备主体同一端设有接地极法兰，所述设备主体上部另一端内设有实验腔体，所述实验腔体外壁为加热体，所述设备主体同一端设有密封法兰，所述密封法兰上连有一对针式气阀，所述针式气阀顶端设有物料喷射器，所述物料喷射器顶端也设有针式气阀。所述物料喷射器内设有混料腔。其工作原理是:以混料腔内稀薄气体作为载体发射，避免离子以混料腔体稀薄气体为载体对客体放电的弊端，这样可以保证整个实验腔体都是辉光产生区，辉光均匀等效，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，整个腔体都处于直接辉光区，因此很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，物料喷射器上方设有针式气阀，可对物料喷射器充入气氛使罐体内形成气压，将各成分物料在混料腔内混合均匀后喷射到设备主体内，可充入合适的气体使物料喷射器内形成一定的压力，辅助配料，还可以多成分物料配比混合使用，同时装置为宽范围的匹配系统，匹配范围广，可以在各种气体下实现自动匹配，另外系统的加热部分可以实现智能温度可调，充分满足各种实验需求。本技术设计合理，结构简单，这样就解决了传统等离子工作不稳定状态、物料注入难的问题，同时可以在各种气体下实现自动匹配，另外系统的加热部分可以实现智能温度可调，充分满足各种实验需求。附图说明:图1为本技术的剖视图。图2为本技术的结构示意图。图3为设备主体的俯视图。其中:1、设备主体，2、线圈，3、物料喷射器，4、加热体，5、实验腔体，6、接地极法兰，7、电气控制机构，8、密封法兰，9、针式气阀，10、混料腔。具体实施方式:参见附图，一种直接式辉光等效等离子气相沉积装置，包括有设备主体，所述设备主体底端设有电气控制机构，所述设备主体上部一端内设有线圈，所述的设备主体同一端设有接地极法兰，所述设备主体上部另一端内设有实验腔体，所述实验腔体外壁为加热体，所述设备主体同一端设有密封法兰，所述密封法兰上连有一对针式气阀，所述针式气阀顶端设有物料喷射器，所述物料喷射器顶端也设有针式气阀。所述物料喷射器内设有混料腔。以混料腔内稀薄气体作为载体发射,避免离子以混料腔体稀薄气体为载体对客体放电的弊端，这样可以保证整个实验腔体都是辉光产生区，辉光均匀等效，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，整个腔体都处于直接辉光区，因此很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，物料喷射器上方设有针式气阀，可对物料喷射器充入气氛使罐体内形成气压，将各成分物料在混料腔内混合均匀后喷射到设备主体内，可充入合适的气体使物料喷射器内形成一定的压力，辅助配料，还可以多成分物料配比混合使用，同时装置为宽范围的匹配系统，匹配范围广，可以在各种气体下实现自动匹配，另外系统的加热部分可以实现智能温度可调，充分满足各种实验需求。权利要求1.一种直接式辉光等效等离子气相沉积装置，包括有设备主体，其特征在于:所述设备主体底端设有电气控制机构，所述设备主体上部一端内设有线圈，所述的设备主体同一端设有接地极法兰，所述设备主体上部另一端内设有实验腔体，所述实验腔体外壁为加热体，所述设备主体同一端设有密封法兰，所述密封法兰上连有一对针式气阀，所述针式气阀顶端设有物料喷射器，所述物料喷射器顶端也设有针式气阀。2.根据权利要求1所述的直接式辉光等效等离子气相沉积装置，其特征在于:所述物料喷射器内设有混料腔。专利摘要本技术公开了一种直接式辉光等效等离子气相沉积装置，包括有设备主体，所述设备主体底端设有电气控制机构，所述设备主体上部一端内设有线圈；本技术设计合理，结构简单，这样就解决了传统等离子工作不稳定状态、物料注入难的问题，同时可以在各种气体下实现自动匹配，另外系统的加热部分可以实现智能温度可调，充分满足各种实验需求。文档编号C23C16/50GK203034095SQ20132005253公开日2013年7月3日 申请日期2013年1月30日 优先权日2013年1月30日专利技术者孔令杰 申请人:安徽贝意克设备技术有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种直接式辉光等效等离子气相沉积装置，包括有设备主体，其特征在于：所述设备主体底端设有电气控制机构，所述设备主体上部一端内设有线圈，所述的设备主体同一端设有接地极法兰，所述设备主体上部另一端内设有实验腔体，所述实验腔体外壁为加热体，所述设备主体同一端设有密封法兰，所述密封法兰上连有一对针式气阀，所述针式气阀顶端设有物料喷射器，所述物料喷射器顶端也设有针式气阀。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：孔令杰，
申请(专利权)人：安徽贝意克设备技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。