【技术实现步骤摘要】
【专利说明】膨胀式热等离子沉积系统 本申请是2005年3月8日提交的相同专利技术名称的中国专利申请 2〇〇 58〇0138〇7· 8(PCT/US2〇〇5/0〇75〇l)的分案申请。 相关申请 本申请要求于2004年3月9日提交的美国临时申请号60/551，933的利益，所述 临时申请的全部内容在此引入作为参考。 背景 本专利技术总体上涉及用具有均匀性能的涂料涂覆大型基材的系统和方法，更具体地 说，本专利技术涉及膨胀式热等离子沉积。 存在各种各样的技术来用功能性涂料涂覆基材。传统上，使用热化学蒸汽淀积 (CVD)和物理蒸汽沉积例如溅射和蒸发。然而，这些技术要求较高的沉积温度（这限制了 能够被涂覆的基材）并且进一步涉及到非常缓慢的沉积速率。最近，已开发等离子增强化 学蒸汽淀积（PECVD)方法来克服其中的一些限制。PECVD能用来在塑料基材例如聚碳酸酯 上沉积材料，采用CVD在低于所述塑料的玻璃化转变温度的温度下，这通常是不可行的。在 PECVD中，所施加的电场增强了电离物质的形成，这提供了更高百分率的允许使用低沉积温 度（例如低到室温）的电离物质。然而，对于涉及用吸...
【技术保护点】
以总体上均匀的性能涂覆大面积基材的系统，包括：基材位于其中的淀积室，所述腔室维持在负压下；与所述淀积室连接的两个或多个膨胀式热等离子源，每个膨胀式热等离子源包括具有孔的阳极，所述膨胀式热等离子源产生具有中心轴的等离子流；和至少一个注射器，它与所述膨胀式热等离子源分离并将蒸发反应试剂注射到所述等离子中以形成沉积在所述基材上的涂层，所述反应试剂的注射位于距所述膨胀式热等离子源的阳极规定的距离内；其中所述蒸发反应试剂通过位于距所述膨胀式热等离子源的孔为0.1到4英寸半径内的注射孔注射；其中所述注射器是具有许多孔的集流环(ring manifold)、具有许多孔的跑道式集管(rac...
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：C·D·亚科万格洛，T·米巴赫，M·W·梅塞德斯，S·M·加斯沃思，M·R·哈格，
申请(专利权)人：埃克阿泰克有限责任公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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