一种在基片上形成AZO膜的装置制造方法及图纸

一种在基片上形成AZO膜的装置，其特征在于：包括一真空反应系统，包括一真空反应腔；一放电系统，设于真空反应腔内，包括两平行设置的电极板，用以产生等离子体；一电源系统，与所述电极板连接并为电极板供电；一加热温控系统，包括反应源加热台以及衬底加热台；一气体导入系统，与真空反应腔连接并向真空反应腔内导入载气，该载气用以将升华成气态的反应源物质导至设于衬底加热台上的基片表面；一压力测量系统，用以测量真空反应腔内的气体压力变化；以及一抽气系统，与真空反应腔连接并抽吸反应尾气。本实用新型专利技术可在基片上形成厚薄均匀的AZO膜层。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

—种在基片上形成AZO膜的装置
:本技术涉及一种在基片上形成AZO膜的装置。
技术介绍
:现有的AZO膜成型装置，一般采用化学气相沉积法形成AZO膜层(即掺杂氧化锌膜层)，但其形成的AZO膜层，不均匀。故有必要提供一种新的利用等离子体增强化学气相沉积法在基片上形成AZO膜层的装置。
技术实现思路
:本技术的目的在于提供一种在基片上形成AZO膜的装置，其可在基片上形成厚薄均匀的AZO膜层。一种在基片上形成AZO膜的装置，其特征在于:包括一真空反应系统，包括一真空反应腔；一放电系统，设于真空反应腔内，包括两平行设置的电极板，用以产生等离子体；一电源系统，与所述电极板连接并为电极板供电；一加热温控系统，包括设于真空反应腔内的一电极板上的反应源加热台以及衬底加热台，反应源加热台用以对设于其上的反应源物质进行加热使反应源物质升华成气态，衬底加热台用以对设于其上的基片进行加热；一气体导入系统，与真空反应腔连接并向真空反应腔内导入载气，该载气用以将升华成气态的反应源物质导至设于衬底加热台上的基片表面；一压力测量系统，用以测量真空反应腔内的气体压力变化；以及一抽气系统，与真空反应腔连接并抽吸反应本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在基片上形成AZO膜的装置，其特征在于：包括一真空反应系统，包括一真空反应腔；一放电系统，设于真空反应腔内，包括两平行设置的电极板，用以产生等离子体；一电源系统，与所述电极板连接并为电极板供电；一加热温控系统，包括设于真空反应腔内的一电极板上的反应源加热台以及衬底加热台，反应源加热台用以对设于其上的反应源物质进行加热使反应源物质升华成气态，衬底加热台用以对设于其上的基片进行加热；一气体导入系统，与真空反应腔连接并向真空反应腔内导入载气，该载气用以将升华成气态的反应源物质导至设于衬底加热台上的基片表面；一压力测量系统，用以测量真空反应腔内的气体压力变化；以及一抽气系统，与真空反应腔连接并抽吸...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨柳，刘昕，曹林站，
申请(专利权)人：中山市创科科研技术服务有限公司，
类型：实用新型
国别省市：